掃除用溶媒
電子機器用エッチング残渣用

掃除用溶媒 - Fujifilm NDT Systems/富士フイルム - 電子機器用 / エッチング残渣用
掃除用溶媒 - Fujifilm NDT Systems/富士フイルム - 電子機器用 / エッチング残渣用
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特徴

機能
掃除用
応用
電子機器用, エッチング残渣用

詳細

広範囲にわたる特殊および独自のエッチング液ブレンド 富士フイルムは、幅広い希釈フッ化水素(HF)比率、界面活性剤あり/なしのBuffered Oxide Etchants(BOE)、Mixed Acid Etchants(MAE)、特殊金属エッチング液を提供しています。 製品ラインアップ Buffered Oxide Etchants(BOE) 富士フイルムは、狭いアッセイ仕様範囲でBuffered Etchantを正確にブレンドするための高度な機能を備えており、複数の NH4F:HF 比で利用可能です。 SiO2膜のエッチングに利用 事前拡散および事前金属化表面処理として利用 高純度49%フッ化水素酸と高純度40%フッ化アンモニウムを配合 界面活性剤の有無にかかわらず利用可能 希釈フッ化水素 狭いアッセイ仕様範囲で希釈フッ化水素を正確にブレンドする高度な機能を備えています。 Freckle Etch Al-Si-銅層のエッチング後に残った残留Siノジュールの除去用 特殊金属エッチング液 特定の金属層を選択的に除去するために、富士フイルムは次のようなさまざまな特殊エッチング液を提供しています。 特殊Alエッチング液: Alメタライゼーション層用の浸漬エッチング液 -富士フイルムのAlエッチング界面活性剤(AES)カスタムエンジニアリングの有無にかかわらず利用可能

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*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。