Máquina de deposição por pulverização catódica com magnetron VTC-600-2HD DC/RF

de metalização

O VTC-600-2HD é um sistema de pulverização catódica por magnetrão com duas fontes de alvo: 1) fonte DC para revestimento de material metálico numa cabeça e 2) fonte RF para revestimento de material não metálico na outra cabeça. Está equipado com um rastreador de espessura de película para permitir ao utilizador monitorizar facilmente o progresso do revestimento e também registar os dados. Este modelo foi sofisticadamente concebido para o revestimento de camadas de película simples ou múltiplas de uma vasta gama de materiais de substrato (ferroelétrico, condutivo, liga, semicondutor, cerâmica, dielétrico, ótico, óxido, duro, PTFE e etc.). O seu tamanho compacto e a facilidade de utilização fazem dele um sistema de revestimento ideal para utilização em laboratórios de I&D. Potência de entrada - 220VAC 50/60Hz, monofásico - 2000W (incluindo bomba) Fonte de energia - Duas fontes de energia de pulverização catódica estão integradas numa caixa de controlo - Fonte DC: 500W para revestimento de materiais metálicos - Fonte de RF: 600 W com ajuste automático para revestimento de materiais não metálicos - A fonte RF compacta 300 está disponível a um custo adicional Cabeça de pulverização de magnetrões - Estão incluídas duas cabeças de pulverização de magnetrões de 2" com camisas de arrefecimento a água (clique na imagem à esquerda para ver as especificações detalhadas) - Um está ligado à fonte de alimentação RF para materiais não condutores - Outro está ligado à fonte de alimentação de pulverização catódica DC para revestimento de materiais metálicos - Tamanho do alvo requerido: 2" de diâmetro - Espessura máxima de 1/16" para alvos metálicos - Espessura máxima de 1/4" para alvos não condutores - Um alvo de aço inoxidável e um alvo de cerâmica Al2O3 estão incluídos para testes de demonstração