PECVD貯蔵マシン DLC1500

概要
DLC1500は、産業向け大量生産を目的とした大容量DLC成膜装置です。マグネトロンスパッタリング（MS）とPECVD技術を組み合わせ、低摩擦で耐摩耗性のあるCr/WC/a-C:H系DLC膜を、滑らかな表面品質と安定した付着性で成膜します。チャンバー容量2 m³、有効成膜面積の拡大、最大搭載重量1000 kgにより、高い生産量と安定したバッチ成膜を必要とするメーカーに適しています。

主な利点

• 工業用バッチ処理向けの大容量生産
• 低摩擦で耐摩耗性のあるCr/WC/a-C:H DLC膜
• プラズマ洗浄、遷移層堆積、DLC層堆積による均一な膜質と信頼性の高い付着性
• 自動プロセス制御、大型チャンバー、および高い搭載能力による安定した連続生産

DLC1500の特長

• 代表的な膜厚：2–4 μm
• 膜の硬さ：約2500 HV
• 大面積成膜
• 安定したバッチ生産
• 低摩擦係数

製品パラメータ（表）
Model No.: DLC1500
Coating Technology: MS + PECVD
Etching: SET
Dimension: L4900 × W2000 × H2750 mm
Chamber volume: 2 m³
Effective Coating Area: Φ940 × 1000 mm
Coating Deposition Temperature: <200°C
Capacity: Made-to-order
Max Loading Weight: 1000 kg
Spindle Diameter: Max. Φ350 mm
Processing Time: 6–8 h

特性 / 技術仕様

• Model No.: DLC1500
• Coating Technology: MS + PECVD（magnetron sputtering + PECVD）
• Etching: SET
• 寸法（L × W × H）：4900 × 2000 × 2750 mm
• チャンバー容積：2 m³
• 有効成膜面積：Φ940 × 1000 mm
• 成膜温度：<200°C
• 代表的な膜厚：2–4 μm
• 膜の硬さ：約2500 HV
• 最大搭載重量：1000 kg
• 主軸径（最大）：Φ350 mm
• 処理時間：バッチあたり6–8時間
• 能力：受注生産／カスタマイズ可能（ワークサイズ、積載方法、治具設計、成膜要件、生産能力、工場レイアウト）