光起電性貯蔵マシン Multi950
PECVDスパッタリング式真空

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特徴

方法
光起電性, PECVD
技術
スパッタリング式
その他の特徴
真空
応用
レンズ産業用

詳細

密集した足跡、 標準的なモジュール設計、 適用範囲が広い、 信頼できる、 8の部屋、 よいアクセスのための2ドアの構造、 PVD + PECVDプロセス。 設計特微: 1. 柔軟性:アークおよび放出させる陰極、イオン源の取り付けフランジは適用範囲が広い交換のために標準化されます; 2.多様性:母材および合金の変化を沈殿できます;金属および非金属材料の基質の光学コーティング、堅いコーティング、柔らかいコーティング、混合のフィルムおよび固体注油フィルム。 3.簡単な設計:容易な維持のための2ドアの構造、前部及び背部開始。 Multi950機械はR & Dのためのカスタマイズされた倍数機能真空沈殿システムです。教授によって陳加鉛上海大学のチームによって半分年の議論によって私達は最終的に彼等の物を達成するために設計および構成をR & Dの適用確認しました。このシステムはPECVDプロセスの透明なDLCのフィルム、用具の堅いコーティング、および放出させる陰極が付いている光学フィルムを沈殿できます。この試験機械設計の概念に基づいて、私達はそしての後で3つの他の塗装システムを開発しました: 1. 燃料電池の電気車FCEV1213のための両極版のコーティング、 2.陶磁器銅板DPC1215を指示して下さい、 3.適用範囲が広い放出させるシステムRTSP1215。
*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。