化合物半導体ウェーハ(SiC/GaN他)用面取りホール
【製作可能範囲】
粒度仕様 : #400〜#3000 ※複合粒度も可能です
外 径 : 〜202D
内 径 : H6公差(他の公差はご相談ください)
動バランス: ≧0.1g @Min.
溝形形状 : 公差≧0.5度
溝段数 : 〜10溝(溝形状によっては10溝以上も可能)
チッピングの発生率、加工ダメージを抑えるために、独自の砥粒管理を行ったダイヤモンドを使用。
耐摩耗性に優れたボンドの採用により、ホイール形状の寸法維持性が高く、長寿命です。
低炭素社会における省電力化の流れにおいて、パワーデバイスの基板となる化合物半導体ウェーハの生産は着実な伸びが期待されています。その鍵となるのがウェーハの加工コストで、その面取り加工においてもダイヤモンド工具の寿命向上が重要。チッピングを抑えてホイールライフの長寿命化が必要です。
ホイールの長寿命化は、工具の切り替えタクトの短縮、総使用コストの削減等のメリットにつながります。当社のメタルボンド面取りホイールは、SiC(シリコンカーバイド))や GaN(窒化ガリウム)ウェーハ加工用に最適化しており、チッピングを抑え、かつ長寿命を実現します。
切れ味が良く、コストパフォーマンスに優れた電着面取りホイールもご提供致します。