CARBOLITE GEROの焼入れ炉

温度: 1,300, 1,100, 1,000, 1,200 °C
容量: 13, 23, 36, 65, 5 l
幅: 375 mm - 780 mm

... CWFシリーズは卓上タイプの研究用汎用チャンバー炉です。最高温度1300℃で、5種類のサイズからお選びいただけます。 CWF-Bではドアに設けられた取り込み口から空気が流入し、煙突が排ガス等を速やかに排気することでサンプルの焼灼を促進します。 CWF-BALは重量計を内蔵しており、加熱中の重量変化変化をモニタリングする必要がある、熱重量測定（TGA）や強熱減量試験（LOI)に最適です。これらはセメント、石灰、焼成ボーキサイト、耐火物内の有機成分の定量化に必要です。有機物を主成分とするサンプルの灰化にはAAF-BALをお勧めします。 標準仕様 標準仕様の温調器は、PID制御301型です。設定温度、昇温速度、設定温度での維持時間を調整することが可能です。 パラレルアクションドアにより高温になったドアの内側がユーザーに向くことはありません 遅延スタート機能/ ...

温度: 1,100, 1,200, 1,000 °C
容量: 13, 23, 5 l
幅: 375, 905, 505 mm

... RWFシリーズは、高速昇温が可能なチャンバー炉で、3つのサイズと最高温度1100℃、1200℃の組み合わせを選択出来ます。 優れたヒーターと高性能断熱材の組み合わせで、高速昇温が可能です。 標準仕様 急速加熱を可能にする放射型コイルヒーター素子を採用 高いエネルギー効率を実現する低熱伝導断熱材 Soft closing, vertical lift door keeps heated surface away from the user 標準仕様の温調器は、PID制御301型です。設定温度、昇温速度、設定温度での維持時間を調整することが可能です。 Soft ...

温度: 1,400, 1,200 °C
容量: 125 l - 725 l
幅: 1,180 mm - 1,480 mm

... 大型チャンバー炉 LCFシリーズは、耐久性のある構造の大型汎用電気炉です。 腐食防止用亜鉛鋼板を用いるなど、長寿命で堅牢な作りとなっています。 電気炉外側のパネルは、効果的な断熱材を組込んだ二重構造のチャンバー壁の効果で、炉使用中においても安全な温度となっています。 1200℃ モデルは極太スパイラル形状のヒーター素子、1400℃ モデルはシリコンカーバイド製ヒーター素子が使用されています。ヒーター素子は、天板と下面に装着され、シリコンカーバイド製タイルヒースで保護されています。 標準仕様 プログラム可能な８セグメント温調器 ...

温度: 1,300 °C
幅: 460, 680, 1,200, 1,700, 4,700 mm
高さ: 530, 590, 690, 2,200 mm

... FST（シングルゾーン）およびFZS（3ゾーン）の分割管状炉は、垂直または水平に使用することができ、最高使用温度は1300℃です。 加熱モジュールが分割されているため、ワークチューブを容易に配置したり、固定式のエンドフランジを持つリアクターの周囲に配置することができます。また、スプリットデザインにより、サンプルの冷却を高速化することができます。ハウジングには冷却チャンネルが設けられており、外部ケースの対流冷却を助けます。スプリットチューブファーネスの上半分にはハンドルが取り付けられており、2つのクイックリリースクランプでファーネスの安全なロック解除とロックができます。 2つの炉の半分はセラミックファイバーモジュールで、断熱材の中に高品質のAPMワイヤー発熱体が取り付けられ、セラミック製の保持リッジで位置が固定されています。安全スイッチは、ファーネスが開かれた時点で発熱体をオフにしてオペレータを保護します。 炉のカスタマイズや管状炉の付属品も豊富に取り揃えています。 アプリケーション例 CIM, ...

温度: 1,700, 1,600 °C
幅: 700, 600, 800 mm
高さ: 700, 800, 1,050, 1,250 mm

... 分割式管状炉, HTRV-Aモデルは、縦置、または横置での使用で最高温度1700℃の熱処理が可能です。 炉心部が分割式で、大きく開閉することが出来るため、作業管や反応装置の装着が容易に行えます。 断熱性が非常に高い軽量の多層断熱材が使用されているため熱効率が良好です。 特別仕様、そして 多種多様のアクセサリー の対応もオプションとして可能です。 アプリケーション例 annealing, pyrolyses, ラピッドプロトタイピング, 乾燥, 合成, 昇華, 炭化, 焼戻し, ...

温度: 2,200, 1,600 °C
容量: 60 l
幅: 2,400 mm

... 金属炉は60リットルの容積で提供されます。HTBL 60 MO/16-1Gの最高温度は1600℃で、モリブデン製の輻射シールドと発熱体を使用しています。HTBL 60 W/22-1Gの最高温度は2200℃で、タングステン製の輻射シールドと発熱体を使用しています。HTBLの金属製バージョンは、最も純粋な雰囲気と最高の作業真空レベルを生成するのに適しています。 HTBLタイプの炉は、搬入・搬出が容易であるという明確な利点があります。ハースが下降すると、サンプルは制限なく全方向からアクセスできます。特にデリケートなサンプルの装填は非常に簡単でユーザーフレンドリーです。また、試料の熱電対を炉内の所定の位置に設置することができます。HTBLではレトルトも使用できます。ローディングエリアの移動は、油圧アームによって完全に自動化されています。ローディングエリアが最も低い位置に到達した後、ユーザーは手動でローディングプラットフォームを外側に90°回転させることができます。 窒素、アルゴン、水素の各ガスは、純ガスまたは混合ガスとして使用できます。ご要望に応じて他のガスを導入することも可能です。炉内では、規定のガス流量を確保するために、わずかな過圧または制御された分圧を使用することができます。空気での運転はできません。 様々な投与装置および制御装置がすべてのガスを制御します。要求される真空度に応じて、真空ポンプは用途に応じて、あるいは要求に応じて特別に構成されます。最高の均一性を実現するために、温度は独立して制御されます。 アプリケーション例 annealing, ...

温度: 2,200 °C
容量: 50, 80, 200 l
幅: 2,400 mm

... HTBLタイプの炉の明確な利点は、装填と取り出しが容易なことです。ハースが下がると、サンプルは制限なく全方向からアクセスできます。特にデリケートなサンプルの装填は非常に簡単でユーザーフレンドリーです。また、試料の熱電対を炉内の所定の位置に設置することができます。HTBLではレトルトも使用できます。ローディングエリアの移動は、油圧アームによって完全に自動化されています。ローディングエリアが最も低い位置に到達した後、ユーザーは手動でローディングプラットフォームを外側に90°回転させることができます。 窒素ガス、アルゴンガス、水素ガスは、純ガスまたは混合ガスとして使用できます。ご要望に応じて他のガスを導入することも可能です。炉内では、規定のガス流量を確保するために、わずかな過圧または制御された分圧を使用することができます。空気での運転はできません。 様々な投与装置および制御装置がすべてのガスを制御します。要求される真空度に応じて、真空ポンプは用途に応じて、あるいは要求に応じて特別に構成されます。最高の均一性を実現するために、温度は独立して制御されます。 アプリケーション例 annealing, ...

温度: 2,200, 1,600 °C
容量: 10, 1.5 l
幅: 1,900 mm

... LHT高温ラボラトリーファーネスシリーズの特徴は、コンパクトなデザインで、研究開発環境の実験室に最適なツールとなっています。 実験炉の円筒状の使用可能空間は、発熱体と断熱材で囲まれています。加熱室は水冷式の容器に組み込まれています。容積が小さいため、LHTは少量のサンプルに最適で、最小限の操作スペースしか必要としません。 システムは、ファーネスとソフトウェア制御を含む電子キャビネットを支える1つのフレームプラットフォームによって支えられています。このプラットフォームにはキャスターが取り付けられており、システム全体を容易に移動させることができます。LHTシリーズは、大学や産業界の研究所など、そのような場所での使用に最適です。 全体の寸法が小さく、操作が簡単なため、温度の均一性や大気の質などの性能を損なうことなく、費用対効果の高いシステムを実現しています。さらに、円筒形のデザインは、過圧の熱処理プロセスに最も適しています。ご要望に応じて、最大100気圧までの安全な過圧操作のために、適切なロック装置と必要なすべての機器を装備することができます。 金属製のLHTモデルは、タングステンまたはモリブデン製の発熱体と放射シールドを備えており、最高温度はそれぞれ2200℃と1600℃です。放射シールドは、発熱体の熱を水冷式容器から遮断する役割を果たします。金属製のLHTシステムは、可能な限り高い大気純度と最高の最終真空レベルを提供します。ターボ分子ポンプとプレポンプを併用することで、作業真空度は高真空領域に達します。ご要望に応じて、超高真空の構成も可能です。 アプリケーション例 annealing, ...

温度: 0 °C - 1,600 °C

... 水素管状炉システムは、好評のHTRH 16/100/600システムをベースにしています。この炉は、水素ガスの安全な取り扱いに必要なすべての規制を満たすように設計されています。 原則として、すべての管状炉は水素を安全に取り扱うために改造することができます。このシステムは、長年の実績を持つHTRH 16/100/600管状炉をベースにしています。このシステムでは、両端に水冷式のリークタイトフランジを備えたセラミックチューブを使用しています。この管状炉は、純水素雰囲気下でも1600℃までの熱処理が可能です。セラミック管には、安全のため、水素ガスを導入する前に自動的に不活性ガスが充填されます。不活性ガスは、高圧の不活性ガスが充填されたフラッディングタンクシステムによって供給されます。熱処理の前に管内に残っている酸素をパージするために、フラッディングタンクは排出され、その後再充填されます。ガス排出システムは、水素を燃焼させるためのアフターバーナに接続されている。 アフターバーナへのガス流入口は、システム内での凝縮物の発生を防ぐために加熱される。アフターバーナは、圧縮空気とプロパンガスで駆動する。アフターバーナは、水素をはじめ、プロセス中に発生するすべてのガス状の副生成物を燃焼させる。 すべてのガスは、完全に自動化されたフローコントローラーによって制御されます。誤動作が検出された場合、システムは直ちに安全な状態になります。すべての機器はSIL2規格に準拠して製造されている。炉の上部には水素センサーが設置されており、水素の漏れが検知されると、センサーが即座に反応します。水素漏れが検出された場合、炉内を不活性ガスで充満させ、システムを安全な状態にします。炉の制御は、直感的で使いやすいタッチパネルのインターフェースでプログラムされています。 すべての管状炉は、水素を使用するためのベースシステムとして機能するため、異なる使用空間と温度が可能です。1800℃以上の水素が必要な場合は、コールドウォール炉を選択する必要があります。 アプリケーション例 annealing, ...