CARBOLITE GEROの真空炉

温度: 1,600, 1,800, 1,700 °C
幅: 390 mm - 1,190 mm
高さ: 510, 620, 670, 720, 680 mm

... 各加熱ゾーンに対して専用の熱電対と温調器が装備されており、システム内の反応に必要なガスを予熱するために特に便利です。 HTRHに作業管は内蔵されていません。作業管は追加アクセサリとして選択します。作業管の長さは用途によって異なり、修飾雰囲気のや 真空の使用・不使用によって変化します。 アプリケーション例 ageing, annealing, calcination, CIM, coating, CVD, MIM, soldering, test fuel ...

温度: 1,600, 1,700, 1,800 °C
幅: 455, 580 mm
高さ: 365, 515, 765 mm

... HTRV高温管状炉は垂直方向に設計されており、最高温度1800℃までの運転が可能です。 ファイバープレートで構成された高品位の断熱材は、その低い熱伝導率により、低エネルギー消費と高い加熱率を実現します。断熱材と二珪化モリブデン(MoSi2)発熱体は長方形のハウジングに設置されています。発熱体は垂直に吊り下げられており、簡単に交換することができます。MoSi2は、高温で酸素が存在すると酸化膜を形成し、熱や化学的な腐食から発熱体を保護します。 HTRV管状炉シリーズは、豊富な付属品により、高温での意欲的な熱処理のための完全なシステムソリューションを提供します。 炉はスタンドなしで提供されるので、お客様は自分の装置に組み込むことができます。オプションの「L」スタンドを使用すれば、炉を自立させることができます。 アプリケーション例 annealing, ...

温度: 1,200 °C
幅: 485, 645, 795 mm
高さ: 575, 780 mm

... 考慮して設計されています。スライドインアクセサリ作業管とアダプタの使用により、単一の炉でさまざまな直径のチューブに対応でき、プロセスの物理的または化学的要件に合わせて作業管自体を簡単に交換できます。オプションの作業管パッケージにより、ユーザーはTSを 真空または修飾雰囲気下の加熱処理に使用することが出来ます。 使用方向 全てのモデルは水平及び垂直に使用することが出来ます。 TS 分割チューブ炉 リーディング ヒート テクノロジー カーボライト・ゲロの新しいチューブ炉は電気炉設計の頂点です ...

温度: 1,300 °C
幅: 460, 680, 1,200, 1,700, 4,700 mm
高さ: 530, 590, 690, 2,200 mm

... FST（シングルゾーン）およびFZS（3ゾーン）の分割管状炉は、垂直または水平に使用することができ、最高使用温度は1300℃です。 加熱モジュールが分割されているため、ワークチューブを容易に配置したり、固定式のエンドフランジを持つリアクターの周囲に配置することができます。また、スプリットデザインにより、サンプルの冷却を高速化することができます。ハウジングには冷却チャンネルが設けられており、外部ケースの対流冷却を助けます。スプリットチューブファーネスの上半分にはハンドルが取り付けられており、2つのクイックリリースクランプでファーネスの安全なロック解除とロックができます。 2つの炉の半分はセラミックファイバーモジュールで、断熱材の中に高品質のAPMワイヤー発熱体が取り付けられ、セラミック製の保持リッジで位置が固定されています。安全スイッチは、ファーネスが開かれた時点で発熱体をオフにしてオペレータを保護します。 炉のカスタマイズや管状炉の付属品も豊富に取り揃えています。 アプリケーション例 CIM, ...

温度: 2,200, 1,600 °C
容量: 8, 25, 80 l
幅: 1,300, 1,900, 2,100 mm

... メタライゼーション, 無炭素雰囲気, 焼結, 金属射出成形（MIM） 商品動画: 真空チャンバー炉, メタル材断熱 - HTK 標準仕様 金属炉では可能な限り高純度（6N以上）の正確に定義された雰囲気を実現できます。 金属炉は高い 真空度を提供できます。 必要に応じて水素分圧運転も可能です。 粉体加熱の為に 真空ポンプの排気速度を正確に制御できます。 品質管理用データ記録 真空チャンバー炉, ...

温度: 2,200 °C
容量: 8 l - 600 l
幅: 1,300, 2,500, 2,300, 2,100, 1,900 mm

... アプリケーション例 シリコン処理, テクニカルセラミックス, 焼結, 熱分解, 黒鉛化 商品動画: 真空チャンバー炉, グラファイト材断熱 - HTK GR 標準仕様 グラファイト炉は製品中で最も高温の温度を実現可能です。 必要に応じて水素分圧運転も可能です。 粉体加熱の為に 真空ポンプの排気速度を正確に制御できます。 品質管理用データ記録 真空チャンバー炉, グラファイト材断熱 ...

温度: 1,350, 1,800 °C
容量: 8 l - 600 l
幅: 1,300, 1,900, 2,300, 2,500 mm

... です。不活性ガスを使用することも可能ですが、雰囲気の質が悪いことを考慮する必要があります。断熱材が多孔質であるため、 真空動作は短時間の大まかな 真空範囲に限定されます。 アプリケーション例 セラミック射出成形（CIM）, 大気中での脱脂, 大気中の焼結 標準仕様 必要に応じて水素分圧運転も可能です。 HTK KEの空気中または100%酸素での動作 粉体加熱の為に 真空ポンプの排気速度を正確に制御できます。 品質管理用データ記録 ...

温度: 1,600, 2,200 °C
容量: 25, 60, 10 l
幅: 2,300 mm

... 範囲で、わずかな過圧または制御された分圧を得ることができます。分圧により、炉内のガス流量を一定に保つことができます。 完全な金属製の設計により、HBO内の最終的な 真空レベルは高 真空領域に達し、5 x 10-6 mbarよりも優れています。必要な 真空度に応じて、異なるポンプステーションで 真空を供給します。ご要望に応じて、超高 真空オプションもご利用いただけます。ガスは、様々な投与装置と制御装置によって制御されます。3つの加熱ゾーンのそれぞれの温度は、最高の均一性を維持するために個別に制御されます。 ...

温度: 1,050 °C
容量: 7.6, 95 l
幅: 1,400, 2,300 mm

... しています。さらに、V-Lは急速冷却が可能で、ユーザーが炉にアクセスしやすいように設計されています。 5 x 10-6 mbar以上の高 真空レベルを実現しています。ガスは様々な注入装置や制御装置によって制御されます。 真空は要求される 真空度に応じて様々なポンプステーションで供給されます。 標準仕様 最高の純度（6N以上）で精密に定義された雰囲気 高い 真空品質 品質管理用データ記録 アプリケーション例 CIM, ...

温度: 2,200, 1,600 °C
容量: 60 l
幅: 2,400 mm

... に応じて他のガスを導入することも可能です。炉内では、規定のガス流量を確保するために、わずかな過圧または制御された分圧を使用することができます。空気での運転はできません。 様々な投与装置および制御装置がすべてのガスを制御します。要求される 真空度に応じて、 真空ポンプは用途に応じて、あるいは要求に応じて特別に構成されます。最高の均一性を実現するために、温度は独立して制御されます。 アプリケーション例 annealing, ...