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Curso: 50 mm - 1.000 mm
Velocidade: 200.000 mm/s
Repetibilidade: 0,5 µm - 1 µm
... menor - grau de precisão - avanço do fuso de esferas - tipo de motor (passo a passo ou servo/codificador) - instalação da mesa rotativa Fácil de programar com o controlador VISUAL IMAC baseado em ícones. Não é necessário escrever ...
IntelLiDrives, Inc.
Curso: 10 mm
Velocidade: 200 mm/s
... XY-Rotary estágios com motores lineares e motores de torque direto projetados com perfil baixo para manuseio de wafer e muitas outras aplicações automatizadas de posicionamento preciso em indústrias de fabricação de semicondutores. O ...
IntelLiDrives, Inc.
Curso: 200 mm
Velocidade: 400, 800 mm/s
IntelLiDrives, Inc.
Curso: 280 mm
Velocidade: 400, 800 mm/s
IntelLiDrives, Inc.
Curso: 350 mm
Velocidade: 800, 400 mm/s
IntelLiDrives, Inc.
mesa de coordenadas XYXY-OF-100x100J-MLVT-25J-RTLA-30-100HJ
Curso: 200 mm
Velocidade: 100 m/s
Repetibilidade: 2 µm
... Combinação de estágios XY de estrutura aberta com acionamento por fuso de esferas com estágios Lift MLVT e mesa RTLA rotativa compacta de parafuso sem-fim - Curso XY de 100 mm a 300 mm - Elevação 12mm a 25mm - Rotação ilimitada ...
IntelLiDrives, Inc.
Curso: 1 mm - 40 mm
Velocidade: 1 mm/s - 200 mm/s
Repetibilidade: 0,3 µm - 5 µm
... LA92 Eixo linear UHV de alta velocidade Aplicações: Aplicações de digitalização rápida e de alta resolução Vantagens: Posicionamento rápido em UHV, também verticalmente Características: Excelente resolução, muito fino, com motor interno - Vácuo: todas ...
Steinmeyer Holding GmbH
Curso: 1 mm - 100 mm
Velocidade: 1 mm/s - 10 mm/s
Repetibilidade: 0,4 µm - 5 µm
... LT300 Estágio linear preciso de alta carga Aplicações: Estágio de transporte, estágio de varrimento para cargas elevadas Vantagem: Elevado tempo de vida útil apesar da lubrificação a seco Características: parafuso de avanço com lubrificação a seco ou ...
Steinmeyer Holding GmbH
Curso: 1 mm - 300 mm
Velocidade: 1 mm/s - 10 mm/s
Repetibilidade: 0,015 µm - 5 µm
... LA97 Estágio linear nanométrico Aplicação: digitalização Vantagem: posicionamento nanométrico, também na vertical Características: posicionamento com extrema resolução e máxima rigidez pode ser equipado com 2 (ou 4) motores - Vácuo: todas as gamas ...
Steinmeyer Holding GmbH
Curso: 1 mm - 185 mm
Velocidade: 1 mm/s - 8,4 mm/s
Repetibilidade: 0,4 µm - 5 µm
... LA95 - Aplicação: fase de transporte, fase de digitalização - Vantagem: vida útil elevada apesar do lubrificante seco - Características: parafuso de avanço com lubrificante seco ou fuso de esferas com lubrificante líquido - Vácuo: todas ...
Steinmeyer Holding GmbH
Curso: 1 mm - 10 mm
Velocidade: 0,2 mm/s - 10 mm/s
Repetibilidade: 0,2 µm - 5 µm
... MT53 Microestágio de alta resolução Aplicação: microestágio multiusos Vantagem: para digitalização de alta resolução Características: posicionamento com resolução muito elevada - Vácuo: todas as gamas de pressão HV /UHV até 10E-11 mbar - Lubrificação: ...
Steinmeyer Holding GmbH
Curso: 1 mm - 50 mm
Velocidade: 1 mm/s - 50 mm/s
Repetibilidade: 0,3 µm - 5 µm
... KT105-50 Estágio XY de alta resolução Aplicação: estágio XY de vácuo Vantagem: rapidez e alta resolução Características: parâmetros de guinada e inclinação três vezes melhores do que a variante com apertur - Vácuo: todas as áreas HV / UHV até 10-11 ...
Steinmeyer Holding GmbH
Curso: 1 mm - 100 mm
Velocidade: 1 mm/s - 10 mm/s
Repetibilidade: 0,4 µm - 5 µm
... acionamento por parafuso de avanço ou por fuso de esferas lubrificado para velocidades mais elevadas - Pode ser combinado com mesas rotativas (por exemplo, DT155) para aplicações rotativas - Seleção de material e lubrificação por vácuo ...
Steinmeyer Holding GmbH
Curso: 1 mm - 16 mm
Velocidade: 1 mm/s - 2,2 mm/s
Repetibilidade: 1 µm - 5 µm
... HT160 Plataforma de elevação vertical precisa para cargas elevadas Aplicação: plataforma de elevação por vácuo Vantagem: elevada rigidez e carga Características: cunha com fuso de esferas - Vácuo: todas as gamas HV / UHV / EUV até 10E-11 mbar - Lubrificação ...
Steinmeyer Holding GmbH
Curso: 1 mm - 16 mm
Velocidade: 1 mm/s - 16,6 mm/s
Repetibilidade: 0,7 µm - 5 µm
... HDT255 Mesa elevatória com grande abertura de carga Aplicação: plataforma elevatória de vácuo Vantagem: - alta rigidez e carga, abertura Características: plataforma em cunha com abertura - Vácuo: todas as gamas HV / UHV / EUV até 10E-11 ...
Steinmeyer Holding GmbH
Curso: 1 mm - 25 mm
Velocidade: 1 mm/s - 3,4 mm/s
Repetibilidade: 0,3 µm - 5 µm
... HT240 Plataforma de elevação vertical precisa para cargas elevadas Aplicação: Plataforma de elevação a vácuo Vantagem: elevada rigidez e carga Características: cunha com fuso de esferas - Vácuo: todas as gamas HV / UHV / EUV até 10-11 mbar - Lubrificação ...
Steinmeyer Holding GmbH
Velocidade: 100, 15 mm/s
Carga: 750 kg
... HEX-S6.50.200 Hexápode de 6 eixos Estrutura tri-pod Paralelo seis graus de liberdade estágios Breve descrição: Caraterísticas: Alta precisão, pode ser montado, pode ser personalizado, abertura de luz 460mm Oferece uma precisão de movimento consistente ...
Curso: 30, 50, 100 mm
Velocidade: 5, 50 mm/s
... variantes do motor: Nanomotion, motor piezo ou motor linear - Combinável com o sistema de posicionamento XYZ - Combinável com mesas rotativas (por exemplo, DT105) para aplicações rotativas - Adaptação individual à situação de instalação ...
Steinmeyer Mechatronik GmbH
Curso: 100, 50 mm
Velocidade: 5 mm/s
Repetibilidade: 0,5 µm - 4 µm
... - Vácuo: todas as gamas HV / UHV / EUV até 10E-11 mbar - Líquido de lubrificação até 10E-8 / secar até 10E-11 mbar - Máx. Temperatura de cozedura: 120°C - Sala limpa classe 4 ISO 14644-1 (até à classe 1 a pedido) - Vida muito longa, mesmo com funcionamento ...
Steinmeyer Mechatronik GmbH
Curso: 16 mm
Velocidade: 1,1 mm/s
... Posicionamento de precisão na indústria e investigação em vácuo ultra-alto e sob radiação ultravioleta extrema, alinhamento de wafers, alinhamento de câmaras, investigação de materiais, análise de materiais, microscopia em vácuo, linha ...
Steinmeyer Mechatronik GmbH
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