アルゴン分析器 DF-750 ULTRA

窒素ヘリウム酸素

DF-750 ULTRAは半導体産業における水分分析の第一選択肢です。 DF-750 ULTRAは、300mm半導体工場で使用される超高純度（UHP）ガス中の水分を業界最高水準で測定するために最適化された微量/超微量分析計です。 安定性の高いTDLトレース/ウルトラトレース測定 妥協のないソリューション 高い信頼性 DF-750ULTRAは、さまざまなUHPガス中の微量/超微量水分測定に特化して設計されており、300mm半導体ファブ向けに最適化されています。エレクトロニクスグレードの窒素、水素、ヘリウム、アルゴン、酸素ガス中の汚染物質としての水分を測定します。 TDL（Tunable Diode Laser）センシング技術により、業界トップクラスの55ppt検出下限（LDL）を実現し、DF-750 ULTRAの安定した高精度測定は半導体製造の精密なモニタリングニーズに応えます。 堅牢なDF-750 ULTRAは、生涯メンテナンスの必要性が低く、ゼロドリフト安定性を実現し、校正間隔を大幅に延長します。DF-750 ULTRAは、UHPガスの品質チェックに最適な分析ソリューションです。 DF-750 ULTRAは、世界中の半導体メーカーが求める卓越したガス純度基準を満たすように設計されています。DF-750 ULTRAは、堅牢で弾力性のあるヘリオットセルに収納された最先端のTDLセンシングテクノロジーを利用し、光学センシングコンポーネントとの水分接触を回避しています。その結果、超高感度の分析が可能になりました、