Sistema de distribuição de solvente JW series

de águapara tanquede produtos químicos não embalados

Visão geral
Em instalações de fabrico de semicondutores, os sistemas de distribuição de produtos químicos líquidos UHP (Ultra-High Purity) asseguram a transferência controlada e com baixa contaminação de ácidos, bases e solventes entre o armazenamento a granel e o ponto de utilização. Estes sistemas reduzem a manipulação manual e mantêm a integridade do processo para elevados rendimentos.

Sistema de manuseio de distribuição química a granel
A infraestrutura a granel transporta grandes volumes a partir de tanques externos ou armazéns de tambores. A construção típica utiliza aço inoxidável 316L eletropolido ou tubagem PFA de alta qualidade. Os métodos de transferência incluem transferência por pressão automatizada ou bombas magneticamente acopladas para fluxo contínuo e sem pulsações, minimizando a geração de partículas e a cristalização.

Sistema de distribuição UHP (última milha)
O sistema UHP de última milha fornece químicos ao ponto de utilização com filtração avançada, sensores de nível sem contacto e monitorização do consumo em tempo real. As medidas de segurança e pureza incluem contenção secundária, deteção automática de fugas e purga com azoto para evitar oxidação e proteger os operadores, assegurando o fornecimento de alta pureza às ferramentas de produção.

Dados técnicos
Modelo: JW-200L-CDM, JW-1000L-CDM
Tamanho do armário de gás especial: W2200*D1500*H2000 (duplo tambor) / W2990*D2100*H2000 (duplo tambor)
Alimentação do armário de controlo: 220VAC, 50Hz, 0.5–3KW, proteção contra fugas
Purga: PN2, SS316 1/2" SWG
Água ultrapura: UPW, ligação JIS 16A
Ar comprimido: CDA, SS316 1/2" SWG
Saída de resíduos: Dreno, PP DN20 Fusion Socket / Dreno, PP DN25 Fusion Socket

Itens padrão / opcionais

• Painel de operação manual de emergência (opcional)
• Filtro de alta eficiência
• Sensor de porta (opcional)

Aplicação

• Semicondutor
• Fotovoltaico
• Energia solar
• Painel de cristal líquido
• Fibra óptica
• Outros campos de produção de alta tecnologia

Produtos químicos especiais tratados

• HF - Ácido fluorídrico
• HCL - Ácido clorídrico
• H2O2 - Peróxido de hidrogénio
• KOH - Hidróxido de potássio
• HNO3 - Ácido nítrico
• NH4OH - Hidróxido de amónio
• H2SO4 - Ácido sulfúrico

Função

• Filtração de produtos químicos líquidos
• Amostragem de produtos químicos líquidos
• Circulação de produtos químicos líquidos
• Fornecimento/distribuição de produtos químicos líquidos

Características / Especificações técnicas

• Modelo: JW-200L-CDM; JW-1000L-CDM
• Tamanho armário de gás especial: W2200 × D1500 × H2000 (duplo tambor) ou W2990 × D2100 × H2000 (duplo tambor)
• Alimentação do armário de controlo: 220VAC, 50Hz, 0.5–3KW com proteção contra fugas
• Purga: PN2 com SS316 1/2" SWG
• Ligação de água ultrapura: UPW, JIS 16A
• Ar comprimido: CDA com SS316 1/2" SWG
• Opções de saída de resíduos: PP DN20 Fusion Socket ou PP DN25 Fusion Socket
• Equipamento padrão: carcaça em PP + janela de observação em PVC transparente, válvula interna em PFA, purga com azoto, amostragem, fornecimento automático de ácido, comutação automática de tambores, configuração de bomba redundante (duas em uso + uma de reserva), ecrã tátil de estado, corte automático, alarmes e auto-verificações, suporte multilingue, múltiplas entradas de sinal, leitor de códigos, filtro de alta eficiência, sensor de porta opcional
• Aplicações: Semicondutor, Fotovoltaico, Energia solar, Painel LCD, Fibra óptica e outros campos high-tech
• Produtos químicos tratados: HF, HCL, H2O2, KOH, HNO3, NH4OH, H2SO4
• Funções principais: filtração, amostragem, circulação, fornecimento de produtos químicos líquidos