Máquina de deposição PVD HD800

Máquina de deposição PVD - HD800 - GUANGDONG HUASHENG
Máquina de deposição PVD - HD800 - GUANGDONG HUASHENG
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Características

Método
PVD

Descrição

Visão geral do produto
O HD800 é o equipamento PVD híbrido de nova geração da Huasheng, desenhado para fabricantes de ferramentas de corte e utilizadores industriais que exigem qualidade de revestimento consistente, maior capacidade por lote e desenvolvimento de processo flexível. Com base na plataforma tecnológica composta da Huasheng, o HD800 integra arc ion plating, sputtering por magnetron DC e HiPIMS num único sistema, produzindo revestimentos densos, com forte adesão e baixa formação de gotas em materiais difíceis de usinar como aço inoxidável, ligas de titânio, aços endurecidos e aços de alta liga.

Principais benefícios
  • Forte adesão do revestimento: arc ion plating combinado com fonte iónica lateral e ataque por filamento quente melhora a ligação filme-substrato para ferramentas de corte e peças de desgaste.
  • Superfície do revestimento lisa: HiPIMS e sputtering magnetron reduzem gotas e garantem acabamentos mais limpos e suaves.
  • Alta densidade do revestimento: o processo de deposição híbrido suporta microestruturas densas e maior resistência ao desgaste.
  • Desenvolvimento de processo flexível: suporta arc, magnetron DC (MS), HiPIMS MS, deposição composta e métodos de revestimento misto numa única plataforma para produção e I&D.

Aplicações
  • Produção e I&D de revestimentos para ferramentas de corte, pastilhas CNC, brocas, fresas, machos, componentes de moldes e peças resistentes ao desgaste.

Recursos HD800
  • Volume da câmara: 1 m³
  • Capacidade de carga: 10 árvores por lote
  • Área efetiva de revestimento: Φ650 × 400 mm
  • Capacidade híbrida Arc + HiPIMS
  • Fonte iónica lateral e ataque por filamento quente
  • Projetado para operação industrial estável, produção e I&D de processos

Características / Especificações técnicas
  • Modelo: HD800
  • Tecnologia de revestimento: plataforma composta híbrida (arc ion plating, sputtering magnetron DC, HiPIMS)
  • Gravação/ataque: fonte iónica lateral / filamento quente
  • Fontes multi-arc: 6
  • Cátodos magnetron: 1
  • Dimensões do equipamento: L3750 × W2400 × H2500 mm
  • Temperatura máxima de trabalho: 600°C
  • Capacidade de carregamento: 10 árvores por lote
  • Carga de pastilhas: ~12.000 pcs (ex.: pastilhas APMT1135)
  • Carga de brocas: ~3.600 pcs (ex.: brocas D4 × 50L)
  • Peso máximo de carregamento: 300 kg
  • Diâmetro do eixo: Φ130
  • Área efetiva de revestimento: Φ650 × 400 mm
  • Tempo de processo (ex.): AlTiN: 6–8 h

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