パルスレーザー システム NanoFlux HP

ナノ秒Q switch固体

NanoFlux HPシリーズは、高エネルギーパルスを高繰り返し率で提供するように設計された高出力ダイオードポンプナノ秒増幅器システムです。これらの電気光学的Qスイッチナノ秒Nd:YAG増幅器システムは、業界で実証済みの技術に基づいており、均一なビームプロファイルと低い発散を持つ高強度、高輝度のパルスを必要とするアプリケーションに適しています。システムは、顧客のシードソースの統合、マルチチャネル出力、バースト増幅など、特定の要件に合わせてカスタマイズできます。マスターオシレーターは数ナノ秒の短いパルスを生成でき、パワーアンプは空間ビーム成形を使用してスーパーガウス出力ビームプロファイルを実現します。温度安定化ヒーターを備えた高調波ジェネレーターは、2次および3次高調波生成のために利用可能で、高いスペクトル純度を保証します。システム制御は、コントロールパッド、USB、LAN、およびオプションでRS232を介して可能で、Windows用の専用ソフトウェアが付属しています。NanoFlux HPシリーズは、統合電源と冷却ユニットを備えた産業用ポータブルハウジングなど、さまざまなカスタマイズオプションを提供します。

特徴

• 1064 nmで最大5 Jの出力パルスエネルギー
• 最大1 kHzの繰り返し率
• マルチチャネルバージョン：1064 nmでチャネルあたり2 J
• 2 nsから500 nsまでのパルス持続時間
• 空間スーパーガウスビームプロファイル
• 低メンテナンスコストと長いダイオード寿命
• 可変パルス持続時間と時間的パルス形状制御（AWG）オプション利用可能
• 特定のアプリケーションに合わせたさまざまなカスタマイズの可能性
• 高効率ダイオードポンピングチャンバー
• 小型レーザーヘッドフットプリントとOEM統合が可能
• 内部システム診断
• 高パルス繰り返し率のための熱誘導複屈折補償
• スムーズなスーパーガウスビームプロファイルのための画像変換用統合真空システム
• バーストバージョン利用可能
• オプションの熱安定化2次および3次高調波ジェネレーター
• 統合電源と冷却ユニットを備えたオプションの産業用ポータブルレーザーハウジング

アプリケーション

• トムソン散乱
• マルチステージOPCPAポンピング
• 非線形光学
• Ti:Sポンピング

オプション

• AWG：1〜50 nsの範囲で時間的パルス形状制御のための任意波形ジェネレーター、125 psステップ
• AW：水-空気冷却オプション、水-水冷却ユニットを置き換えるか補完する
• 外部真空供給：外部真空ポンプと配管
• マルチチャネルオプション：同じまたは異なる波長/エネルギーの複数の出力、最大8チャネル
• G：ガウス型空間ビームプロファイル（基礎の出力エネルギーを約80％削減）

仕様

• 出力エネルギー（1064 nmで）：最大5 J（モデル依存）
• 出力エネルギー（532 nmで）：最大3 J（モデル依存、オプションの高調波モジュール）
• 出力エネルギー（355 nmで）：最大1.2 J（モデル依存、オプションの高調波モジュール）
• パルス繰り返し率：最大1 kHz
• パルス持続時間：5 ± 1 ns標準、調整可能なバースト利用可能
• パルスエネルギー安定性：1064 nmで≤0.5％、532 nmで≤0.8％、355 nmで≤2％
• 長期的なパワードリフト：±2％
• ビーム空間プロファイル：スーパーガウス
• ビーム直径：7〜15 mm（モデル依存）
• ビームポインティング安定性：≤30 µrad
• ビーム発散：≤0.5〜0.7 mrad
• 光パルスジッター：≤0.2 ns
• 偏光：線形
• レーザーヘッドサイズ（W×L×H）：600×1200×300 mmから900×2000×300 mm（モデル依存）
• 電源サイズ（W×L×H）：553×600×830 mmから553×600×1800 mm（モデル依存）
• アンビリカル長：2.5 m（リクエストに応じて最大5 m利用可能）
• 電力要件：208、380または400 V AC、三相、50/60 Hz
• 電力消費：≤6〜20 kW（モデル依存）
• 水供給：≤8〜20 l/min、2 Bar、最大20 °C
• 動作環境温度：22 ± 2 °C
• 保管環境温度：15〜35 °C
• 相対湿度（非凝縮）：≤80％
• 部屋の清潔さ：ISOクラス7

注意

• レーザーは常に主電源に接続されている必要があります。1時間以上切断された場合、再起動する前に数時間のウォームアップ期間が必要です。