ナノ秒レーザー システム NanoFLux MM
Q switchポンプ分光学用

ナノ秒レーザー システム - NanoFLux MM - EKSPLA - Q switch / ポンプ / 分光学用
ナノ秒レーザー システム - NanoFLux MM - EKSPLA - Q switch / ポンプ / 分光学用
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特徴

操作方法
ナノ秒, Q switch
応用
分光学用, ポンプ
その他の特徴
コンパクト, 高エネルギー, マルチモード, Nd:YAG, チタン サファイヤ
出力

5,000 W, 6,000 W, 7,000 W, 8,000 W

波長

266 nm, 355 nm, 532 nm, 1,064 nm

詳細

NanoFLux MMシリーズは、1064nmで高エネルギーのナノ秒パルスを供給するように設計された高エネルギーマルチモードQスイッチNd:YAGレーザです。これらのレーザは、高パルスエネルギー、優れたパルス間エネルギー安定性、優れたビーム品質を提供し、OPOやチタンサファイアポンプ、材料加工、プラズマ診断などのアプリケーションに最適です。 特徴
  • 高エネルギーナノ秒レーザー
  • 最大10 Jのパルスエネルギー
  • 5 nsのパルス持続時間(オプションで20 nsまで使用可能)
  • 10または20 Hzのパルス繰り返し周波数
  • 0.5%RMSパルスエネルギー安定性
  • M²90までのバージョンあり
  • 最大パルスエネルギー抽出のための高効率ポンプチャンバーと高度なビーム成形
  • レーザー出力での滑らかなビームプロファイルのための増幅器ステージ間のリレーイメージング
  • 熱誘起複屈折補正
  • オプションの温度安定化第2、
  • 低ジッターの内部/外部同期
  • 堅牢で安定したレーザーヘッド
  • 付属のWindows制御ソフトウェア(オプションでRS232)を使用したキーパッド、USB、LANインターフェースによる制御
商品概要
  • Qスイッチ発振器は、信頼性が高く安定したナノ秒シーディング・ソースとして設計されており、コンパクトなボディから数百mJのパルスを発生します。
  • 高M²のバージョンでは、発振器の設計を延長することで、より多くの発振モードを可能にし、特定のアプリケーションに有用な非常に均質で平坦なビームプロファイルを実現します。
  • NanoFLuxシリーズのリニアアンプは、高エネルギーナノ秒システムにコスト効率の高いソリューションを提供します。高度なビーム・シェイピングにより、出力における滑らかでホットスポットのない空間プロファイルを保証します。
  • 角度調整された非線形結晶ハーモニック・ジェネレーターは、温度安定化ヒーターに搭載され、第2、第3、第4ハーモニック発生に使用されます。高調波分離は高いスペクトル純度を保証し、放射を出力ポートに導きます。高調波発生器は、レーザーヘッドに内蔵することも、レーザーの外部に設置することも可能です。
  • トリガーは内部または外部のパルス発生器から可能で、Qスイッチ・トリガー・パルスに対するRMSジッターは0.5 ns未満です。
  • システム制御はコントロール・パッド、USB、LANインターフェース(オプションでRS232)から可能で、付属のWindowsソフトウェアを使ってPCから管理できます。 オプション
    • - G: ガウシアンライクなビームプロファイルを提供(パルスエネルギーは通常、標準バージョンより80%低い)
    • - M20...90:
    • - M20...90:ホットスポットや回折リングのないフラットでスムーズなビームプロファイルを提供(M² > 20またはM² > 90)
    • - RLI:スムーズなビームプロファイルのためのリレー・イメージング・オプション
    • - AW:水-空気冷却オプション(水-水冷却ユニットの置き換えまたは補足。 仕様
      • 1064 nmでの出力エネルギー:3000mJ(N3k10)、5000mJ(N5k10)、7000mJ(N7k10)、10000mJ(N10k10)
      • 532nmでの出力エネルギー:1500mJ、2500mJ、3500mJ、5000mJ
      • 355nmの出力エネルギー:1000mJ、1300mJ、1700mJ、2000mJ
      • 266nmにおける出力エネルギー:270mJ、400mJ、500mJ、700mJ
      • パルス繰り返し周波数:10 Hz
      • パルス幅:5±1ナノ秒(標準)、他の持続時間も使用可能
      • 1064 nmでのパルスエネルギーの安定性:≤0.5%
      • 532 nmでのパルスエネルギーの安定性:≤1%
      • 355 nmでのパルスエネルギーの安定性:≤2%
      • 266 nmでのパルスエネルギーの安定性:≤3%
      • 長期出力ドリフト:±2%
      • ビーム空間プロファイル:超ガウス分布
      • M²:~ビーム径:~18mm(N3k10、N5k10)、~25mm(N7k10、N10k10)
      • ビームポインティング安定性:≤50μrad
      • ビーム発散:≤0.5mrad
      • 光パルスジッター:≤0.5ns
      • 線幅:≤1cm-¹
      • 偏光:線形
      • レーザーヘッドサイズ(W×L×H mm):460×1250×260(N3k10)、500×1300×300(N5k10)、600×1800×300(N7k10)、700×2000×300(N10k10)
      • 電源サイズ(W×L×H mm):550×600×1250(N3k10、N5k10、N7k10)、550×600×1640(N10k10)
      • 傘の長さ:5m
      • 電源要件:208、380または400 V AC、三相、50/60 Hz
      • 消費電力:≤ 5 kVA (N3k10)、≤ 6 kVA (N5k10)、≤ 7 kVA (N7k10)、≤ 8 kVA (N10k10)
      • 給水:15-35°C
      • 相対湿度(結露なきこと):80%以下
      • 部屋の清潔さ:ISOクラス7
      注意
      • レーザーは常に主電源に接続してください。
    • レーザーは常に主電源に接続されている必要があります。

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カタログ

*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。