Sistemas de posicionamento para salas limpas

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sistema de posicionamento multieixos
sistema de posicionamento multieixos
FSK40G-L

... XYZ Stage Mesa de posicionamento multi-eixo Sistema de pórtico linear Robô cartesiano Características técnicas O guia linear FSL40 é um perfil de alumínio, largura do corpo 40mm, alta estabilidade, estrutura compacta, ...

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FUYU Technology
sistema de posicionamento tipo ponte
sistema de posicionamento tipo ponte
FPB60FBL80IS-M

Repetibilidade: 0,02 mm - 0,1 mm
Carga: 3 kg - 120 kg
Velocidade: 100 mm/s - 4.000 mm/s

... Movimento linear XYZ Estágio Gantry Robot Sistema de guia de posicionamento multieixo Atuador acionado por correia Módulo de fuso de esferas, guia linear accionada por correia, fase de posicionamento, ...

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FUYU Technology
sistema de posicionamento multieixos
sistema de posicionamento multieixos
FTL40-H1

... Parafuso de esferas: G1204/G1605/G1610 Módulo de fuso de esferas, guia linear accionada por correia, fase de posicionamento, controlador de movimento para robô cartesiano. Certificação CE, FCC, RoHS, ISO9001. Enorme ...

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FUYU Technology
sistema de posicionamento com grande abertura
sistema de posicionamento com grande abertura
XY-OF-S300x300-A300x300J

Repetibilidade: 5 µm
Carga: 30 kg
Curso: 300 mm

... Plataformas XY de estrutura aberta concebidas com um perfil baixo para uma vasta gama de posicionamento preciso automatizado em aplicações baseadas em microscópios. O mecanismo de acionamento está localizado na parte lateral da unidade ...

sistema de posicionamento com grande abertura
sistema de posicionamento com grande abertura
F-S300x300-A300x300J

Repetibilidade: 1 µm
Carga: 30 kg
Curso: 300 mm

... Plataformas XY de estrutura aberta concebidas com um perfil baixo para uma vasta gama de posicionamento preciso automatizado em aplicações baseadas em microscópios. O mecanismo de acionamento está localizado na parte lateral da unidade ...

sistema de posicionamento arquitetura empilhada
sistema de posicionamento arquitetura empilhada
VULCANO2

Repetibilidade: 1,5 µm
Carga: 80 kg
Curso: 365 mm

... principais caraterísticas Estabilidade de posição nanométrica Assegura uma precisão de posicionamento exacta durante períodos prolongados. Compatibilidade com salas limpas ISO 2 Adequado para ambientes ...

sistema de posicionamento arquitetura empilhada
sistema de posicionamento arquitetura empilhada
CHARON2HD

Repetibilidade: 1 µm
Carga: 30 kg
Curso: 365, 355, 475, 410 mm

... variedade de configurações predefinidas, desde um eixo X único até um sistema de movimento completo de 6 graus de liberdade (DOF). A escolha da nossa eletrónica padrão torna o sistema CHARON2HD escalável em termos de ...

sistema de posicionamento arquitetura empilhada
sistema de posicionamento arquitetura empilhada
CHARON2

Repetibilidade: 0,3 µm
Carga: 30 kg
Curso: 650, 205 mm

... principais caraterísticas: Estabilidade de posição nanométrica Assegura uma precisão de posicionamento exacta durante períodos prolongados. Compatibilidade com salas limpas ISO2 Adequado para ambientes ...

sistema de posicionamento de 6 eixos
sistema de posicionamento de 6 eixos
MAUKA

Repetibilidade: 0,5 µm
Carga: 0 g - 5.000 g
Curso: 10 mm

... O MAUKA é um hexápode compacto concebido para posicionar cargas úteis até 5 kg com uma resolução submicrométrica. O hexápode MAUKA oferece gamas de deslocação de 10 mm em X e Y, 20 mm em Z e 16° nas três rotações. O seu diâmetro é de 107 mm e a sua altura ...

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SYMETRIE
sistema de posicionamento multieixos
sistema de posicionamento multieixos
782300:150.26

Repetibilidade: 1 µm
Carga: 15 kg
Curso: 200 mm - 1.000 mm

... ACS, integração PLC Opções personalizadas: - Adaptação ao processo, suporte de amostras, cabeça / sensor - Versões para sala limpa ISO 14644-1 (até à classe 1 a pedido) - Rack, isolamento de vibrações, invólucro, conceito ...

sistema de posicionamento para inspeção de wafers e metrologia
sistema de posicionamento para inspeção de wafers e metrologia
KT470-SM

Repetibilidade: 3,3, 2,3 µm
Curso: 200, 305 mm
Velocidade: 20 mm/s

... Este sistema de inspeção consiste no XY-Stage KT470 numa estrutura de granito com uma unidade Z-vertical manual. Esta combinação é adequada para a conceção flexível e modular de sistemas de produção / processos em linha ...

sistema de posicionamento XY
sistema de posicionamento XY
782344:025.26

Repetibilidade: 1,5, 2,5 µm

... resolução dos sistemas de stepper de wafer - Posicionamento simultâneo de lentes umas às outras, bem como umas com as outras, numa distância de viagem de 350 mm - Repetibilidade de 1,5 µm em condições de sala ...

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Steinmeyer Mechatronik GmbH
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