黒鉛炉

温度: 1,250 °C

... ケースマスター エボリューション(CMe)は、航空宇宙、自動車、機械製造、ベアリング、商業熱処理など様々な産業における幅広いLPCアプリケーションに対応する新世代の密閉焼入れソリューションです。 ケースマスターエボリューションには2つのタイプがあります： / Dタイプと呼ばれる2室炉は、1室が処理用、もう1室がオイルまたはガス冷却用の2つのチャンバーを備えています。 / T タイプと呼ばれる三室炉では、D タイプと同じチャンバーに加え、PreNitLPC®と併用することでより迅速な処理が可能な第三の予備加熱・予備酸化チャンバーが装備されます。冷却はガス焼入れまたはオイル焼入れの2つの方法があります。 高効率のオイルクエンチは、ワークへのオイルの浸透を確実にする撹拌システムを備えており、ワークの均一かつ迅速な冷却を実現します。ガスシステム、ポンプシステム、電源および冷却システムは、幅広い工業用熱処理を可能にする余裕のあるサイズです。 主な特長 / ...

... CVI（化学気相浸透）炉は、気相から炭素を飽和させることによってグラファイトなどの炭素材料を製造する技術であるCVIプロセスで使用される特別なソリューションである。 CVI炉は、多孔質材料への炭素層の制御された堆積を可能にするように設計されている。 CVI装置は、化学パラメーターと温度パラメーターが制御され、基板上に炭素層を堆積させるリアクターまたは反応チャンバーから構成される。 CVIは、炭素材料（通常は多孔質構造体）を気相中で飽和または含浸させるプロセスである。CVIプロセスでは、メタンやアセチレンなどの炭素質ガスを使用し、反応器内で反応させて基材表面に炭素堆積物を形成する。 CVI技術は、高性能車、スポーツカー、電気自動車、高級車用のカーボン製ブレーキディスクの製造に使用されている。ブレーキディスク製造の場合、このプロセスは、効果的なブレーキングに不可欠な、卓越した強度と低重量を備えた構造を作り出すことを可能にする。このプロセスを正確に管理することにより、CVIを使用して製造されたブレーキディスクは、優れた高温耐性、最小限の摩耗、優れた摩擦特性を有し、安全で効率的な車両の制動を保証します。 ...

... CVD(化学気相成長)炉は、CVDプロセスで使用される特殊な炉で、気相中の化学反応によってコーティングを製造する技術であり、例えばMTS(CH3SiCl3-メチルトリクロロシランガス)から製造される。 CVD装置は、被処理物の表面に材料を制御しながら蒸着できるように設計されている。 CVD装置には反応チャンバーがあり、プロセスガスの温度、圧力、化学組成などのパラメータが制御される。 CVDは、気相での化学反応によって基材表面にコーティングを生成する技術である。 化学蒸着プロセス（CVD）は、例えば、保護コーティング（工具穴あけ）の製造に使用される技術である。CVD炉は工具に保護層を形成し、耐久性、強度、加工効率を向上させる。CVDプロセスでは、化学反応によって工具表面に層が堆積し、その特性が向上します。これらのコーティングは、耐摩耗性、耐高温性、耐腐食性に優れ、工具寿命の延長や工業生産時の効率向上につながります。 ...

温度: 2,200 °C
容量: 8 l - 600 l
幅: 1,300, 2,500, 2,300, 2,100, 1,900 mm

... グラファイト炉 HTK GRは低/高真空、窒素やアルゴンといった保護ガス、水素や一酸化炭素のような反応性ガスを使用することが出来ます。グラファイト炉 HTK GRはグラファイト製断熱材のため酸素雰囲気下で使用することは出来ません。 前面ドア付きの長方形チャンバ設計により、サンプルのロード、アンロードが容易です。HTK GRは6容量から選択できます。最小サイズの8L、中容量の25Lは研究室やR＆Dに最適です。80L、220L、400L、600Lのタイプはパイロットプラント用、または生産用システムとして使用できます。 HTK ...

温度: 2,200 °C
容量: 50, 80, 200 l
幅: 2,400 mm

... HTBLタイプの炉の明確な利点は、装填と取り出しが容易なことです。ハースが下がると、サンプルは制限なく全方向からアクセスできます。特にデリケートなサンプルの装填は非常に簡単でユーザーフレンドリーです。また、試料の熱電対を炉内の所定の位置に設置することができます。HTBLではレトルトも使用できます。ローディングエリアの移動は、油圧アームによって完全に自動化されています。ローディングエリアが最も低い位置に到達した後、ユーザーは手動でローディングプラットフォームを外側に90°回転させることができます。 窒素ガス、アルゴンガス、水素ガスは、純ガスまたは混合ガスとして使用できます。ご要望に応じて他のガスを導入することも可能です。炉内では、規定のガス流量を確保するために、わずかな過圧または制御された分圧を使用することができます。空気での運転はできません。 様々な投与装置および制御装置がすべてのガスを制御します。要求される真空度に応じて、真空ポンプは用途に応じて、あるいは要求に応じて特別に構成されます。最高の均一性を実現するために、温度は独立して制御されます。 アプリケーション例 annealing, ...

温度: 2,200, 3,000 °C
容量: 1.5, 10 l
幅: 1,900 mm

... LHT電気炉の円筒形チャンバーは発熱体と断熱材によって囲まれており、それらが水冷容器に収められています。LHTは省スペース設計で、小さなサンプルにとって理想的な構造です。 炉体、ソフトウェア制御盤を含む電子キャビネットの全てのシステムが単一のフレームに固定されています。フレームにはキャスターが取り付けてあり、容易に移動することが出来ます。このような特徴から、LHTは大学や産業研究所のような事業領域に最適です。 省スペース設計と簡単な操作により、温度均一性や高品質なガス雰囲気を損ねることなく費用対効果の高いシステムを実現しています。円筒形チャンバーは加圧熱処理プロセスにも対応し、要求に応じて100barまでの範囲で安全に動作させるためのインターロック機構を含む必要な装備を搭載することが出来ます。 LHTGはグラファイト製の発熱体と断熱材を使用し、パイロメーターにより温度制御されます。過熱防止用熱電対は無人運転時に強く推奨されるオプションです。アルゴン雰囲気下での最高温度は3000℃であり、このような高温での測温はパイロメーターにより行われますが、低温は検出できないため高温になったときにスライドアウトする熱電対と組み合わせて使用されます。 アプリケーション例 ろう付け, ...

温度: 0 °C - 3,000 °C

... 工業用真空炉は、タングステンホットゾーンでは最高温度3000 °C、グラファイトホットゾーンでは最高温度2200 °Cの真空炉です。様々なサイズのホットゾーンおよびポンプシステムをご利用いただけます。 ベース真空炉には、10-2 Torr (mbar) までの真空レベルに対応する排気システムと、アルゴン雰囲気での運転に対応する不活性ガスシステムが標準装備されています。 オプションの荒引きポンプのブロワーにより、運転圧力は10-3 Torr (mbar) まで下がります。拡散ポンプシステム、ターボポンプシステム、極低温システムなどの高真空システムは、さらにチャンバー圧力を10-10 ...

温度: 1,650, 2,200, 2,300, 2,600 °C

... 当社の15トン（133 KN）ホットプレス炉は、チャンバーとホットゾーンのサイズが大きく、大きなフレームに収納されています。このフレームは、当社の5トンおよび10トン熱間プレス炉と比較して、より大きな力とより大きな試料に対応できます。温度と材料の仕様はHP 5-10トンモデルと同様です：プレスロッドを取り付けた状態で最高 2300°C、バッチ構成では 2600°C。 直径 4 インチ x 高さ 8 インチ (101 mm x 203 mm) のホットゾーンに加え、直径 8 インチ x 高さ 10 ...

温度: 2,600, 2,300, 2,200, 1,650 °C

... 当社の25～100トン熱間プレス炉は、チャンバーサイズが大きく、25～100トン定格の大型4本柱フレームに収納されています。プレスサイズは25トン、50トン、75トン、100トンです。 6インチ（152 mm）の移動が可能で、サンプルサイズや金型サイズを大きくすることができます。 温度と材料の仕様は小型ホットプレスと同様で、プレスロッドを取り付けた状態で最大2300℃、バッチ構成では2600℃です。 直径12インチ x 高さ12インチ（305 mm x 305 mm）の使用可能ゾーンが標準ですが、他のサイズも可能です。 温度プロファイルは、必要に応じて、プレス力またはトラベルコントロールプロファイルと自動的に同期させることができます。また、あらかじめ設定されたプレス荷重に達すると、トラベル制御から荷重制御へ切り替わるようにプロファイルを設定することもできます。温度制御は熱電対および/またはパイロメーターによって確立されます。炉は生産用のバッチ炉に容易に転換できます。 一般仕様 ホットゾーンのサイズ：直径12インチ ...

温度: 2,800, 1,800 °C
容量: 4 l - 45 l
幅: 140 mm - 360 mm

... 大気制御リフトボトム炉は、金属製品の製造、熱処理、焼結、溶解、エージング、熱試験、粉末合成など、保護環境が要求される場合に使用されます。このような要求から、MSEはアルゴン、窒素、真空、水素などの保護雰囲気下で熱処理を行う大気制御リフトボトム炉を設計・製作しています。 MSE Furnaceはまた、プロセスに応じて大気制御リフトボトム炉のための他の形状よりも安定した円筒形の雰囲気キャビンを使用しています。さらに、雰囲気制御炉は水冷式です。そのため、水冷システムの圧力、炉内温度、炉内気圧、インテリジェントシステムはユーザーによって監視され、プロセスの安全性を確保します。また、炉内は発熱体や高品質アルミナ耐火物で構成され、温度に応じて選択されます。リフトボトムにより、重量のある大型試料を容易に炉底に載せることができます。 調整可能な手動式ガス流量計、高圧リリーフシステム、過昇温警報装置、真空ポンプが標準装備されています。水素雰囲気についてはお問い合わせください。 標準装備 ...

温度: 2,800, 1,700, 1,600, 1,100 °C
容量: 12, 8, 5, 4 l

... 製品情報 大気制御チャンバー炉は、金属製品の製造、熱処理、焼結溶融、老化、熱試験、粉末合成などの保護環境が必要な場合に好まれます。 MSE炉は、アルゴン、窒素、真空、水素などの大気条件下での熱処理のための大気制御チャンバー炉を設計し、製造しています。 炉のキャビンは水冷です。 炉のキャビンは、加熱要素と温度に応じて選択された高品質のアルミナ耐火物で構成されています。 , より良い真空と金属サンプルの動作のために黒鉛炉を確認し、お問い合わせください. 標準機能 •デジタルディスプレイによるプログラム可能なステップコントローラ ...

温度: 1,800 °C
容量: 43 l
幅: 350 mm

... 大気制御リフトボトム炉は、金属製品の製造、熱処理、焼結、溶解、エージング、熱試験、粉末合成など、保護環境が要求される場合に使用されます。このような要求から、MSEはアルゴン、窒素、真空、水素などの保護雰囲気下で熱処理を行う大気制御リフトボトム炉を設計・製作しています。 MSE Furnaceはまた、プロセスに応じて大気制御リフトボトム炉のための他の形状よりも安定した円筒形の雰囲気キャビンを使用しています。さらに、雰囲気制御炉は水冷式です。そのため、水冷システムの圧力、キャビン温度、内部気圧、インテリジェントシステムはユーザーによって監視され、プロセスの安全性を確保します。調整可能なガス流量計、高圧リリーフシステム、過昇温アラーム、真空ポンプが標準装備されています。リフトボトムにより、重量のある大型試料を容易に炉底に載せることができます。 炉の加熱キャビンは黒鉛発熱体と黒鉛断熱材で構成され、温度と用途に応じて選択されます。グラファイトエレメントで構成された雰囲気制御式リフトボトム炉は、無酸素状態の金属試料を扱うのに理想的な条件を提供します。 標準機能 ...

温度: 1,600, 1,100, 1,800, 1,700 °C
容量: 3.9 l - 15.8 l
幅: 89, 93 cm

... ACFシリーズ炉は、制御された雰囲気条件下での大容量製品の研究およびプロセス用に特別に設計された炉です。 ACFシリーズの標準炉は1100°Cから1800°Cまでの範囲をカバーし、さらに標準装備のオプションもあります。 グラファイトを含む異なる発熱体を使用することで、異なるガスの使用が可能です。 本機は亜鉛メッキコーティングで覆われたエポキシ塗装の構造で、長寿命と美観を提供します。 システムの特徴 横開きドア 炉と分離または統合した制御システム 高度なプログラマブルコントローラー ...