Magnetron pulsado HiPIMS

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A pulverização por magnetrão de impulsos de alta potência (HiPIMS) é um avanço relativamente recente na tecnologia de pulverização por impulsos, que utiliza impulsos de duração curta e energia muito elevada para gerar uma descarga de plasma que ioniza uma grande percentagem dos átomos pulverizados. O fluxo ionizado pode então ser orientado para um maior controlo das propriedades do revestimento. No HiPIMS, é aplicada ao alvo de pulverização uma tensão de pico elevada e uma densidade de corrente elevada, sob a forma de impulsos de duração relativamente curta, com frequências igualmente baixas e longos intervalos de tempo entre ciclos. As durações dos impulsos situam-se tipicamente na gama dos 50 a 200 microssegundos, com frequências na gama dos 500 hertz, enquanto o tempo entre ciclos pode ser tão curto quanto algumas centésimas de segundo. Isto permite um ciclo de trabalho baixo, na ordem dos 10%, o que minimiza o aquecimento, mantendo simultaneamente a estabilidade do processo. Existem várias vantagens em utilizar a tecnologia HiPIMS para alterar a morfologia e a estrutura dos filmes resultantes. Propriedades como a densidade, a dureza, a topografia da superfície, o índice de refração e a adesão podem todas ser modificadas e melhoradas através do processo HiPIMS. A Angstrom Sciences desenvolveu uma série de cátodos de pulverização capazes de suportar estas densidades de potência extremas para aplicações de produção contínua de longa duração. Juntamente com o nosso sistema patenteado de arrefecimento turbulento do alvo, os cátodos de pulverização por magnetrão de impulsos de alta potência da Angstrom Sciences incorporam canais de arrefecimento adicionais no corpo do ânodo e nas flanges de montagem, para manter um arrefecimento ideal durante o funcionamento do processo.