昇華炉

温度: 1,700, 1,600, 1,800 °C
容量: 64 l - 514 l
幅: 1,000 mm - 7,800 mm

... 高温チャンバー炉HTFシリーズは最高温度1600℃、1700℃、1800℃の産業用電気炉です。 HTFには内容積64、128、165、250、332、514Lのタイプがあり、無人運転時の安全確保に欠かせない独立型過熱防止装置が標準で装備されています。 HTFでの熱処理は大気下のみに対応します。気密構造ではないので、手動ガスバルブとロータメータを追加し、不活性ガスによる低酸素雰囲気下での加熱が可能です。これはセラミックス、酸化物セラミックスの焼結に理想的です。 セラミックスの焼結前に脱脂処理が必要な場合、脱脂パッケージをご使用ください。このパッケージは空気を予熱するための流入口、ガス導入口、アフターバーナーからなります。予熱された空気は炉内に複数のガス導入口を通じて対照的に流入します。この結果脱脂時の低温での温度均一性が向上し、サンプルは流入した空気に効率よく暴露されます。脱脂工程で発生したガス状副生成物は、プロパンガスと圧縮空気によって駆動するアフターバーナーで燃焼されます。脱脂完了後には炉内温度が上昇され焼結が開始されます。 アプリケーション例 annealing, ...

温度: 1,350 °C
幅: 400, 700, 950, 1,200, 1,450 mm
高さ: 420, 590 mm

... FHA（シングルゾーン）およびFHC（3ゾーン）の管状炉は、垂直または水平に使用でき、最高使用温度は1350 °Cです。 Fシリーズの管状炉には豊富な付属品が用意されています。この炉は、高品質の5 mm APMワイヤー発熱体を断熱材に取り付けたセラミックファイバーモジュールで構成されており、セラミック製の保持リッジで所定の位置に保持されています。熱質量の少ないセラミックファイバー断熱材により、低エネルギー消費を実現し、高速加熱が可能です。制御用熱電対には高品位のS型熱電対を採用しています。さらに、管状炉には最大8つの加熱ゾーンが用意されており、最も精密な温度制御と均一性を実現しています。 標準仕様 24セグメントのプログラマブル温度コントローラ。FHAはEPC3016P1を搭載、FHCはCC-T1を搭載 過熱防止装置 作業管の外径は、最大 ...

温度: 1,600, 1,700, 1,800 °C
幅: 455, 580 mm
高さ: 365, 515, 765 mm

... HTRV高温管状炉は垂直方向に設計されており、最高温度1800℃までの運転が可能です。 ファイバープレートで構成された高品位の断熱材は、その低い熱伝導率により、低エネルギー消費と高い加熱率を実現します。断熱材と二珪化モリブデン(MoSi2)発熱体は長方形のハウジングに設置されています。発熱体は垂直に吊り下げられており、簡単に交換することができます。MoSi2は、高温で酸素が存在すると酸化膜を形成し、熱や化学的な腐食から発熱体を保護します。 HTRV管状炉シリーズは、豊富な付属品により、高温での意欲的な熱処理のための完全なシステムソリューションを提供します。 炉はスタンドなしで提供されるので、お客様は自分の装置に組み込むことができます。オプションの「L」スタンドを使用すれば、炉を自立させることができます。 アプリケーション例 annealing, ...

温度: 1,350 °C
幅: 1,800 mm
高さ: 990, 1,200 mm

... AZは、温度プロファイルを制御するための8ゾーン管状炉です。これらのゾーンは、炉の加熱された長さに沿って温度プロファイルを生成するために使用できます。 8つのゾーン、厚い断熱材、そしてAZ炉全体で対称性の高い発熱体の巻き方により、±5℃以下の均一性を実現しています。個別に制御される8つのゾーンの主な利点は、炉内の均一な長さを延長できることです。さらに、温度プロファイルは、直線的な上昇、ピーク、またはその他のユーザー定義のプロファイルを正確に制御することができます。 AZ管状炉に適したプロセスの1つに、化学気相成長法があります。これは、高温側のエンドゾーンで前駆体材料を蒸発させ、低温側のエンドゾーンで基板上に蒸気を昇華させるために、炉内に温度勾配を設けることができるからです。すべてのゾーンは個別に制御され、熱電対でモニターされます。 標準仕様 FHA/FHC管状炉と同様の構造 ...

温度: 1,700, 1,600 °C
幅: 700, 600, 800 mm
高さ: 700, 800, 1,050, 1,250 mm

... 分割式管状炉, HTRV-Aモデルは、縦置、または横置での使用で最高温度1700℃の熱処理が可能です。 炉心部が分割式で、大きく開閉することが出来るため、作業管や反応装置の装着が容易に行えます。 断熱性が非常に高い軽量の多層断熱材が使用されているため熱効率が良好です。 特別仕様、そして 多種多様のアクセサリー の対応もオプションとして可能です。 アプリケーション例 annealing, pyrolyses, ラピッドプロトタイピング, 乾燥, 合成, 昇華, 炭化, 焼戻し, ...

温度: 2,200, 1,600 °C
容量: 60 l
幅: 2,400 mm

... 金属炉は60リットルの容積で提供されます。HTBL 60 MO/16-1Gの最高温度は1600℃で、モリブデン製の輻射シールドと発熱体を使用しています。HTBL 60 W/22-1Gの最高温度は2200℃で、タングステン製の輻射シールドと発熱体を使用しています。HTBLの金属製バージョンは、最も純粋な雰囲気と最高の作業真空レベルを生成するのに適しています。 HTBLタイプの炉は、搬入・搬出が容易であるという明確な利点があります。ハースが下降すると、サンプルは制限なく全方向からアクセスできます。特にデリケートなサンプルの装填は非常に簡単でユーザーフレンドリーです。また、試料の熱電対を炉内の所定の位置に設置することができます。HTBLではレトルトも使用できます。ローディングエリアの移動は、油圧アームによって完全に自動化されています。ローディングエリアが最も低い位置に到達した後、ユーザーは手動でローディングプラットフォームを外側に90°回転させることができます。 窒素、アルゴン、水素の各ガスは、純ガスまたは混合ガスとして使用できます。ご要望に応じて他のガスを導入することも可能です。炉内では、規定のガス流量を確保するために、わずかな過圧または制御された分圧を使用することができます。空気での運転はできません。 様々な投与装置および制御装置がすべてのガスを制御します。要求される真空度に応じて、真空ポンプは用途に応じて、あるいは要求に応じて特別に構成されます。最高の均一性を実現するために、温度は独立して制御されます。 アプリケーション例 annealing, ...

温度: 2,200 °C
容量: 50, 80, 200 l
幅: 2,400 mm

... HTBLタイプの炉の明確な利点は、装填と取り出しが容易なことです。ハースが下がると、サンプルは制限なく全方向からアクセスできます。特にデリケートなサンプルの装填は非常に簡単でユーザーフレンドリーです。また、試料の熱電対を炉内の所定の位置に設置することができます。HTBLではレトルトも使用できます。ローディングエリアの移動は、油圧アームによって完全に自動化されています。ローディングエリアが最も低い位置に到達した後、ユーザーは手動でローディングプラットフォームを外側に90°回転させることができます。 窒素ガス、アルゴンガス、水素ガスは、純ガスまたは混合ガスとして使用できます。ご要望に応じて他のガスを導入することも可能です。炉内では、規定のガス流量を確保するために、わずかな過圧または制御された分圧を使用することができます。空気での運転はできません。 様々な投与装置および制御装置がすべてのガスを制御します。要求される真空度に応じて、真空ポンプは用途に応じて、あるいは要求に応じて特別に構成されます。最高の均一性を実現するために、温度は独立して制御されます。 アプリケーション例 annealing, ...

温度: 2,200, 1,600 °C
容量: 10, 1.5 l
幅: 1,900 mm

... LHT高温ラボラトリーファーネスシリーズの特徴は、コンパクトなデザインで、研究開発環境の実験室に最適なツールとなっています。 実験炉の円筒状の使用可能空間は、発熱体と断熱材で囲まれています。加熱室は水冷式の容器に組み込まれています。容積が小さいため、LHTは少量のサンプルに最適で、最小限の操作スペースしか必要としません。 システムは、ファーネスとソフトウェア制御を含む電子キャビネットを支える1つのフレームプラットフォームによって支えられています。このプラットフォームにはキャスターが取り付けられており、システム全体を容易に移動させることができます。LHTシリーズは、大学や産業界の研究所など、そのような場所での使用に最適です。 全体の寸法が小さく、操作が簡単なため、温度の均一性や大気の質などの性能を損なうことなく、費用対効果の高いシステムを実現しています。さらに、円筒形のデザインは、過圧の熱処理プロセスに最も適しています。ご要望に応じて、最大100気圧までの安全な過圧操作のために、適切なロック装置と必要なすべての機器を装備することができます。 金属製のLHTモデルは、タングステンまたはモリブデン製の発熱体と放射シールドを備えており、最高温度はそれぞれ2200℃と1600℃です。放射シールドは、発熱体の熱を水冷式容器から遮断する役割を果たします。金属製のLHTシステムは、可能な限り高い大気純度と最高の最終真空レベルを提供します。ターボ分子ポンプとプレポンプを併用することで、作業真空度は高真空領域に達します。ご要望に応じて、超高真空の構成も可能です。 アプリケーション例 annealing, ...

温度: 0 °C - 1,600 °C

... 水素管状炉システムは、好評のHTRH 16/100/600システムをベースにしています。この炉は、水素ガスの安全な取り扱いに必要なすべての規制を満たすように設計されています。 原則として、すべての管状炉は水素を安全に取り扱うために改造することができます。このシステムは、長年の実績を持つHTRH 16/100/600管状炉をベースにしています。このシステムでは、両端に水冷式のリークタイトフランジを備えたセラミックチューブを使用しています。この管状炉は、純水素雰囲気下でも1600℃までの熱処理が可能です。セラミック管には、安全のため、水素ガスを導入する前に自動的に不活性ガスが充填されます。不活性ガスは、高圧の不活性ガスが充填されたフラッディングタンクシステムによって供給されます。熱処理の前に管内に残っている酸素をパージするために、フラッディングタンクは排出され、その後再充填されます。ガス排出システムは、水素を燃焼させるためのアフターバーナに接続されている。 アフターバーナへのガス流入口は、システム内での凝縮物の発生を防ぐために加熱される。アフターバーナは、圧縮空気とプロパンガスで駆動する。アフターバーナは、水素をはじめ、プロセス中に発生するすべてのガス状の副生成物を燃焼させる。 すべてのガスは、完全に自動化されたフローコントローラーによって制御されます。誤動作が検出された場合、システムは直ちに安全な状態になります。すべての機器はSIL2規格に準拠して製造されている。炉の上部には水素センサーが設置されており、水素の漏れが検知されると、センサーが即座に反応します。水素漏れが検出された場合、炉内を不活性ガスで充満させ、システムを安全な状態にします。炉の制御は、直感的で使いやすいタッチパネルのインターフェースでプログラムされています。 すべての管状炉は、水素を使用するためのベースシステムとして機能するため、異なる使用空間と温度が可能です。1800℃以上の水素が必要な場合は、コールドウォール炉を選択する必要があります。 アプリケーション例 annealing, ...

... 木目調転写オーブン この転写オーブン・システムは、ポリエステル・フィルムの木目模様をアルミニウムのプロファイルや板材の表面に転写するために特別に設計されています。プロファイルや板状の部品は、あらかじめ特殊な下塗り粉体塗装が施されている必要があります。フィルムからプロファイルや板表面への転写は、プライマー粉体塗装のゲル化温度で行われます。 プライマー粉体塗装が施され、ポリエステル転写フィルムで袋詰めされたアルミニウムプロファイルは、キャリア上に1枚ずつ置かれ、キャリアの両側にある特殊な真空ノズルに取り付けられます。両側のバキュームバルブで袋の中の空気を吸い出し、フィルム全体をプロファイル表面に接触させます。すべてのプロファイルが同じ方法で1枚ずつバキュームされます。スタートボタンが押され、キャリアトロリーがオーブンに投入された後 キャリアトロリーがオーブン内にある限り、真空ポンプは連続的に作動し、搬送効率を最大にします。ポリエステルフィルムからプロファイル表面への転写が完了すると、台車は自動的にオーブンから出ます。圧縮空気システムが作動を開始し、袋に空気を圧入してポリエステルフィルムをプロファイル表面から分離します。その後、オペレーターによってポリエステルフィルムがプロファイル表面から分離され、最終製品が得られます。 すべてのパラメーターは、コントロールパネルのタッチスクリーンから簡単に調整できます。 ...

温度: 1,800 °C

... 管状炉は、ガス/真空雰囲気下でのサンプルテスト用に設計されており、カスタマイズされたサイズと水冷式フランジのオプションが用意されています。炉の最高設計温度は1800℃までです。 様々なアプリケーションには、エージング、アニーリング、ブレージング、カルシネーション、触媒研究、CIM、コーティング、CVD、脱ガス、乾燥、硬化、MIM、ミニプラント、熱分解、焼結、はんだ付け、昇華、合成、焼き戻し、テスト燃料電池、熱電対校正などがあります。テンペンス社は、様々なサイズの管状炉、1800℃までの温度範囲の管状炉を幅広く取り揃えています。 標準機能 - ...