Sistema de posicionamento de 3 eixos 782462:002.26

linearpara a indústria dos semicondutorespara manipulação de wafers

Maximização do rendimento no menor espaço de construção possível Este sistema de posicionamento de alta precisão foi especificamente concebido como um filtro de polarização complementar para miniaturização e automatização na litografia EUV. Maximiza a qualidade de exposição bem como o rendimento de um pisador de bolacha existente num espaço muito limitado de cerca de 120 x 180 x 31 mm. Para este fim, três filtros posicionáveis independentemente são deslocados na trajectória do feixe do sistema óptico. Pode ser utilizado para processos de alta resolução sob condições ambientais extremas, tais como EUV e uma atmosfera seca e isenta de oxigénio puro nitrogénio. Optimização da precisão em ambientes extremos - Ideal para miniaturização na litografia automatizada EUV - Maximiza o rendimento e a resolução dos sistemas de stepper de wafer existentes no menor espaço (aprox. 120 x 180 x 31 mm) - Precisões até 1,5 µm sob as condições ambientais mais extremas: EUV, atmosfera seca, sem oxigénio, de azoto puro - Funcionamento livre de manutenção e flexível 24/7 durante muitos 1.000 ciclos de posicionamento, distribuídos ao longo de 10 anos Opcionalmente expansível: - Viagens diferentes - Selecção do material e lubrificação a vácuo adaptada à aplicação - Soluções individuais para integração na aplicação específica do cliente - Versão para sala limpa ISO 14644-1 (até à classe 1 a pedido)