イオンスパッタ源

16cm RFイオンソース 高反応処理用の広範で均一なRFイオン ソース Veecoは、高度に制御される光学コーティングのイオン ビーム アシストまたはイオン ビーム蒸着などの反応処理用に、広範で均一なイオン ビーム ソースを提供しています。 幅広い動作範囲50 から 1500eV および 75 から 700mA 不活性、酸化環境の両方で信頼できる、統一動作 低から高出力動作用に水冷式 4グリッド設計（オプション）で、非常に高いコリメーションを実現 低メンテナンスで、長い生産が可能な業界唯一のフィラメントレスRF中和物が特徴です。 安定した効率の良いプラズマ動作によって、正確な制御と高再現性が可能 バッチおよびロードロック生産プロセスに最適