磁電管スパッタリング式貯蔵マシン DEIMOS 5500

ミラー用

概要
DEIMOS 5500は、磁気ターゲットスパッタによる精密光学用真空成膜装置で、主に大径の曲面天文鏡に対し、アルミニウムまたは銀の保護層／増反射層を均一かつ耐久性を持って付与する目的で設計されています。反射率、成膜均一性、被膜の耐久性を重視した構成です。

主な利点

• 高い成膜均一性 — 各ターゲットの傾斜角と基板までの距離を電動で調整し、曲面基板に対して均一なAl/Ag層を形成できます。
• 基板取り扱いの高速化 — 腔室下半分をレールで引き出せるため全面的なアクセスが容易で、基板の交換が迅速に行えます。
• 電源モードの柔軟性 — 4台のスパッタターゲットに対し、パルスDCまたはDC供給を選択可能です。

主な機能

• 可動カソード傾斜 — 各ターゲットは移動・傾斜が可能で、電動アクチュエータにより再現性のある位置決めが可能。設定は生産レシピへ保存できます。
• MFまたはDCグロー放電による前処理 — 腔室内のグロー放電ユニットで洗浄と脱湿を行い、前処理サイクルはレシピに保存可能です。
• アクセス性に配慮した設計 — 下半分の腔室をレールで移動できるため、最大径4.5 mの大径基板でもターゲットやプロセス部品へ容易にアクセスでき、運用・保守を簡素化します。

用途
天文鏡および大径の精密光学鏡面に対する、アルミまたは銀の保護／増反射コーティングの付与に適しています。反射率・均一性・耐久性が重要な用途向けです。

特性 / 技術仕様

• モデル: DEIMOS 5500
• プロセス: 磁気スパッタ（精密光学用真空成膜）
• コーティング材料: アルミニウム（Al）および銀（Ag） — 保護・増反射層
• ターゲット数: 4
• 電源オプション: パルスDCまたはDC
• ターゲット調整: 各ターゲットの傾斜角および基板距離を電動で調整可能; 設定はレシピに保存可
• 前処理: 腔室内MFまたはDCグロー放電ユニットによる洗浄・脱湿; サイクルは保存可
• 基板取り扱い: 下半腔室をレールで引き出し可能、全面アクセスと迅速な交換を実現
• 対応最大基板径: 最大 4.5 m
• 設計用途: 反射率・均一性・耐久性を求められる天文鏡および精密光学鏡面
• 運用・保守: ターゲット、基板、プロセス部品へのアクセスを容易にし、レシピによる再現性を確保