材料加工用レーザー システム
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出力: 5,000, 1,000 W
波長: 1,070 nm
... 概要
デュアルモードファイバーレーザは、シングルモードとマルチモードの出力を単一の光ファイバに統合し、大小のスポットサイズを素早く切替可能にします。高スループットの金属積層造形、焼結、溶接用途向けに設計されており、プロセスの柔軟性と生産性向上のために出力配分やビーム特性をリアルタイムで制御できます。
主な特徴
- 1本のファイバからシングルモードとマルチモード出力を切替 — 外部可動光学素子なしで2種類のスポットサイズを実現
- アジャスタブルモード技術によりスポットサイズの光学的切替がほぼ瞬時に可能(<50
出力: 600 W
波長: 213, 266, 355, 532, 1,064 nm
NL200シリーズは、kHzの繰り返し周波数で高いパルスエネルギーを実現するために設計された、コンパクトで空冷のQスイッチDPSSナノ秒レーザーです。そのエンドポンプ設計により、コンパクトさとさまざまな産業および研究開発用レーザー機器への容易な統合が保証されます。短いナノ秒パルス持続時間、可変繰り返し周波数、および外部TTLトリガーを備えたNL200シリーズは、材料加工、LCDおよびOLEDディスプレイパネルの修理、アブレーション、マーキング、彫刻、レーザークリーニング、レーザー堆積など、より高いパルスエネルギーを必要とするアプリケーションに最適でコスト効果の高いソースです。このレーザーは、532 ...
EKSPLA
出力: 5,000, 6,000, 8,000 W
波長: 266, 355, 532, 1,064 nm
... NanoFlux SLMシリーズは、高エネルギーで単一モード(SLM)のQスイッチNd:YAGレーザーで、要求の厳しいアプリケーション向けに設計されています。これらのエレクトロオプティカルQスイッチナノ秒レーザーは、パルスあたり最大10 Jを提供し、OPO、OPCPA、または色素レーザーのポンピング、ホログラフィー、LIF分光法、リモートセンシング、光学試験などに適しています。
特徴
- 最大10 Jのパルスエネルギー
- 2〜25 nsのパルス持続時間
- 10
EKSPLA
出力: 6,000, 9,000, 13,000 W
波長: 355, 532, 1,064 nm
... NanoFlux AWGシリーズは、時間的に成形された高エネルギーNd:YAGレーザーで、先進的な科学および産業用途向けに設計されています。これらのレーザーの主な特徴は、プログラム可能な任意波形発生器(AWG)によって駆動される電気光学変調器を介して、出力パルスを時間的に成形する能力です。
特徴
- 高エネルギーナノ秒レーザー
- 時間的に成形されたパルス
- 最大10 Jのパルスエネルギー
- 10 Hzのパルス繰り返し率
- パルス成形用の任意波形発生器
- 0.15
EKSPLA