磁電管スパッタリング式貯蔵マシン VTC-600-2HD DC/RF

メタライゼーション

VTC-600-2HDは、デュアルターゲットソースを特徴とするマグネトロンスパッタリングシステムです：1)一方のヘッドに金属材料成膜用のDCソース、2)もう一方のヘッドに非金属材料成膜用のRFソースを搭載しています。膜厚トラッカーを装備しており、コーティングの進捗状況を容易にモニターでき、データも記録できます。 このモデルは、様々な基材（強誘電体、導電体、合金、半導体、セラミック、誘電体、光学、酸化物、硬質、PTFEなど）の単層または多層膜のコーティング用に高度に設計されています。コンパクトで操作が簡単なため、R&Dラボでの使用に理想的なコーティングシステムです。 入力電源 - 220VAC 50/60Hz、単相 - 2000W（ポンプ含む） ソース電源 - 2つのスパッタリング電源を1つのコントロールボックスに統合 - DCソース：500W（金属材料コーティング用 - RFソース：600W、オートマッチング機能付き、非金属材料コーティング用 - コンパクトな300RFソースも追加料金で利用可能 マグネトロンスパッタヘッド - 水冷ジャケット付き2インチマグネトロンスパッタヘッドが2個付属（左の写真をクリックすると詳細スペックが表示されます。） - 1台はRF電源に接続され、導電性のない材料に使用できます。 - もう1台はDCスパッタリング電源に接続し、金属材料のコーティングに使用します。 - 必要ターゲットサイズ：直径2インチ - 最大厚さ1/16インチ（金属ターゲット用 - 厚さ1/4インチ（導電性なしターゲット用 - デモテスト用にステンレスとAl2O3セラミックターゲットが1枚ずつ付属しています。