{{product.productLabel}} {{product.model}}
{{#if product.featureValues}}{{product.productPrice.formattedPrice}} {{#if product.productPrice.priceType === "PRICE_RANGE" }} - {{product.productPrice.formattedPriceMax}} {{/if}}
{{#each product.specData:i}}
{{name}}: {{value}}
{{#i!=(product.specData.length-1)}}
{{/end}}
{{/each}}
{{{product.idpText}}}
{{product.productLabel}} {{product.model}}
{{#if product.featureValues}}{{product.productPrice.formattedPrice}} {{#if product.productPrice.priceType === "PRICE_RANGE" }} - {{product.productPrice.formattedPriceMax}} {{/if}}
{{#each product.specData:i}}
{{name}}: {{value}}
{{#i!=(product.specData.length-1)}}
{{/end}}
{{/each}}
{{{product.idpText}}}
温度: 1,250 °C
... ケースマスター エボリューション(CMe)は、航空宇宙、自動車、機械製造、ベアリング、商業熱処理など様々な産業における幅広いLPCアプリケーションに対応する新世代の密閉焼入れソリューションです。 ケースマスターエボリューションには2つのタイプがあります： / Dタイプと呼ばれる2室炉は、1室が処理用、もう1室がオイルまたはガス冷却用の2つのチャンバーを備えています。 / T タイプと呼ばれる三室炉では、D タイプと同じチャンバーに加え、PreNitLPC®と併用することでより迅速な処理が可能な第三の予備加熱・予備酸化チャンバーが装備されます。冷却はガス焼入れまたはオイル焼入れの2つの方法があります。 高効率のオイルクエンチは、ワークへのオイルの浸透を確実にする撹拌システムを備えており、ワークの均一かつ迅速な冷却を実現します。ガスシステム、ポンプシステム、電源および冷却システムは、幅広い工業用熱処理を可能にする余裕のあるサイズです。 主な特長 / ...
SECO/WARWICK S.A.
... CVI（化学気相浸透）炉は、気相から炭素を飽和させることによってグラファイトなどの炭素材料を製造する技術であるCVIプロセスで使用される特別なソリューションである。 CVI炉は、多孔質材料への炭素層の制御された堆積を可能にするように設計されている。 CVI装置は、化学パラメーターと温度パラメーターが制御され、基板上に炭素層を堆積させるリアクターまたは反応チャンバーから構成される。 CVIは、炭素材料（通常は多孔質構造体）を気相中で飽和または含浸させるプロセスである。CVIプロセスでは、メタンやアセチレンなどの炭素質ガスを使用し、反応器内で反応させて基材表面に炭素堆積物を形成する。 CVI技術は、高性能車、スポーツカー、電気自動車、高級車用のカーボン製ブレーキディスクの製造に使用されている。ブレーキディスク製造の場合、このプロセスは、効果的なブレーキングに不可欠な、卓越した強度と低重量を備えた構造を作り出すことを可能にする。このプロセスを正確に管理することにより、CVIを使用して製造されたブレーキディスクは、優れた高温耐性、最小限の摩耗、優れた摩擦特性を有し、安全で効率的な車両の制動を保証します。 ...
SECO/WARWICK S.A.
... CVD(化学気相成長)炉は、CVDプロセスで使用される特殊な炉で、気相中の化学反応によってコーティングを製造する技術であり、例えばMTS(CH3SiCl3-メチルトリクロロシランガス)から製造される。 CVD装置は、被処理物の表面に材料を制御しながら蒸着できるように設計されている。 CVD装置には反応チャンバーがあり、プロセスガスの温度、圧力、化学組成などのパラメータが制御される。 CVDは、気相での化学反応によって基材表面にコーティングを生成する技術である。 ...
SECO/WARWICK S.A.
温度: 2,300 °C
容量: 75 l
幅: 40 cm
クリスタルは、高温用の真空熱処理炉です。炉内には金属製断熱材を装備し、ヒーターの素材にはモリブデンまたはタングステンが選択できます。清潔な高温熱処理を行うのに理想的な手段です。また、台上に直接部品を置く仕様で、正確な位置決めができる設計になっています。特許取得のヒーターデザインにより、プロセス制御が非常に正確になりました。 プラス＆メリット クリスタルシリーズの特長は、広い温度幅で真空熱処理ができることです。ヒーターの素材によっては、2300℃までの高温熱処理が可能です。 そのうえ、クリスタル炉は用途も多様で、高温下での清潔な熱処理が可能になりました。ワークは炉床上に設置するので装入しやすく、ワークを正確な位置に配置することができます。理想的な条件下でチャージの熱処理が行えます。 アプリケーション 焼戻し 磁気焼鈍 光輝焼鈍 ガス冷却制御 ガス抜き 焼結 金属とガラスの接合 セラミックと金属のろう付け 真空ろう付け ステンレス アルミ合金 超合金 チタン合金 耐火金属
ECM Technologies
ICBP®デュオは、特許インフラカーブプロセスInfracarb®を利用して真空浸炭・浸炭窒化を行う加熱チャンバー1基と焼入れセルからなります。 焼入れセルは、油焼入れ（ホットまたはコールド）またはガス焼入れ（最大圧力20 バール）が選択できます。 2つのチャンバーは独立しており、タイトドアで仕切られています。 ICBP®デュオの油焼入れタイプでは、966サイズまでピットが不要です。 ICBP®デュオ（ガス焼入れ、油焼入れ）には、メンテナンスを容易にするバックドア、プレヒーターにより処理サイクルを最適化した新デザインなど、ECMテクノロジーの最新技術を結集しています。既存の生産ラインに直接組み込むこともできます。また、真空浸炭、真空浸炭窒化用インフラカーブプロセスInfracarb®を利用し、熱処理の質向上を保証します。なお、当社のこのプロセスはすでに世界1100基の加熱セルで使用されています。 チャンバーは最初から高温状態にあるので、サイクルタイムが短縮され、消費エネルギーも最適化できます。 ...
ECM Technologies
幅: 8,000 mm
ICBP®ナノは、ECMテクノロジーの真空浸炭・真空浸炭窒化シリーズの中で最も新しい製品。 ICBP®ナノは、生産ラインに組み込むことができ、それによりサイクルタイムを短縮し、機械加工から熱処理までのフローをシンプルにすることができます。 ICBP®ナノは、3つの加熱セルを縦に重ねたモジュールと、ヘリウムまたは窒素使用の冷却用ガス焼入れセルからなります。（加熱モジュールを2基にすれば、加熱セル6基に増設可能）加熱セルを縦に重ねたことで工業生産用真空設備の省スペース化が図れました。 プラス＆メリット この設備は、低歪変形を達成しつつ、チャージ間の優れた均一性、再現性を保証します。各加熱セルは個別制御で、温度、ガス注入、熱処理条件をセルごとに変えて処理できます。フレキシブルかつコンパクトな設備で、生産性改善と熱処理の質向上を保証します。 アプリケーション 真空浸炭 真空浸炭窒化 ガス焼入れ ヘリウム ...
ECM Technologies
温度: 2,200 °C
容量: 8 l - 600 l
幅: 1,300, 2,500, 2,300, 2,100, 1,900 mm
グラファイト炉 HTK GRは低/高真空、窒素やアルゴンといった保護ガス、水素や一酸化炭素のような反応性ガスを使用することが出来ます。グラファイト炉 HTK GRはグラファイト製断熱材のため酸素雰囲気下で使用することは出来ません。 前面ドア付きの長方形チャンバ設計により、サンプルのロード、アンロードが容易です。HTK GRは6容量から選択できます。最小サイズの8L、中容量の25Lは研究室やR＆Dに最適です。80L、220L、400L、600Lのタイプはパイロットプラント用、または生産用システムとして使用できます。 HTK ...
温度: 2,200 °C
容量: 50, 80, 200 l
幅: 2,400 mm
HTBLタイプの炉の明確な利点は、装填と取り出しが容易なことです。ハースが下がると、サンプルは制限なく全方向からアクセスできます。特にデリケートなサンプルの装填は非常に簡単でユーザーフレンドリーです。また、試料の熱電対を炉内の所定の位置に設置することができます。HTBLではレトルトも使用できます。ローディングエリアの移動は、油圧アームによって完全に自動化されています。ローディングエリアが最も低い位置に到達した後、ユーザーは手動でローディングプラットフォームを外側に90°回転させることができます。 窒素ガス、アルゴンガス、水素ガスは、純ガスまたは混合ガスとして使用できます。ご要望に応じて他のガスを導入することも可能です。炉内では、規定のガス流量を確保するために、わずかな過圧または制御された分圧を使用することができます。空気での運転はできません。 様々な投与装置および制御装置がすべてのガスを制御します。要求される真空度に応じて、真空ポンプは用途に応じて、あるいは要求に応じて特別に構成されます。最高の均一性を実現するために、温度は独立して制御されます。 アプリケーション例 annealing, ...
温度: 2,200, 3,000 °C
容量: 1.5, 10 l
幅: 1,900 mm
LHT電気炉の円筒形チャンバーは発熱体と断熱材によって囲まれており、それらが水冷容器に収められています。LHTは省スペース設計で、小さなサンプルにとって理想的な構造です。 炉体、ソフトウェア制御盤を含む電子キャビネットの全てのシステムが単一のフレームに固定されています。フレームにはキャスターが取り付けてあり、容易に移動することが出来ます。このような特徴から、LHTは大学や産業研究所のような事業領域に最適です。 省スペース設計と簡単な操作により、温度均一性や高品質なガス雰囲気を損ねることなく費用対効果の高いシステムを実現しています。円筒形チャンバーは加圧熱処理プロセスにも対応し、要求に応じて100barまでの範囲で安全に動作させるためのインターロック機構を含む必要な装備を搭載することが出来ます。 LHTGはグラファイト製の発熱体と断熱材を使用し、パイロメーターにより温度制御されます。過熱防止用熱電対は無人運転時に強く推奨されるオプションです。アルゴン雰囲気下での最高温度は3000℃であり、このような高温での測温はパイロメーターにより行われますが、低温は検出できないため高温になったときにスライドアウトする熱電対と組み合わせて使用されます。 アプリケーション例 ろう付け, ...
温度: 2,800, 1,700, 1,600, 1,100 °C
容量: 12, 8, 5, 4 l
... 製品情報 大気制御チャンバー炉は、金属製品の製造、熱処理、焼結溶融、老化、熱試験、粉末合成などの保護環境が必要な場合に好まれます。 MSE炉は、アルゴン、窒素、真空、水素などの大気条件下での熱処理のための大気制御チャンバー炉を設計し、製造しています。 炉のキャビンは水冷です。 炉のキャビンは、加熱要素と温度に応じて選択された高品質のアルミナ耐火物で構成されています。 , より良い真空と金属サンプルの動作のために黒鉛炉を確認し、お問い合わせください. 標準機能 •デジタルディスプレイによるプログラム可能なステップコントローラ ...
温度: 2,200, 1,800, 1,700, 1,600, 1,100 °C
容量: 4 l - 45 l
... 製品情報 大気制御リフト底炉は、金属製品の製造、熱処理、焼結溶融、老化、熱試験、粉末合成などの保護環境が必要な場合に好まれます。 MSE炉は、アルゴン、窒素、真空、水素などの大気条件下での熱処理のための大気制御リフト底炉を設計し、製造しています。 当社は、プロセスに応じて大気制御リフトボトム炉のための他の形状よりも安定している円筒形の雰囲気キャビンを使用しています。 炉のキャビンは水冷です。 炉のキャビンは、加熱要素と温度に応じて選択された高品質のアルミナ耐火物で構成されています。 ...
温度: 0 °C - 3,000 °C
... 当社のタングステンホットゾーンと2200° C（3992° F）との最高温度 3000° C（5432° F）の工業用真空炉は、真空中での動作と私たちのグラファイトホットゾーンです。 異なるサイズのホットゾーンとポンプシステムで利用可能です。 ベース真空炉は、10-2 Torr（mbar）までの真空レベルの避難システムと、アルゴンでの運転のための不活性ガスシステムを標準装備しています。 荒削りポンプのオプションのブロワーは、操作圧力を10-3 Torr (mbar) ...
Materials Research Furnaces
温度: 1,650, 2,200, 2,300, 2,600 °C
... 当社の15トン（133 KN）ホットプレス炉は、より大きなチャンバーとホットゾーンサイズで利用可能で、より大きなフレームに収容されています。 フレームは、当社の5および10トンのホットプレス炉と比較して、より高い力と大きなサンプルを処理することができます。 温度と材料の仕様は、HP 5-10 Ton モデルに似ています。プレスロッドが取り付けられている場合は最大 2300° C、バッチ構成では 2600° C です。 直径 4インチ x 高さ8インチ (101mm ...
Materials Research Furnaces
温度: 2,600, 2,300, 2,200, 1,650 °C
... 当社の25 — 100トンのホットプレス炉は、より大きなチャンバサイズを備え、25 ～ 100トンの大きな4ポストフレームに収められています。 増分プレスサイズは25、50、75、100トンです。 これらのモデルでは、サンプルまたはダイサイズを増やすために、6インチ（152mm）のトラベルをご用意しています。 温度と材料の仕様は、小型のHot Pressモデルに似ています。プレスロッドが取り付けられている場合は最大 2300 ℃、バッチ構成では2600 ℃ ...
Materials Research Furnaces
温度: 1,600, 1,100, 1,800, 1,700 °C
容量: 3.9 l - 15.8 l
幅: 89, 93 cm
... ACFシリーズ炉は、制御された雰囲気条件下での大容量製品の研究およびプロセス用に特別に設計された炉です。 ACFシリーズの標準炉は1100°Cから1800°Cまでの範囲をカバーし、さらに標準装備のオプションもあります。 グラファイトを含む異なる発熱体を使用することで、異なるガスの使用が可能です。 本機は亜鉛メッキコーティングで覆われたエポキシ塗装の構造で、長寿命と美観を提供します。 システムの特徴 横開きドア 炉と分離または統合した制御システム 高度なプログラマブルコントローラー ...
温度: 3,000, 2,400 °C
容量: 9.5, 2.5 l
幅: 1,300, 1,400, 1,500 mm
SVHT シリーズのレトルト炉は VHT機種 (62 ページ以降) と比較して、真空度や最高温度の性能が更に優れています。タングステンヒーターを装備した SVHT ..-W シャフト炉は、高真空度でも最高温度 2400 ℃のプロセスが可能です。黒鉛ヒーターを装備したシャフト炉 SVHT ..-GR 機種は希ガス雰囲気では最高温度 3000 ℃のプロセスも可能です。 • 標準型炉室容量は 2 または 9 リットル • 上から装入するシャフト炉 • ステンレスプレートを組み込んだフレーム構造 • ...
温度: 1,200 °C - 2,400 °C
容量: 2 l - 500 l
幅: 1,250 mm - 3,200 mm
VHT シリーズのコンパクトなレトルト炉は、黒鉛, モリブデン、タングステンまたは MoSi2 加熱のある電気加熱式チャンバー炉として設計されています。さまざまな加熱コンセプトと幅広いアクセサリーによって、これらのレトルト炉は技術的に厳しい要件のプロセスにも対応します。 密閉型レトルトは、炉仕様に従って、保護/反応ガス雰囲気下、または、真空での最大 10-5 mbar までの熱処理プロセスに対応します。基本炉は、不燃性保護ガスまたは反応ガスを使用する運転、あるいは、真空下での運転に適しています。H2を使用すれば、水素またはその他の可燃性ガス下で運転できます。このタイプの中核である認証されたセーフティパッケージが、常に安全運転を確保して、エラー発生時には緊急時用のプログラムが作動します。 その他の加熱仕様 通常、異なるプロセス要件では次のモデルを使用できます: 黒鉛断熱および加熱のある ...
温度: 1,300, 1,400, 1,000 °C
容量: 0.8, 3, 1.5 l
幅: 600, 670, 570 mm
このコンパクトな可傾炉は非鉄金属と特殊合金の溶解用です。数多くの技術的な優位性を備える比類ない製品です。卓上型モデル設計。数々のラボラトリー用途に対応します。緩衝装置のある実用的な傾斜補助と炉の前方に取り付けられたローンダー（KC 4/14 を除く）が、溶解材料の投入量の精確な調節を容易にします。溶解炉は炉室温度 1000 °C、1300 °C、または、1400 °C 向けがあります。 • 外気温を低温に保つためさらに冷却するステンレス圧延板からなる二重壁構造の ...
温度: 1,000 °F - 2,000 °F
幅: 12 in
高さ: 12 in
... Mentor®、モデルHFL-2018-2IQは、一般的に小中規模の炉負荷に効率的かつ経済的に対応するために設計・開発された、水平型の前面搭載型コンパクト真空熱処理・ロウ付け炉です。電気抵抗発熱体を用いた高温・高真空・バッチ式炉です。Mentor®は単一の可搬型プラットフォームに搭載され、出荷と操作性が容易です。熱処理、焼入れ、ろう付け、応力除去、焼きなまし、焼き戻し、焼結、均質化、脱ガス、拡散接合、クリープ成形などに対応する設計になっています。 特長とメリット 容易なメンテナンスと最小限のダウンタイムのために設計 ホットゾーン測定12 ...
温度: 1,400 °C - 1,820 °C
容量: 4 l - 52.5 l
... ろう付け、焼成、校正、結晶成長、焼成、宝石の熱処理、溶融、酸化、還元、焼結 最も重要な特徴 MoSi2、モリブデン、タングステンまたはグラファイトヒーターによる抵抗加熱 チャンバー炉 ガス密閉 最高使用温度 2100 °C 高品質のセラミックファイバー、グラファイトフェルトまたは多孔質アルミナレンガの組み合わせによる断熱 極めて短い昇温・冷却サイクル 高いエネルギー効率 カスタマイズのための幅広いオプション 高品質 - ドイツ製 簡単な取り扱い 私たちはそれを可能にします： リン・ハイサームは、お客様のご要望に合わせた製品の開発を得意としています。標準的な製品以外に、ご要望があればお知らせください。お客様のご希望に添えるよう、全力を尽くします。 私たちはそれを可能にします： Linn ...
Linn High Therm
... SC-1600 Czochralski単結晶成長炉は、不活性雰囲気中で黒鉛抵抗加熱器を介してシリコン材料を溶解し、CZ法により無転位単結晶シリコンインゴットを自動的に成長させることができます。市場で最もポピュラーなインゴットサイズでソーラーグレードのインゴットを製造することができ、炉の熱フィールドは40インチまで対応しています。 強い互換性 1600単結晶成長炉は、様々なサイズの熱電場に対応しています（最大40インチまで）。 柔軟なマッチング CCZ/OCZ ...
温度: 1,250, 1,350, 1,500 °C
... BMI 真空炉 B5_T シリーズは、高い冷却速度を必要としない主な高温熱処理用に設計されています（装置には最大 2 bar abs の高圧をかけることが可能）。これらの炉は特に真空アニールやエージング、またロウ付けや焼結の用途に適しているでしょう。 B5_TM 真空炉は MIM (Metal Injection Molding) 真空焼結用 B5_T 真空炉をベースに特別設計されています。このB5_TM真空炉は、1500℃までの高温動作に対応したオーバーサイズポンプユニットに加え、焼結する合金の感度に応じて、100%グラファイトまたは金属断熱材（モリブデンシールドとステンレスシールドの重ね張り）を選択することができるようになります。 この装置は、ろう付け、焼結、特殊合金の脱ガス、MIM、焼きなまし、時効処理、ホウ酸処理、アルカーブ低圧浸炭などの真空処理に最適なオプションが選択できます。 BMICROは小荷重の処理に経済的な選択肢であり、VSE8_Tは大荷重の処理に推奨されます。 追加オプション ポンプユニット ...
B.M.I. Fours Industriels
温度: 1,600 °C - 1,700 °C
... コールドブラスト・キュポラ： 珪質ライニングのガンニング 長期運転用のホットブラストキューポラ： アルミナ製ライニングまたはライニングなしの水冷ケーシング。 羽口以下 炭化ケイ素および黒鉛を使用した耐火物製品。 ...
INSERTEC INDUSTRIAL FURNACES INSERTEC, S.L.U.
... 貴金属横型連続鋳造機 システムの特徴 削り出し黒鉛るつぼ。 最小スペースでコンパクトな構造。 調整可能な冷却水 鋳造速度mm/分のデジタルカウンター。 連続鋳造機 Conticast® RP シリーズは、銀、洋白、金、その他の貴金属の棒状、管状、切片状、帯状の製造に使用されます。 RP型鋳造機は、コイン、メダル、宝飾品、歯科用合金、ろう付け用合金などの半仕上げ形状の製造に特に有用です。 連続鋳造機の Conticast® RP シリーズは、通常、溶解機/鋳造機の複合機として使用されます。 ...
HORMESA CONTICAST HORNOS Y METALES S.A.
... 製鉄所のタンディッシュ加熱のために、INDUGAはプラズマアークを使用して溶融物の温度を維持する加熱システムを提供しています。 用途に応じて、DCまたはAC電源で作動するシステムには、水冷金属トーチまたは特殊グラファイト電極が装備されています。プラズマアークはアルゴンで安定化されます。複数のトーチを使用する場合、床電極は通常不要です。 優れた温度制御と浸炭のないクリーンな加熱は、どのような場合でも保証されます。 ...
... 焼結炉 の鉄金属粉末の金型を押すと、複雑な機械的要素の構築が行われます。これは焼結熱処理です。 このような粉末は、以前、グラファイト、銅、クロム、ニッケルなどの他の成分と混合され、焼結が発生すると、一緒に合金を形成する。 処理されるアイテム 同様の生産は、ブッシング、大理石を切断するためのダイヤモンド真珠、花崗岩、コンクリートなど、他の金属材料を含む粉末でできています。 連続焼結炉 最も使用される焼結炉は、制御された雰囲気を有する連続的なタイプである。 それらは、基本的なバージョンで、バインダー除去のためのプレチャンバ、高温ゾーンおよび冷却ゾーンを提供する。 ...
温度: 0 °C - 1,050 °C
... フレキシブルに使えるLPE装置 SOFオプトエレクトロニクスESY-10 Conceptの特長は、高い生産能力と、様々なLPE生産技術への柔軟な対応力です。5回溶融プロセスで50枚、1回溶融プロセスで200枚という能力は、本装置の高いポテンシャルを表しています。 産業用標準装置ESY-10に加え、お客様のご要望に応じた豊富なオプションをご用意しています。ESY-10は、特に研究機関や大学のニーズに対応することができます。 ESY-10は1台または2台のシステムとして設計することができ、クリーンルームの設置面積を小さくすることができます。 利用可能な製造技術 標準赤外線 パワー赤外線 パワーIR ...
... I.G.M.シリーズ炉は、熱容量が非常に高く、最高の加熱品質で高時間生産が可能なシリーズとして特徴的な製品です。I.G.M.炉は3または4トラックタイプで、限られたスペースでも高い生産性が得られるように設計されています。熱間鍛造の進化に伴い、温度均一性と生産速度の面で炉の品質特性が向上しています。このような要求に応えるため、本シリーズでは高度な温度検出・調整システムを採用しています。I.G.M.炉は、1桁、2桁、4桁の自動スタンピングを行う新世代のプレス機械に対応するよう設計されています。 特定の製品要求に応じた豊富なオプションが用意されています。これらの炉は、極めて多様な用途に対応でき、伝導が単純であることが特徴です。最小の外形寸法で最大の生産性を実現するよう設計されており、生産量の増加に伴う使用可能なスペースへの制限という、ますます多くのニーズを解決します。 温度調節は比例変調方式で、温度均一性はプリセット値の±0.5%です。入口と中央ゾーンは熱電対で、出口ゾーンは光学式パイロメーターでチェックします。加熱室天井に設置されたバーナーとトラック上の炎による直接加熱。耐火物上ではなく、鋼鉄の棒の上に軌道を設置します。これにより、軌道上の熱伝達がより均一になり、部品の酸化を抑え、黒鉛の特徴を維持し（使用した場合）、軌道の曲がりが少なく長持ちし、加熱室の炉の清掃が容易になります。 ...
... 電気精製炉 1、適用範囲 有機廃ガスの流量は200NM3/h未満です。一般的な排気ガス濃度は5000mg/NM3以上です。 2、応用領域 有機廃ガス、例えば軟磁性フェライト排水のプロセス、酸化亜鉛バルブ切断、黒鉛負極焼結プロセス、電子部品の焼結プロセスなど。最後に、排ガスにより無臭・無煙浄化効果を実現し、国家排ガス基準より優れている。 3、設備の特徴 1、顧客のさまざまなニーズに応じて、排気量と排気ガス濃度、私たちは有機廃ガスの電気加熱と浄化装置を設計し、現場での労働条件を満たす。に ...
温度: 1,200, 1,400 °C
... 正確に定義された質量の地金棒を溶かすための誘導炉。 正確に計量された材料を所望の形状のダイに注ぎ、可能な限り短時間で電磁界によって溶融する。 温度測定はグラファイトダイの中央で行われ、Kタイプの熱電対によって行われます。 AFI-03BC-2モデルには、デバイスの連続動作を保証する低いダイフィーダが装備されています。 このソリューションでは、インダクタはチャンバの下部に配置され、電磁界は上部ダイに作用します。 AFI-03BC-1モデルの場合、ダイはインダクタチャンバの上に手動で配置され、フィールドはダイの底面に影響を与えます。 ...
詳細をお書きください:
サ－ビス改善のご協力お願いします:
残り