光起電性貯蔵マシン RTES1600
マグネトロン スパッタリング式熱蒸発による薄膜

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特徴

方法
光起電性
技術
マグネトロン スパッタリング式, 熱蒸発による
貯蔵方法
薄膜, 金属化フィルム
その他の特徴
真空
応用
マイクロエレクトロニクス産業

詳細

Metalizer、コーティング装置、PVDの伝導性のフィルムのコータを保護するEMIを保護する電子磁気干渉 EMI:電磁妨害雑音のコーティングは特に電気および電子デバイスが電磁石の干渉から避けることができるように設計されています。 特性を保護するその高い伝導性および高いmagnetcの干渉はテレコミュニケーション装置、コンピュータ、家電、家庭電化製品の、宇宙航空および軍装置で広く利用されています EMIのshileding表面処理は幾年もの間携帯電話の企業と適用されました。私達の顧客は次のとおりです: Sumgsung、Iphone、Lenovoの華為技術の電話は製造します。 Metalizerの特徴を保護する電子磁気干渉 1) プラスチック、製陶術、ガラスおよび金属のために適した、沈殿は浮上します、 2)デュオのジグ及び棚は構造、高い生産性を設計しました 3)高い沈殿の速度、 4) よい均等性及び正確なコーティング厚み制御 5) 優秀な付着 フィルムのコーティングの特性を保護するEMI フィルム厚さ:1.5 | 3ミクロンは条件によって決まります。 フィルムの抵抗:(オーム) 0.5Ωよりよい 付着: 3M810テープ> 5B より多くの指定のための私達に、高貴な技術総コーティングの解決を提供するために名誉を与えられます連絡して下さい。

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*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。