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- レーザー回折による粒度分析器
- JINAN WINNER PARTICLE INSTRUMENT STOCK COMPANY
レーザー回折による粒度分析器 Winner2309C WinModule-201光学式レーザー回折による静的光散乱
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特徴
- 技術
- レーザー回折による, 光学式, 静的光散乱
- 応用
- 実験用, 研究用, 品質管理用, 製薬産業用, 食品産業用
- その他の特徴
- 自動, ウェット タイプ, マルチチャンネル, 高性能, 粉末用, 卓上
詳細
製品概要
Winner2309C WinModule-201 は、Mie 散乱とフラウンホーファー回折に基づくインテリジェントな全自動湿式分散レーザー粒度分布測定器です。高感度光電プローブシステムと輸入 Canon レンズを用いた光学系により、粒度分布の高精度・高再現性測定を実現します。産業の品質管理、研究機関、大学実験室、企業の R&D センターでの利用に適しています。
主な仕様（一般）
型式：Winner2309C WinModule-201
原理：Mie 散乱およびフラウンホーファー散乱
測定速度：最短 10 秒
屈折率：広範な屈折率を入力可能
サンプリング周波数：最大 10 kHz
外形寸法：本体 870×340×380 mm；湿式モジュール 415×280×335 mm
質量（正味）：本体 32 kg；湿式モジュール 15 kg
操作モード：SOP 全自動、一括ワンクリック操作によりワークフロー完了
測定粒径
測定範囲：0.01–2000 μm
サンプルインジェクタ：WinModule-201
チャネル数：106 チャネル
精度誤差：≤0.5%（CRM D50）
再現性誤差：≤0.5%（CRM D50）
分散方法：超音波（40 kHz、60 W、時間調整可）；機械撹拌（0–3000 rpm）；循環分散（流量 1–8 L/min、定格出力 120 W）；湿式では超音波・機械撹拌・内蔵循環を組合せて分散
サンプルタンク容量：600 ml
光学系
光源：主レーザー λ = 639 nm, P > 2 mW；補助レーザー λ = 405 nm, P > 2 mW
光学基板アライメント：自動アライメントシステム搭載
光路：逆フーリエ（折り畳み光路）
レーザー安全：クラス 1
ソフトウェア機能
解析モード：自由分布、R–R 分布、対数正規分布および分類別統計モデル
統計比較：ロット間や処理時間別の複数結果を比較し、品質管理やコスト指標に活用
データ処理：知能的統計解析により代表的な測定結果を出力
カスタム解析：D1〜D100 の任意指標粒径、指定サイズ以上/以下の累積率、業界要件に合わせた範囲出力可能
出力：代表粒径、微分（区間）分布データとグラフ、累積（積分）分布曲線
レポート：Word、Excel、画像（.bmp）、テキスト（.txt）、PDF で出力可能
ワンクリック操作：給水、脱気、分散、測定、洗浄、データ処理を自動実行
インターフェース言語：中国語・英語（他言語は要求に応じ追加可能）
GMP：オプション
利点
用途
特許技術
光学基板設計、3次元光学基板アライメントシステム、Mie 散乱の応用、乾式分析用の密閉サンプルキュベット、直交二重レーザービーム、粉体分散ポンプ設計、湿式循環装置等は複数の特許で保護されています。
技術仕様
Winner2309C WinModule-201 は、Mie 散乱とフラウンホーファー回折に基づくインテリジェントな全自動湿式分散レーザー粒度分布測定器です。高感度光電プローブシステムと輸入 Canon レンズを用いた光学系により、粒度分布の高精度・高再現性測定を実現します。産業の品質管理、研究機関、大学実験室、企業の R&D センターでの利用に適しています。
主な仕様（一般）
型式：Winner2309C WinModule-201
原理：Mie 散乱およびフラウンホーファー散乱
測定速度：最短 10 秒
屈折率：広範な屈折率を入力可能
サンプリング周波数：最大 10 kHz
外形寸法：本体 870×340×380 mm；湿式モジュール 415×280×335 mm
質量（正味）：本体 32 kg；湿式モジュール 15 kg
操作モード：SOP 全自動、一括ワンクリック操作によりワークフロー完了
測定粒径
測定範囲：0.01–2000 μm
サンプルインジェクタ：WinModule-201
チャネル数：106 チャネル
精度誤差：≤0.5%（CRM D50）
再現性誤差：≤0.5%（CRM D50）
分散方法：超音波（40 kHz、60 W、時間調整可）；機械撹拌（0–3000 rpm）；循環分散（流量 1–8 L/min、定格出力 120 W）；湿式では超音波・機械撹拌・内蔵循環を組合せて分散
サンプルタンク容量：600 ml
光学系
光源：主レーザー λ = 639 nm, P > 2 mW；補助レーザー λ = 405 nm, P > 2 mW
光学基板アライメント：自動アライメントシステム搭載
光路：逆フーリエ（折り畳み光路）
レーザー安全：クラス 1
ソフトウェア機能
解析モード：自由分布、R–R 分布、対数正規分布および分類別統計モデル
統計比較：ロット間や処理時間別の複数結果を比較し、品質管理やコスト指標に活用
データ処理：知能的統計解析により代表的な測定結果を出力
カスタム解析：D1〜D100 の任意指標粒径、指定サイズ以上/以下の累積率、業界要件に合わせた範囲出力可能
出力：代表粒径、微分（区間）分布データとグラフ、累積（積分）分布曲線
レポート：Word、Excel、画像（.bmp）、テキスト（.txt）、PDF で出力可能
ワンクリック操作：給水、脱気、分散、測定、洗浄、データ処理を自動実行
インターフェース言語：中国語・英語（他言語は要求に応じ追加可能）
GMP：オプション
利点
- 自動光路アライメント：マイクロメートル級の位置決めを行う高精度ハイブリッドステッピングモータにより、最適な光路を維持し精度と安定性を確保します。
- 高安定性循環分散：連続かつ均一な湿式循環が沈降と凝集を防ぎ、超音波と循環の協調制御で再現性を向上します。
- 自動サンプル分散：モジュール式の湿/乾分散設計により配管長を短縮し、大粒子の沈降を抑え、保守コストを低減し清掃を容易にします。
- 高度な解析ソフト：拘束のないフリーフィッティングで測定中の散乱データを収集し、多峰性粒子群を自動解析；2 μm 未満は12級で高分解能に検出可能。
- 光路設計：特許取得の逆フーリエ（折り畳み光路）により 0.015–145° の測定角範囲を実現し、測定範囲と分解能を拡張；光路は密閉防塵構造。
用途
- セメント
- セラミックス
- 医薬品
- 乳濁液
- 塗料
- 顔料・染料
- 繊維仕上げ
- 化学製品
- 触媒
- 掘削流体
- 研磨材
- 潤滑剤
- ろう材
- ゲル
- 生物試料
- 食品
- 添加剤
- 農薬
- 爆薬
- 黒鉛
- 感光材料
- 燃料
- インク
- 金属粉末
- 非金属粉末
- 炭酸カルシウム
- カオリン
- 石炭-水スラリー等の粉体材料
特許技術
光学基板設計、3次元光学基板アライメントシステム、Mie 散乱の応用、乾式分析用の密閉サンプルキュベット、直交二重レーザービーム、粉体分散ポンプ設計、湿式循環装置等は複数の特許で保護されています。
技術仕様
- 型式：Winner2309C WinModule-201
- 測定範囲：0.01–2000 μm
- 原理：Mie 散乱およびフラウンホーファー散乱
- チャネル数：106
- 精度誤差：≤0.5%（CRM D50）
- 再現性誤差：≤0.5%（CRM D50）
- 光源：主レーザー 639 nm、補助レーザー 405 nm（ともに >2 mW）
- 分散方法：超音波（40 kHz、60 W）、機械撹拌（0–3000 rpm）、循環分散（1–8 L/min）
- サンプルタンク容量：600 ml
- 外形寸法：本体 870×340×380 mm；湿式モジュール 415×280×335 mm
- 質量（正味）：本体 32 kg；湿式モジュール 15 kg
- 測定速度：最短 10 秒
- サンプリング周波数：最大 10 kHz
- 光路：逆フーリエ（折り畳み）
- レーザー安全：クラス 1
- 操作モード：SOP 全自動；ワンクリック操作
- ソフト出力：数値およびグラフの微分・累積分布；Word/Excel/BMP/TXT/PDF へ出力可能
- インターフェース言語：中国語・英語（他言語オプション）
