Máquina de deposição PVD HD500

Visão geral do produto
O HD500 baseia-se numa plataforma de tecnologia de revestimento composta que integra pulverização por magnetron de alta ionização (HiPIMS) e deposição por arco multi-arco num único enquadramento de processo. Produz filmes finos versáteis para materiais de difícil revestimento, como aço inoxidável e ligas de titânio, contribuindo para aumentar a vida útil dos componentes. O sistema é adequado para produção em pequena escala e desenvolvimento de processo.

Vantagens principais

• Gravação lateral com fonte iónica de filamento quente: proporciona gravação lateral uniforme, controle de saliências e manutenção simplificada.
• Pulverização magnetron HiPIMS composta: magnetrons DC + HiPIMS alcançam elevadas taxas de deposição e fornecem a energia iónica necessária para elementos refratários (Nb, B, C, W, V) e uma ampla gama de materiais.
• Fonte multi-arco otimizada por plasma: três grupos de seis alvos circulares multi-arco com ignição de arco oculta para operação fiável e manutenção fácil; permite deposição multi-elemento e multicamada com superfícies de filme suaves e alta utilização dos alvos.
• Múltiplas plataformas de deposição num único equipamento: DC MS + HiPIMS MS + deposição iónica multi-arco suportam processos de revestimento simples, compostos e mistos no mesmo lote.

Parâmetros do produto
Nome: HD500
Tecnologia de revestimento: Tecnologia de revestimento composta (pulverização de alta ionização + composto por arco)
Gravação: Fonte iónica lateral (filamento quente)
Fontes multi-arco (número): 6
Cátodos magnetron (número): 1
Tamanho do equipamento (mm): 3400 × 1600 × 2600
Volume da câmara (m³): 0.7
Área efetiva de revestimento (mm): Φ410 × 400
Temperatura máxima de trabalho (°C): 700
Capacidade de carga (número de arvores): 5
Carga de pastilhas (APMT1135): 6000 pcs
Capacidade de pastilhas em barra (D4*50L): 1800 pcs
Peso máximo carregado (kg): 300
Diâmetro do eixo: Φ130
Tempo de processo (AlTiN): 6-8 h

Especificações técnicas

• Modelo / Série: HD500 (Série HD)
• Tecnologia de revestimento: Pulverização composta de alta ionização + arco
• Método de gravação: Fonte iónica lateral (filamento quente)
• Fontes multi-arco: 6 (3 grupos de 6 alvos circulares)
• Cátodos magnetron: 1
• Dimensões do equipamento: 3400 mm × 1600 mm × 2600 mm
• Volume da câmara: 0.7 m³
• Área efetiva de revestimento: Φ410 × 400 mm
• Temperatura máxima de trabalho: 700 °C
• Capacidade de carga: 5 arvores
• Carga de pastilhas (APMT1135): 6000 pcs
• Capacidade pastilhas em barra (D4*50L): 1800 pcs
• Peso máximo carregado: 300 kg
• Diâmetro do eixo: Φ130
• Tempo de processo típico (AlTiN): 6-8 h