コンパクトプロセス制御装置 Plasus

プロセスフローコントローラは高速クローズドループプロセスガスコントローラで、反応性スパッタリングベースの真空コーティングおよびプラズマ処理プロセスのリアルタイム、その場での精密制御用に設計されています。完全でコンパクト、フレキシブル、使いやすく経済的なソリューションであり、新規システムにも既存システムにも容易に組み込むことができます。プロセスフローコントローラは、生産設備にも研究開発設備にも適しており、プロセスの安定性、再現性、歩留まりを明らかに向上させることができます。HIPMSスパッタリングアプリケーション専用に設計されたセンサーを含む、幅広いアクセサリーをご用意しています。 工業用プラズマアプリケーションでは、プロセスの信頼性と高品質を確保するためにプロセス制御が不可欠です。光発光分光法（OES）はプラズマに影響を与えず、複数のプラズマ種をリアルタイムでモニタリングできるため、第一の選択肢となります。当社のPLASUS EMICONシステムは、プラズマアプリケーションの分析、最適化、制御に必要なすべての機能を備えています。 PLASUSは分光プラズマモニターシステムのトップメーカーです。20年前に設立されたPLASUSのコアコンピタンスは、産業および研究開発アプリケーション用のターンキー・プロセスコントロールシステムの開発です。当社のシステムは、プラズマモニタリング、プロセス制御、プロセス最適化、品質管理、分光プラズマ分析に応用されています。 当社の長年の経験と業界をリードするノウハウの恩恵を受けてください！