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KLAのエレクトロニクス産業用検査機
{{product.productLabel}} {{product.model}}
{{#if product.featureValues}}{{product.productPrice.formattedPrice}} {{#if product.productPrice.priceType === "PRICE_RANGE" }} - {{product.productPrice.formattedPriceMax}} {{/if}}
{{#each product.specData:i}}
{{name}}: {{value}}
{{#i!=(product.specData.length-1)}}
{{/end}}
{{/each}}
{{{product.idpText}}}
{{product.productLabel}} {{product.model}}
{{#if product.featureValues}}{{product.productPrice.formattedPrice}} {{#if product.productPrice.priceType === "PRICE_RANGE" }} - {{product.productPrice.formattedPriceMax}} {{/if}}
{{#each product.specData:i}}
{{name}}: {{value}}
{{#i!=(product.specData.length-1)}}
{{/end}}
{{/each}}
{{{product.idpText}}}
... プラズマ欠陥 検査装置は、5nm以下のロジックおよび最先端メモリ設計ノード向けに、ウェーハレベルの欠陥発見、歩留まり学習、インラインモニタリングをサポートします。超高分解能深紫外(SR-DUV)波長帯域を生成する光源、低ノイズ・センサ、高度なアルゴリズムにより、3935および3920 EPはユニークな欠陥タイプを高感度で捕捉します。3935には、 検査レシピのセットアップをスケーラブルに拡張するSetup 2.0インフラストラクチャや、低コントラスト層の欠陥感度を向上させる3935光学 検査装置とe-beam ...
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... 29xx Series: DUV/UV/可視波長帯の広帯域プラズマ 検査機。複数プロセス層での感度とSuper•Pixel™モードを提供。
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... 5G、家電、 産業(軍事、航空宇宙、医療)市場向けのチップ製造において、系統的な欠陥発見と潜在的な信頼性欠陥検出を可能にする広帯域プラズマ欠陥 検査装置です。C30x 検査装置は、調整可能な広帯域照明光源、高度な光学系、低ノイズセンサーを活用し、さまざまなプロセス層とデバイスタイプにわたって重要な欠陥を捕捉します。NanoPoint™テクノロジーは、信頼性不良のリスクが高いパターン領域を重点的に 検査し、ダイのアンダーキルやオーバーキルの低減に役立つ実用的な欠陥データを提供します。C30x 検査装置は、システマティック ...
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... システマティック・ノイザス・ビニングの改善、欠陥座標精度の向上により、より実用的な 検査結果を得ることができます。 ラインモニタ、ツールモニタ、ツール認定 2X/1Xnmメモリおよびロジック・デバイスの全ダイ領域で高感度のエ クスカージョン監視を提供します。 28nm以上のメモリおよびロジック・デバイスの全ダイ領域で、高性能のエ クスカージョン監視を提供します。 32nm以上のメモリおよびロジック・デバイスに高性能なエ クスカーション・モニタリングを提供します。 ...
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... クラスター・ツールは4つのモジュールで構成され、ウェーハの全表面をカバーし、効率的なプロセス制御のために高いスループットで並列データ収集を行います。最新世代のCIRCL5システムを構成するモジュールには、前面ウェーハ欠陥 検査、ウェーハエッジ欠陥 検査、プロファイル、計測、レビュー、裏面ウェーハ欠陥 検査とレビュー、前面欠陥の光学的レビューと分類が含まれます。データ収集はDirectedSampling™によって制御されます。DirectedSampling™は、1つの測定結果を使用してクラスタ内の他のタイプの測定 ...
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... Surfscanシステム間のレシピポータビリティを容易にするレシピ管理システム。 1Xnm以下の設計ノードにおけるIC、基板、装置製造のための、DUV感度と高スループットを備えた無パターンウェーハ表面 検査システム。 1XnmデザインノードのIC、基板、装置製造用のDUV感度と高スループットを備えた非パターンウエハ表面 検査システム。 ...
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... 欠陥パレートを作成します。eDR7380によって生成されたデータにより、開発段階での欠陥ソーシングの高速化、エ クスカージョン検出の高速化、製造段階でのより正確で実用的なデータが可能になります。eDR7380が生成する欠陥情報は、複数の基板タイプ(SiC、GaN、ガラス、サファイア、POI(piezoelectric-on-insulator)など)やデバイスタイプ(パワー、LED、フォト ニクス、RF、MEMSなど)の市場投入までの時間を短縮します。柔軟でコンフィギュラブルなプラットフォーム上に構築された ...
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... 。 アプリケーション 製品上オーバーレイコン トロール、インラインモニタリング、スキャナクオリフィケーション、パターニングコン トロール、明視野クリティカルディメンション(CD) 調整可能な光源を備えたイメージングベースのオーバーレイ計測システムにより、≤7nmロジックおよび先端メモリ設計ノードの高精度、高プロセスロバスト、高生産性オーバーレイエラー計測が可能。 先端メモリおよび≤10nmロジック・デバイス用のイメージング・ベース・オーバーレイ・メ トロロジー・システム。 2Xnm/1Xnmデザイン・ノード ...
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... フォトルミネッセンス(PL)と表面 検査を統合したシステムです。地形変化、表面反射率、位相シフト、フォトルミネッセンスをとらえ、広範な注目欠陥(DOI)を自動検出・分類します。このシステムは、2つの入射角における散乱強度を同時に測定する独自の光学技術を採用しています。キャンデラ8520は、GaNウェハの表面およびフォトルミネッセンス欠陥 検査を行い、GaNリアクターの欠陥制御のためにGaNの転位、ピット、ホールを検出・分類します。パワーアプリケーションには、SiCベースの透明ウェハ 検査や、BPD(基底面転位)、 ...
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