窒化ケイ素製ボール

粉砕用超小型精密

製品概要
高精度の窒化ケイ素（Si3N4）製研削ボールは、高強度、優れた耐摩耗性・耐食性、電気絶縁性、非磁性を兼ね備えています。低密度で熱安定性が高く、実験室および生産ラインでの要求の厳しい粉砕・分散工程に適しています。

窒化ケイ素研削ボールの特長

• 高硬度で長寿命
• 高温耐性 — 1200℃まで強度と硬度を維持
• 低密度かつ高密実化
• 自己潤滑性、錆びにくい
• 低熱膨張係数で熱衝撃に強い
• 酸・アルカリ環境での耐食性
• 非磁性および電気的絶縁性
• 高温下で金属に付着しにくく、ほとんど反応しない

用途

• 実験室および生産ラインのボールミル、攪拌ミル、振動ミル用の砕磨媒体
• セラミック粉末、磁性材料、非金属鉱物、火薬材料の粉砕・分散
• 製品の高純度や粒度管理が厳しく要求される超微細分散

精密等級と代表的パラメータ

• G3 — 丸み ΔRSw 最大 0.08; 直径許容差 VDws 0.08; 表面粗さ Ra 最大 0.01; ロット内直径許容差 VDwl 最大 0.13
• G5 — ΔRSw 最大 0.13; VDws 0.13; Ra 最大 0.014; VDwl 最大 0.25
• G10 — ΔRSw 最大 0.25; VDws 0.25; Ra 最大 0.02; VDwl 最大 0.5
• G16 — ΔRSw 最大 0.4; VDws 0.4; Ra 最大 0.025; VDwl 最大 0.8
• G20 — ΔRSw 最大 0.5; VDws 0.5; Ra 最大 0.032; VDwl 最大 0.8
• G24 — ΔRSw 最大 0.6; VDws 0.6; Ra 最大 0.04; VDwl 最大 1.2
• G28 — ΔRSw 最大 0.7; VDws 0.7; Ra 最大 0.05; VDwl 最大 1.4
• G40 — ΔRSw 最大 1; VDws 1; Ra 最大 0.06; VDwl 最大 2
• G60 — ΔRSw 最大 1.5; VDws 1.5; Ra 最大 0.08; VDwl 最大 3
• G100 — ΔRSw 最大 2.5; VDws 2.5; Ra 最大 0.1; VDwl 最大 5
• G200 — ΔRSw 最大 5; VDws 5; Ra 最大 0.15; VDwl 最大 10

特性 / 技術仕様

• 材質: 窒化ケイ素 (Si3N4)
• 主要特性: 高強度、耐摩耗性・耐食性、高温安定性、電気絶縁性、非磁性
• 1200℃までの連続高温性能で機械的特性を保持
• 低密度・高密実化・自己潤滑性; 錆や多くの薬品に耐性あり
• 低熱膨張係数で熱衝撃に強い
• 代表的用途: ボールミル、攪拌ミル、振動ミル; セラミック粉末、磁性材料、非金属鉱物、火薬材料の粉砕・分散
• 利用可能な精密等級: G3〜G200（上記パラメータ参照）