Esta plataforma é uma plataforma planar híbrida mecânico/ar do rolamento dedicada para pisar e fazer a varredura de aplicações. É uma plataforma de 6 machados que move-se em sentidos de X, de Y, de Z e de teta. Nivelamento dinâmico sobre o curso completo assim como a repetibilidade bidirecional é parâmetros chaves.
Esta plataforma é usada atualmente dentro:
- Aplicações controles de processos da bolacha tais como a dimensão crítica e a metrologia do filme fino.
- Risco da bolacha
- Recozimento térmico do laser da bolacha
Pôde igualmente ser usado no back-end da linha máquinas da litografia (alinhadores da máscara) e em alguma aplicação de corte em cubos da bolacha.
Esta plataforma caracteriza:
- Nivelamento do movimento dado pelo rolamento de ar
- Rotação ilimitada na teta
- Integração dobro de Z: Curso grosseiro para carregar/que descarrega e curso fino para o adjustement do foco
- Buit-no compensador da gravidade em Z (patente pendente)
- A correção da guinada pode ser feita levemente deslocando os motores Y1 e Y2
- Pode mais ser integrado com um sistema ativo do isolamento controlado inteiramente por ETEL
- Os cursos em X e em Y podem ser feitos mais por muito tempo com algumas limitações no desempenho
Especificações principais:
- Curso total: 320 milímetros para X12 XY milímetro para Z
- Velocidade: 1,2 m/s para XY, 0,1 m/s para Z e 15,7 rad/s para T
- Aceleração: 1,2 g para XY, 0,2 g para Z e 104,7 rad/s2 para T
- Estabilidade da posição: ±25 nanômetro para XY, arcsec ±15 nanômetro para Z e ±0.2 para T
- Repetibilidade bidirecional: µm ±0.4 para XY, µm ±0.3 para Z e arcsec ±2 para T
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