Han's Laserの精密レーザー光源

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パルスレーザー光源
パルスレーザー光源
HLD-300

出力: 280 W - 320 W
波長: 9.2 µm - 10.8 µm

... 製品
CO₂ レーザー — HLD-300 Series

機械の特徴

  • 統合された外部ビーム整形光学系により、高出力レーザーと高度なビームモードを実現。
  • 準基底ガウスビームを生成し、最小の焦点部径を持つため、超微細な加工痕と狭い熱影響域を実現。
  • プリント基板のマイクロビア加工、フレキシブルPCB処理、精密プラスチック切断、肉(豚)マーキング、3Dプリント関連処理、セラミックのスクライブ&ドリリング、ガラス
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Han's Laser Technology Co., Ltd
パルスレーザー光源
パルスレーザー光源
HLD

出力: 80 W - 200 W
波長: 9.2 µm - 10.8 µm

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用途
携帯電話筐体の表面処理・ 精密加工、プリント基板およびフレキシブルPCBのマイクロビア加工、 精密プラスチック切断、ガラスの切断・クラッディング、革などの非金属材料のマーキング・加工、自動車部品の処理、産業用ロゴの 精密切断など。

仕様 / 技術仕様

  • 製品名称(モデル): HLD Series
  • 製品タイプ:
...

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パルスレーザー光源
パルスレーザー光源
HLW

出力: 70 W - 80 W
波長: 9.2 µm - 10.8 µm

... 概要 CO₂ レーザー HLW Series は、各種非金属材料のマーキング、切断、加工向けに設計された CO₂ レーザー発生器です。高い動作安定性と産業用防塵設計を備え、生産環境に適しています。

機械の特徴

  • 短共振器構造と共振器内ビーム整形システムを一体化し、レーザーの安定性を向上。
  • 準基底円形ガウスビームを使用;出力は300
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パルスレーザー光源
パルスレーザー光源
HLC

出力: 80 W - 200 W
波長: 9.2 µm - 10.8 µm

... 生産ラインへの組み込みが容易

  • 極細加工、熱影響を抑えた処理、精密なエッジ定義に対応
  • 各種レーザーヘッドや加工システムとの高い互換性


  • 用途
    セラミックのト レース、穴あけ、彫刻; プリント基板やフレキシブルPCBのマイクロビア加工; 精密プラスチックの切断・穴あけ; ガラス・アクリルの切断・被覆; ...

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    パルスレーザー光源
    パルスレーザー光源
    HFM-500

    出力: 500 W

    ... の特長

    • HFMシリーズは、さまざまなレーザー加工要件に対応する幅広い平均出力を提供します。
    • HFM-500(500W)は高速マーキングに優れ、レーザー切断やレーザー溶接にも適しています。


    用途
    • 電池の正極・負極タブの切断および洗浄
    • 金属材料の切断および穴あけ
    • 塗装・コーティングのレーザー除去、表面洗浄、サビ除去
    • 薄い金属板のマイクロ溶接<
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    パルスレーザー光源
    パルスレーザー光源
    HFM-HI

    出力: 20 W - 100 W

    ... 、安定した高出力 レーザーを供給します。ガラスの切断・穴あけ、薄い金属板の レーザー穴あけ、薄い陽極酸化アルミ板の剥離など、高いピーク出力を必要とする レーザー加工に適しています。裏面の焦げ跡や変形を抑える加工が可能です。

    用途

    • ガラスの切断・穴あけ
    • 金属材料の切断・穴あけ
    • 薄い陽極酸化アルミ板の表面層剥離(裏面のマークや変形を生じさせない)
    • 脆性材料の加工
    • 材料表面のアブレーション
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    パルスレーザー光源
    パルスレーザー光源
    HFM-K

    出力: 200 W - 350 W

    ... 製品概要
    HFM-K Seriesは、平均出力200–350Wのパルスファイバー レーザーラインであり、高速マーキング、 精密切断、溶接など産業生産向けの各種材料加工に対応します。

    主な特長

    • 200–350Wの範囲で複数の平均出力バリエーションを提供し、生産性要件に応じて選択可能です。
    • 200–300Wのバリアントは高速マーキングに最適化され、薄板の切断や溶接にも適用できます。


    ...

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    パルスレーザー光源
    パルスレーザー光源
    HFQ

    出力: 20 W - 50 W

    ... 式パルスファイバー レーザー HFQ Series 20–50Wは、金属およびプラスチックの工業用 レーザーマーキング・加工向けに設計されています。全密閉構造とアイソ レータ出力を備え、高い逆反射に耐え、生産環境での安定した動作を実現します。

    機械の特徴

    • 工場環境に適した、防塵・防湿の全密閉筐体。
    • 高い逆反射に耐えるアイソレータ出力により、レーザー源を保護。
    • 高いビーム品質と安定したパルス出力により、精密なマーキングや微細穴
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    パルスレーザー光源
    HFM-H

    出力: 20 W - 50 W

    ... コーティング除去、表面洗浄

  • QRコードによるトレーサビリティおよび高速マーキング(フライングマーキング)


  • 特性 / 技術仕様
    • タイプ:パルスファイバーレーザー
    • 平均出力範囲:20–50 W
    • シリーズ:HFM-H Series
    • 主な特長:安定した単発パルスエネルギー;パルス幅・周波数の独立調整;Qスイッチレーザーに対する高いピークパワー;複数の平均出力オプション
    ...

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    パルスレーザー光源
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    NPFL-80IR-1.01

    出力: 80 W
    波長: 1,064 nm

    ... 機械の特長

    • サブナノ秒パルス(0.1–0.2 ns、カスタマイズ可能); 回折限界に近いビーム品質(M2 ≤1.5); 単一パルス最大エネルギー 0.8 mJ
    • オールファイバー光学構成により、安定した出力(出力安定性 ≤3 %/24h)を実現し、半導体・太陽電池分野での加工性能を向上
    • 繰返し周波数 100–2000 kHz(可変)および出力調整範囲 0–100 % によりプロセスの柔軟性を確保
    • コンパクトな設置面積
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