Materials Research Furnacesのろう付け炉

温度: 0 °C - 2,200 °C

... 人気の高い中型熱処理炉には、最高温度2200℃まで対応可能な1立方フィート（28l）の使用可能ゾーンがあり、多数のオプションを装備することができます。 本装置はターボシステムとHMIコンピューターインターフェイスを装備しています。その他のオプションとして、水素での運転、拡散および極低温ポンプシステム、ガス中での急速冷却用熱交換器、パイロメーターなどがあります。当社はお客様のニーズに合わせて炉をカスタマイズします。 高温ゾーンにはタングステンロッドまたはメッシュ発熱体を採用し、優れた均一性と長寿命を保証します。 この炉には直感的で使いやすいコンピュータインターフェースが装備されており、完全自動運転が可能です。データ収集、アラームの表示とロギング、温度制御のための無制限のレシピプロファイル、セキュリティ、構成設定などが可能です。PCは産業用フラットパネルPCを制御コンソールに搭載し、過酷な環境にも耐えるよう設計されています。 一般仕様 ...

温度: 0 °C - 2,200 °C

... エレメントは均一性に優れ、長寿命です。炉室は二重壁のステンレス鋼を溶接して製作され、クリーンな仕上がりと真空の完全性のために研磨されています。 チャンバーには補助装置やセンサー用のポートが装備されています。ホットゾーンシールドはチャンバーフレームに取り 付けられ、ヒートサイクル中のゾーンの熱成長を可能にします。炉の前面扉はヒンジ式で水冷式、装入領域へのフルアクセスが可能です。背面カバーはメンテナンスのために取り外し可能です。 オプションのガス熱交換器により、室温までの急速冷却が可能です。 炉の装入物 ...

温度: 0 °C - 1,750 °C

... を特徴としています。炉室は二重壁のステンレス鋼を溶接して製作され、きれいな仕上がりと良好な真空度のために研磨されています。 チャンバーポートにより、補助機器やセンサーがチャンバー環境にアクセスできます。ホットゾーンシールドはチャンバーフレームに取り 付けられ、ヒートサイクル中のゾーンの熱成長を可能にします。チャンバーには前面ドアと背面ドアがあり、ホットゾーンへの完全かつ容易なアクセスが可能です。 ...

温度: 0 °C - 2,500 °C

... この多用途のトップローディング式実験炉は、最高温度2500°Cで完全にプログラム可能な雰囲気条件により、材料やプロセスの研究、試験、開発を行うためのツールを提供します。 また、バッチ式生産炉としても使用でき、再現性のある正確な記録処理が特徴です。トップローディング構成は優れた熱均一性を提供し、実証済みの経済的設計です。この実験炉は世界中の数多くの大学や研究所で使用されています。 一般仕様 動作圧力：1×10-7 Torr (mbar) ～ 2 P.S.I.G. (0.14 bar) 優れた温度均一性 多くのホットゾーンサイズと材料が利用可能 データ取得機能付きHMI制御システム 人間工学に基づいた省スペース設計 TCおよびパイロメーターによる温度制御 ターボポンプシステム 湿式水素システム コンパクトな設置面積のトップローディング 詳細 チャンバーとホットゾーン トップローディングホットゾーンチャンバーは円筒形で、二重壁のステンレス鋼で製造されています。チャンバー全体が溶接され、真空の完全性と人間工学に基づいた外観のために研磨されています。 センサー、真空、ガス、ホットゾーン電源、覗き窓用に多数のチャンバーポートが装備されています。標準的なホットゾーンはタングステンとモリブデン製で（異なる材質のものもあります）、電力損失を低減するために7層のシールドが施されています。試料はタングステンのハース上に置かれます。加熱エレメントへの電源接続はチャンバー底部にあり、水冷式。 この炉システムは複数の陽圧ガス環境だけでなく、ドライまたはウェット水素、解離アンモニア、窒素、アルゴンなどのガス分圧（大気圧以下）でも作動するように設計されています。 ...

温度: 0 °C - 2,100 °C

... 当社の2ステーション焼結炉は当社のボトムローディング焼結炉をベースにしていますが、同時に2つの装入物を処理することが可能で、同じ設置面積で実質的に処理能力が2倍になります。当社の焼結炉は、高温での電子部品の焼結や熱処理用としてエレクトロニクス産業で広く利用されています。サイクルは雰囲気準備、加熱、急冷、制御酸化から構成されます。 2ステーション炉は2つの装入物を同時に処理し、1つの装入物を高温室で加熱する一方、2つ目の装入物を下室で冷却します。 この炉の使用可能ゾーンは直径12インチ x 高さ22インチ ...

温度: 0 °C - 2,300 °C

... 当社の4ステーション式インデックス焼結炉は、電子部品の高温焼結に適した当社の最高スループットモデルです。4つの装入物が同時に処理され、半連続プロセスの焼結プロセスが形成されます。 炉は直径12インチ x 高さ22インチ (305 mm x 559 mm) の使用可能ゾーンを持ち、この設計は大量のバッチ処理に最適です。 この炉には5つのチャンバーがあり、搬送機構を含むボトムインデキシングチャンバー、搬出入チャンバー、加熱チャンバー、冷却チャンバー、酸化制御チャンバーがあります。通常運転中、すべてのチャンバーは互いに隔離されています。 油圧リフトとモーター駆動のインデックス機構が装入物スタックをステーションから次のステーションへ移動させます。プロセスパラメーターにもよりますが、この炉は45分ごとに焼結装入物を生産します。 ホットゾーンは最高2100℃まで可能で、タンタルまたはタングステンで製造されます。 高スループットの10″または16″拡散ポンプシステムが装入物のアウトガスを処理します。HMIコンピューターインターフェイスは、完全に自動化されたサイクルを最初から最後まで実行し、生産ネットワークと統合して製品追跡とレシピ選択を提供します。 一般仕様 4つの負荷を同時に処理する5チャンバー設計 ローディング、加熱、冷却、酸化の各チャンバーを分離 ホットゾーン ...

温度: 0 °C - 2,000 °C

... この結晶成長炉は、Bridgman法、Czochralski法、またはStepanov法でラボサイズの結晶を製造することができます。この技術は、半導体材料（シリコン、ゲルマニウム、ガリウムヒ素）、金属、塩、合成宝石の単結晶育成に使用されます。 引上げ速度は調整可能で、0.001"/min.(0.025mm/分）。3/8 "シード・ロッドを回転させるモーターが別に付いています。 当社の結晶育成オプションは、マルチアプリケーション実験室炉やアーク溶解炉のような、上部チャンバーポートを使用する一部の前面装入型MRF炉にも装備できます。 一般仕様 Bridgman、CzochralskiまたはStepanov法による結晶成長用 0.001"/分まで調整可能な引上げ速度(0.025mm/min) 8″ ...

温度: 2,200, 3,000 °C

... 当社の小型高温実験炉は、高効率グラファイト断熱パックの採用により、不活性ガス中で3000℃の高温運転が可能です。直径4 mm x 高さ8 mm (101 mm x 204 mm)のホットゾーンは、超高温での少量バッチ処理や材料研究に適しています。真空中での運転も可能ですが、発熱体とシールドの寿命を最大にするため、2200℃に制限されています。 オプションの）HMIインターフェースによる操作は、直感的で習得が容易です。低温制御には引込温度熱電対が使用されます。RTCは自動的に後退し、あらかじめ設定された設定温度で制御を高温計に切り替えます。 用途：焼結、炭素繊維加工、炭化、セラミック焼成、脱ガス、熱処理など。 仕様 トップローディング、ヒンジ式カバー グラファイトゾーン（タングステンホットゾーンあり）。 +/- ...

温度: 0 °C - 3,000 °C

... は3000°Cです。 チューブの直径は4″で、加熱可能な長さは8″または12″です。この超高温炉は研究開発に最適です。 オプションのマッフル管は、1750℃までの酸化性または研磨性環境での処理に使用できます。 一般的な用途としては、アニール、 ろう 付け、セラミック焼成、脱ガス、黒鉛化、炭化、溶融、焼結などがあります。 仕様 一般仕様 垂直または水平ローディング構成 使用可能ワークエリア（負荷）直径4″×長さ12″（100×300 ...

温度: 0 °C - 3,000 °C

... ) 空気圧式カバーリフト付きトップローディング 黒鉛発熱体と熱シールド より小さなサイズもご用意 温度測定用光学式パイロメーターと格納式熱電対 詳細 チャンバーとホットゾーン 炉室は円形で、空圧式トップカバーが付属します。上部熱シールドはカバーに取り 付けられており、出し入れが容易です。チャンバーはステンレス鋼製の二重壁で、電解研磨仕上げのため清潔で光沢があり、耐久性に優れています。上部カバーは空気圧で持ち上げられ、ホットゾーンに簡単にフルアクセスできます。すべてのチャンバー部品は水冷式です。 グラファイトタイプ ...