パルスレーザー システム NanoFlux SLM
ナノ秒Q switch固体

パルスレーザー システム - NanoFlux SLM - EKSPLA - ナノ秒 / Q switch / 固体
パルスレーザー システム - NanoFlux SLM - EKSPLA - ナノ秒 / Q switch / 固体
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特徴

操作方法
パルス, ナノ秒, Q switch
光源
固体
スペクトル
赤外線, 可視, 紫外線
応用
分光学用, ホログラフィ用, 材料加工用, 研究用, 計装, ポンプ
その他の特徴
高エネルギー, 単一縦モード, シングルモード, Nd:YAG, ダイオード ポンプ式
出力

5,000 W, 6,000 W, 8,000 W

波長

266 nm, 355 nm, 532 nm, 1,064 nm

詳細

NanoFlux SLMシリーズは、高エネルギーで単一モード(SLM)のQスイッチNd:YAGレーザーで、要求の厳しいアプリケーション向けに設計されています。これらのエレクトロオプティカルQスイッチナノ秒レーザーは、パルスあたり最大10 Jを提供し、OPO、OPCPA、または色素レーザーのポンピング、ホログラフィー、LIF分光法、リモートセンシング、光学試験などに適しています。

特徴
  • 最大10 Jのパルスエネルギー
  • 2〜25 nsのパルス持続時間
  • 10 Hzのパルス繰り返し率
  • ダイオードポンプ、自己シード単一縦モード(SLM)マスターオシレーター
  • 安定したマスターオシレーターキャビティがTEM₀₀空間モード出力を生成
  • 優れたパルスエネルギー安定性
  • コスト効果の高いフラッシュランプポンプパワーアンプ
  • 標準2 nsのパルス持続時間(2〜25 nsオプション)
  • 温度安定化ハーモニクスジェネレーターオプション
  • 付属のWindows制御ソフトウェアを使用したキーパッド、USB、LANインターフェースによる制御(RS232オプション)


アプリケーション
  • 材料加工
  • OPO、OPCPA、Ti:Sapphire、色素レーザーポンピング
  • ホログラフィー
  • 非線形レーザー分光法
  • 光学試験


説明
  • 革新的なダイオードポンプ、自己シードマスターオシレーター設計により、外部の狭線幅シードダイオードやキャビティロック電子機器なしでSLM出力を実現。
  • 安定したマスターオシレーターキャビティがTEM₀₀空間モード出力を保証し、増幅後の優れたビーム特性を実現。
  • 滑らかでガウスに近いビームプロファイルを必要とするアプリケーション向けに、改善されたガウスフィットを備えたモデルが利用可能。
  • 線形アンプは、高エネルギーナノ秒システムに対するコスト効果の高いソリューションを提供し、滑らかでホットスポットのない空間プロファイルのための高度なビームシェーピングを実現。
  • 低光デポラリゼーションにより、オプションの内蔵ハーモニクスジェネレーターを使用して最大4次ハーモニクスの効率的な生成が可能。
  • 温度安定化ヒーター内の角度調整された非線形結晶ハーモニクスジェネレーターは、2次、3次、4次ハーモニクスの生成に使用され、高いスペクトル純度と手動またはオプションのモーター駆動波長切り替えを提供。
  • Qスイッチトリガーに対する低光学パルスジッターにより、外部機器との信頼性の高い同期が可能。
  • システム制御は、制御パッド、USB、LAN、およびオプションのRS232を介して利用可能で、Windows互換ソフトウェアを使用。


オプション
  • – G: ガウスに似たビームプロファイルを提供(基礎の出力エネルギーを約80%削減)
  • – AW: 空気-水冷却オプション(水-水冷却ユニットを置き換えるか補完する; 熱放散は総電力消費に等しい)
  • – N2…N25: より長いパルス持続時間オプション(2〜25 nsの範囲)


仕様
  • モデル: NanoFlux N2k10-SLM, NanoFlux N5k10-SLM, NanoFlux N10k10-SLM
  • 出力エネルギー: 1064 nmで: 2000 mJ / 5000 mJ / 10000 mJ; 532 nmで: 1000 mJ / 2500 mJ / 5000 mJ; 355 nmで: 450 mJ / 1300 mJ / 2500 mJ; 266 nmで: 140 mJ / 750 mJ / 1500 mJ
  • パルス繰り返し率: 10 Hz
  • パルス持続時間: 2 ± 0.5 ns(他の持続時間2〜25 nsオプション)
  • パルスエネルギー安定性: 1064 nmで: ≤ 0.8 %; 532 nmで: ≤ 1.5 %; 355 nmで: ≤ 3 %; 266 nmで: ≤ 4 %
  • 長期電力ドリフト: ± 2 %
  • ビーム空間プロファイル: スーパーガウス
  • M²: 4.4 / 6.6 / 9.2(モデルによる)
  • ビーム直径: ~12 mm / ~18 mm / ~25 mm
  • ビーム指向安定性: ≤ 25 µrad
  • ビーム発散: ≤ 0.5 mrad
  • 光学パルスジッター: ≤ 0.2 ns
  • 線幅: ≤ 0.01 cm⁻¹(SLM)
  • 偏光: 線形, >90 %
  • レーザーヘッドサイズ(W×L×H mm): 455 × 1220 × 270 / 600 × 1500 × 300 / 700 × 2000 × 300
  • 電源サイズ(W×L×H mm): 550 × 600 × 1030(または大きなモデル用に2ユニット)
  • アンビリカル長: 5 m
  • 電力要件: 208, 380または400 V AC、三相、50/60 Hz
  • 電力消費: ≤ 5 kVA / ≤ 6 kVA / ≤ 8 kVA
  • 水供給: ≤ 5 l/min, 2 Bar, max 15 °C / ≤ 7 l/min / ≤ 10 l/min(モデルによる)
  • 動作環境温度: 22 ± 2 °C
  • 保管環境温度: 15–35 °C
  • 相対湿度(結露なし): ≤ 80 %
  • 部屋の清潔さ: ISOクラス7


注意: レーザーは常に主電源に接続されている必要があります。1時間以上切断された場合、再起動する前に数時間のウォームアップ期間が必要です。

カタログ

*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。