AMOTの高温炉

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ベル炉
ベル炉
HITT

温度: 0 °C - 1,150 °C

... 結晶粒配向(GO)電気ストリップの 高温焼鈍(HTA)は、二次再結晶によって磁気的に有利なGossテクスチャーを持つ結晶粒を形成するために使用される。高い処理温度(1150℃以上)とストレート水素雰囲気により、硫黄と窒素も除去される。前工程で添加されたMgOのコーティングは、ラップ中のステッカーの形成を抑制する。 水素中での処理の安全コンセプトは、HICON/H2アニール装置から採用されています。チャージは、 加熱ベルとインナーカバーから放射される熱エネルギーによって 加熱されます。 他の設備タイプに比 ...

チャンバー炉
チャンバー炉
TR 400

温度: 400 °C
容量: 140 l - 735 l

... アプリケーションのための強制対流電気オーブン. 構造:バージョン-I 用の軟鋼またはステンレス鋼、いくつかの棚。 断熱材:ドアを含むすべての表面のロックウール断熱材。 換気: ステンレススチール製モーター換気装置。 調節可能なエアアウトレット。 加熱:シールド付き電気抵抗器のバッテリー。 電気: 3 x 400VAC。 規制: アクスロンスイス PID 温度コントローラー。 文書:英語でのCEマーキングと取扱説明書。 付属:2 棚(穴あきプレート)。 ...

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チャンバー炉
チャンバー炉
FP 1400

温度: 1,400 °C
容量: 5.3 l - 29.7 l

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チャンバー炉
チャンバー炉
FP 1500

温度: 1,500 °C
容量: 5.3 l - 29.7 l

... 定義:すべてのアプリケーション、 高温のための電気チャンバー炉。 構造:曲がったプレートで作られた堅牢な構造。 垂直に持ち上げるフロントドア。 断熱材:多層断熱材。 セラミック繊維と耐火レンガのインテリア。 加熱:炭化シリコーン発熱体。 ドアの開口部で 加熱がオフになります。 電気: 3 x 400VAC。 規制: アクスロンスイス PID 温度コントローラー。 文書:英語でのCEマーキングと取扱説明書。 ...

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チャンバー炉
チャンバー炉
FP 1600

温度: 1,600 °C
容量: 5 l - 29.7 l

... 定義:すべてのアプリケーション、 高温のための電気チャンバー炉。 構造:曲がったプレートで作られた堅牢な構造。 垂直に持ち上げるフロントドア。 断熱材:多層断熱材。 セラミック繊維と耐火レンガのインテリア。 加熱:炭化シリコーン発熱体。 ドアの開口部で 加熱がオフになります。 電気: 3 x 400VAC。 規制: アクスロンスイス PID 温度コントローラー。 文書:英語でのCEマーキングと取扱説明書。 ...

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チャンバー炉
チャンバー炉
MO 1700

温度: 1,700 °C
容量: 2.5 l - 8.1 l

... 定義:すべてのアプリケーション、 高温のための電気チャンバー炉。 構造:曲がったプレートで作られた堅牢な構造。 垂直に持ち上げるフロントドア。 断熱材:多層断熱材。 セラミック繊維と耐火レンガのインテリア。 ヒーター: 発熱体タイプMoSi2. ドアの開口部で 加熱がオフになります。 電気:単相 230VAC、50ヘルツ最大 7kWおよび3x400VAC、50ヘルツ以上 7kWです。 規制: アクスロンスイス PID 温度コントローラー。 ...

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チャンバー炉
チャンバー炉
MO 1800

温度: 1,800 °C
容量: 2.5 l - 15.8 l

... レンガのインテリア。 ヒーター: 発熱体タイプMoSi2. ドアの開口部で 加熱がオフになります。 電気:単相 230VAC、50ヘルツ最大 7kWおよび3x400VAC、50ヘルツ以上 7kWです。 規制: アクスロンスイス PID 温度コントローラー。 文書:英語でのCEマーキングと取扱説明書。 リクエストに応じて利用可能なオプション:アクロンスイス温度プログラマー、過熱保護、追加の金属またはセラミックソール、 加熱要素の追加セット、延長保証。 ...

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台車式炉
台車式炉
LE 1100 -1400

温度: 1,100 °C - 1,400 °C
容量: 7.4, 7.5 l

... 定義: 急速な撤退のための上昇床と炉. 構造: 機械的に溶接されたフレーム。 断熱材:多層断熱材。 セラミック繊維と耐火レンガのインテリア。 加熱加熱要素は、作業室を囲んだ。 電気:電圧 230VAC、最大 4キロワットの50ヘルツ、電圧 3x400VAC、周波数は4.5キロワットから50ヘルツ。 規制: アクスロンスイス PID 温度コントローラー。 文書:英語でのCEマーキングと取扱説明書。 ...

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管状炉
管状炉
TU 1400

温度: 1,400 °C

... 定義:管状電気炉、すべてのアプリケーション用。 構造:曲がったプレートで作られた堅牢な構造。 断熱材:多層断熱材。 セラミック繊維と耐火レンガのインテリア。 加熱:炭化ケイ素中の発熱体。 電気: 3 x 400VAC。 規制: アクスロンスイス PID 温度コントローラー。 文書:英語でのCEマーキングと取扱説明書。 ...

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管状炉
管状炉
TU 1500

温度: 1,500 °C

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管状炉
管状炉
TU 1600

温度: 1,600 °C

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キャビネット炉
キャビネット炉
VF-5100

: 900, 1,000 mm
高さ: 2,930, 3,300 mm
奥行き: 1,850, 1,950 mm

... 4~8インチ対応、超 高温処理が可能なラージバッチ拡散・LPCVD縦型炉。 生産ラインにあわせたフレキシブルな装置構成で多品種処理に対応。 パワーデバイス製造に最適。 4インチ~8インチサイズのウェーハに対応し、処理枚数も50~150枚処理まで選択が可能な生産ラインにフレキシブルに対応する縦型炉です。LGOヒータ、二珪化モリブデン(MoSi2)ヒータ、カーボンヒータを使い分けることにより、低温アニールやナイトライド(Si3N4)、ポリシリコン(Poly Si)などのLPCVDや酸化拡散処理 ...

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チャンバー炉
チャンバー炉
CLH Series

温度: 530, 500, 450 °C
: 1,285 mm
高さ: 2,020, 2,080 mm

... フィルターと独自冷却器の搭載で最高530℃まで(V型は500℃まで)の 高温処理が行えるクリーンオーブンです。熱風循環方式による良好な温度均一性とクラス100(温度安定時)の空気清浄度で半導体ウェハー、ガラス基板のベーキング、エージングなど 高温・高精度な処理が要求される用途に最適です。窒素(N2)ガスを槽内に導入することで残存酸素濃度20ppm以下で使用することも可能です。 ...

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チャンバー炉
チャンバー炉
VF-5300HLP

温度: 700 °C - 1,900 °C

... R&Dから量産ラインに対応 R&D、ミニバッチ:50枚処理、量産:100枚処理 75~200mmまで幅広いウェーハサイズに対応 N2ロードロックを標準装備 C to C搬送を備え、高スループットを実現 H2雰囲気でのトレンチラウンド化アニールに対応 (オプション) ...

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チャンバー炉
チャンバー炉
VF-5300H

温度: 700 °C - 1,400 °C

... 搬送 LGOヒータ搭載により、低温から中 高温まで優れた温度特性を発揮 二珪化モリブデンヒータを搭載のHタイプをラインアップ 機密性の高いチャンバー構造を採用(Hタイプ) Φ200mmウェーハ最大150枚、20個のカセットストッカーを備え、連続バッチ処理が可能なラージバッチ量産タイプの縦型拡散炉です。LGOヒータ、二珪化モリブデン(MoSi2)ヒータを使い分けることにより、酸化、拡散、LP-CVDはもちろん、SiCパワーデバイスのゲート酸窒化処理など超 高温プロセスにも対応します。 ...

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チャンバー炉
チャンバー炉
VF-3000H

温度: 700 °C - 1,400 °C

... 高温処理が可能でパワーデバイス製造に最適。酸窒化処理が可能。 R&D~量産まで使用可能な~8インチウェーハ対応の自動搬送搭載縦型炉。 ミニバッチ、50枚の処理が可能で、3インチ~8インチまで幅広いウェーハサイズに対応します。ハードウェアと制御システムの内容を厳選し、R&D用途から量産ラインにまでお使いいただける縦型炉です。炉内は当社独自のメタルフリー構造です。 高温処理が可能でパワーデバイス製造に最適です。酸窒化処理が可能です。 ...

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キャビネット炉
キャビネット炉
VF-3000H

温度: 700 °C - 1,850 °C

... 超 高温処理が可能でパワーデバイス製造に最適。 R&D~量産まで使用可能な3~6インチウェーハ対応の自動搬送搭載縦型炉。 ミニバッチ、50枚の処理が可能で、3インチ~6インチまで幅広いウェーハサイズに対応します。ハードウェアと制御システムの内容を厳選し、R&D用途から量産ラインにまでお使いいただける縦型炉です。炉内は当社独自のメタルフリー構造です。実験機(ウェーハ搬送無し)も対応可能です。活性化アニールの超 高温プロセスにも対応します。 ...

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チャンバー炉
チャンバー炉
UTO

... サイドフロー熱風循環式オーブンです。セラミックファイバー製高性能断熱材の使用で装置サイズをコンパクトに抑えています。ワンパスエア排気機構の採用で優れた降温特性で短タクトタイムを実現しています。ガラスの徐冷、触媒の焼きしめ、金属の焼き戻し・なまし、灰化などの 高温処理から乾燥などの低温処理まで幅広くお使いいただけます。 ...

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Koyo Thermos Systems
チャンバー炉
チャンバー炉
CLH series

温度: 530, 500, 450 °C
: 1,285, 1,180 mm
高さ: 2,080, 2,110, 2,020 mm

... フィルターと独自冷却器の搭載で最高530℃まで(V型は500℃まで)の 高温処理が行えるクリーンオーブンです。熱風循環方式による良好な温度均一性とクラス100(温度安定時)の空気清浄度で半導体ウェハー、ガラス基板のベーキング、エージングなど 高温・高精度な処理が要求される用途に最適です。窒素(N2)ガスを槽内に導入することで残存酸素濃度20ppm以下で使用することも可能です。 ...

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マッフル炉
マッフル炉
810 series

温度: 1,000 °C
: 530, 610 mm
高さ: 1,360 mm

... 小型で設置面積が少なくてすみ、水素(還元)雰囲気での熱処理が可能。 厚膜焼成、電極乾燥、セラミック基板製造の実験用に最適な小型コンベア炉。 大気環境、N2雰囲気、水素(還元)雰囲気など電子部品製造のあらゆる環境にお応えする装備を満載した実験(R&D)用コンベア炉です。小型で設置面積がすくなくてすみ、場所をとりません。出入り口に設けられたパージチャンバーの採用で炉内雰囲気の安定性・再現性に優れています。耐熱構造のマッフル採用、操作部のタッチパネル化、ウィークリータイマー標準搭載などコンパクトな中に高機能を備えています。 ...

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Koyo Thermos Systems
チャンバー炉
チャンバー炉
KLO-30NH

... 小型・コンパクトサイズで実験・研究に最適な窒素(N2)雰囲気オーブン。 脱バインダー、脱脂、アニールなどの熱処理を低酸素(O2)濃度300ppm以下で実現。 小型・コンパクトサイズながら最高使用温度600℃までの熱処理が可能なイナートガスオーブンです。強制熱風循環方式により均一な炉内温度環境を実現。窒素(N2)雰囲気による残留酸素濃度300ppm以下を保証しています。電源と窒素を接続するだけでご使用頂け、冷却水は必要ありません。プログラム運転が可能で、ガス導入、冷却ブロアの作動タイミングもプログラムに組み込めます。 ...

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Koyo Thermos Systems
チャンバー炉
チャンバー炉
HTK series

温度: 1,500, 1,600, 1,750, 1,800 °C
容量: 16 l - 480 l

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ThermConcept Dr. Fischer
管状炉
管状炉

温度: 1,600 °C - 1,800 °C

... 高温チューブ炉 T 最大 1500° C、1600° C、1750° C、1800° Cおよび1800° Cコンセプトは、研究と生産のために1800° Cまでの温度に対応する広範なチューブ炉を提供します。 チューブ炉は、顧客の要求に応じて構成されているため、必要なプロセスに正確に適合させることができます。SiCロッドで 加熱された1500 ℃ ~ 1600 ℃ の温度範囲、MoSi2 加熱要素を使用した1600 ...

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ThermConcept Dr. Fischer
台車式炉
台車式炉
KLC series

温度: 1,400 °C - 1,600 °C
容量: 6 l - 33 l

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ThermConcept Dr. Fischer
管状炉
管状炉

温度: 1,700, 1,200 °C

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ThermConcept Dr. Fischer
チャンバー炉
チャンバー炉
HTL series

温度: 1,600, 1,700, 1,750, 1,800 °C
容量: 2, 4, 6, 8 l

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トンネル型炉
トンネル型炉

温度: 100 °C - 650 °C

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