Sistema de posicionamento arquitetura empilhada CHARON2
de 6 eixosde um eixode 3 eixos

sistema de posicionamento arquitetura empilhada
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Características

Número de eixos
de 6 eixos, de um eixo, de 3 eixos, de 4 eixos, de 5 eixos, de 2 eixos, de 7 eixos
Outras características
compacto, arquitetura empilhada

Descrição

A plataforma CHARON2 é construída sobre uma arquitetura robusta, confiável e elegantemente empilhada, projetada com princípios de modularidade e escalabilidade em mente. Parte de um eixo X autônomo até um sistema de movimento completo de até 7 eixos. As folhas de dados de desempenho estão disponíveis com diferentes configurações electrónicas Sua compatibilidade com os módulos e opções atuais e futuros permite a cobertura dos mais amplos espaços de aplicação e casos de uso. Esta plataforma flexível, escalável, modular e atualizável oferece um nível básico para todas as aplicações de semicondutores e muitos casos de uso de outros mercados, por exemplo, médico, farmacêutico, ciência de materiais e outros Em constante evolução em todos os mercados atendidos, a plataforma CHARON2 suporta a extensão da vida útil dos produtos OEM, bem como caminhos de atualização. A sua precisão de posicionamento de ±1 µm, aliada a uma excelente repetibilidade bidireccional e elevada dinâmica, sustenta o desenvolvimento de aplicações em todos os campos tecnológicos e industriais. Características - Curso total : até 650 mm x 410 mm - Disponível em 9 padrões x 2 configurações eletrônicas = 18 configurações como produtos prontos para uso - Pegada compacta - Carga útil até 30 Kg - Opções e características incluídas: aspiração de partículas de trilhos (patente ETEL), sinais personalizados, linhas pneumáticas, e muito mais. - Compatibilidade com salas limpas ISO1 - Correção de inclinação com o módulo combinado Z3TM - Fornecimento de vácuo incorporado ao nível do mandril - Curtos tempos de mudança e liquidação Principais especificações - Precisão de posicionamento: ±1 µm para XY e ±3 arcsec para T - Estabilidade de posição: ±2 nm para XY, ±0,02 arcsec para T e ±3 nm para Z fino - Repetibilidade bidireccional: ±0,4 µm para XY, ±2 arcsec para T e ±0,03 µm para Z fino

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BIEMH 2024
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3-07 jun 2024 Bilbao (Espanha) Hall 6 - Stand C-04

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    * Os preços não incluem impostos, transporte, taxas alfandegárias, nem custos adicionais associados às opções de instalação e de ativação do serviço. Os preços são meramente indicativos e podem variar em função dos países, do custo das matérias-primas e das taxas de câmbio.