CARBOLITE GEROの制御空気下炉

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チャンバー炉
チャンバー炉
HTK series

温度: 2,200, 1,600 °C
容量: 8, 25, 80 l
: 1,300, 1,900, 2,100 mm

... 出可能です。一般的に使用できるガスとして、窒素、アルゴン、水素、その他混合ガスがあります。 ヒーターエレメントは断熱材と同じ素材で製造されています。断熱材は炉の種類によって、タングステン又はモリブデンの輻射熱シールドで構成されています。ガスフローを 制御し、温度均一性を向上させるためにレトルトを装備することが出来ます。最高温度は、HTK W では2200 °C、HTK MOでは1600 °Cです。 アプリケーション例 メタライゼーション, 無炭素雰囲気, ...

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Carbolite Gero
チャンバー炉
チャンバー炉
HTK series

温度: 2,200 °C
容量: 8 l - 600 l
: 1,300, 2,500, 2,300, 2,100, 1,900 mm

... 使用することもできます。3000℃で使用するため、計算された厚さの断熱材、発熱体の最適な配置、温度測定及び 制御用のパイロメータで特別に設計されています。 パイロメータは、炉内の窓を介して光学的な方法で熱放射を直接測定し、炉に直接挿入されません。 この計測原理は、十分な量の輻射が放出された時のみ機能し、400℃を超える温度の時に十分な輻射が発生します。低温時にはスライディング熱電対を用いて 制御が行われます。 ...

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Carbolite Gero
チャンバー炉
チャンバー炉
HTK series

温度: 1,350, 1,800 °C
容量: 8 l - 600 l
: 1,300, 1,900, 2,300, 2,500 mm

... 真空動作は短時間の大まかな真空範囲に限定されます。 アプリケーション例 セラミック射出成形(CIM), 大気中での脱脂, 大気中の焼結 標準仕様 必要に応じて水素分圧運転も可能です。 HTK KEの 空気中または100%酸素での動作 粉体加熱の為に真空ポンプの排気速度を正確に 制御できます。 品質管理用データ記録 ...

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チャンバー炉
チャンバー炉
HBO series

温度: 1,600, 2,200 °C
容量: 25, 60, 10 l
: 2,300 mm

... わずかな過圧または 制御された分圧を得ることができます。分圧により、炉内のガス流量を一定に保つことができます。 完全な金属製の設計により、HBO内の最終的な真空レベルは高真空領域に達し、5 x 10-6 mbarよりも優れています。必要な真空度に応じて、異なるポンプステーションで真空を供給します。ご要望に応じて、超高真空オプションもご利用いただけます。ガスは、様々な投与装置と 制御装置によって 制御されます。3つの加熱ゾーンのそれぞれの温度は、最高の均一性を維持するために個別に 制御されます。 ...

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チャンバー炉
チャンバー炉
HTBL series

温度: 2,200, 1,600 °C
容量: 60 l
: 2,400 mm

... できます。ご要望に応じて他のガスを導入することも可能です。炉内では、規定のガス流量を確保するために、わずかな過圧または 制御された分圧を使用することができます。 空気での運転はできません。 様々な投与装置および 制御装置がすべてのガスを 制御します。要求される真空度に応じて、真空ポンプは用途に応じて、あるいは要求に応じて特別に構成されます。最高の均一性を実現するために、温度は独立して 制御されます。 アプリケーション例 annealing, ...

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チャンバー炉
チャンバー炉
HTBL series

温度: 2,200 °C
容量: 50, 80, 200 l
: 2,400 mm

... できます。ご要望に応じて他のガスを導入することも可能です。炉内では、規定のガス流量を確保するために、わずかな過圧または 制御された分圧を使用することができます。 空気での運転はできません。 様々な投与装置および 制御装置がすべてのガスを 制御します。要求される真空度に応じて、真空ポンプは用途に応じて、あるいは要求に応じて特別に構成されます。最高の均一性を実現するために、温度は独立して 制御されます。 アプリケーション例 annealing, ...

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管状炉
管状炉
HTRH-H2

温度: 0 °C - 1,600 °C

... させるためのアフターバーナに接続されている。 アフターバーナへのガス流入口は、システム内での凝縮物の発生を防ぐために加熱される。アフターバーナは、圧縮 空気とプロパンガスで駆動する。アフターバーナは、水素をはじめ、プロセス中に発生するすべてのガス状の副生成物を燃焼させる。 すべてのガスは、完全に自動化されたフローコントローラーによって 制御されます。誤動作が検出された場合、システムは直ちに安全な状態になります。すべての機器はSIL2規格に準拠して製造されている。炉の上部には水素センサーが設置されており ...

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チャンバー炉
チャンバー炉
HTMA series

温度: 60 °C - 700 °C
容量: 28, 1,000, 500, 220, 95 l
: 810 mm - 1,530 mm

... 効率的かつ細かなガス雰囲気の調整が可能です。また、ガス流量は手動バルブ、またはオプションのプログラム型自動コントロール装置を選択することが可能です。 庫内の酸素レベルを 50 ppmまで下げることが可能です。 標準仕様 標準仕様の温調器は、PID 制御301型です。設定温度、昇温速度、設定温度での維持時間を調整することが可能です。 背面設置ファンと側面の層流ガイドにより水平のガスフローを実現します。 完全溶接庫内によるガス雰囲気の実現 手動ガス流量調整用ニードルバルブと流量計(ニッケル真鍮合金製 ...

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チャンバー炉
チャンバー炉
GPCMA series

温度: 1,000 °C - 1,150 °C
容量: 37 l - 245 l
: 250 mm - 500 mm

... 標準仕様 レトルト材質別の最高温度: 3508P1プログラム式温調器 2ゾーン式カスケード 制御 過熱防止装置 窒素用アナログ流量計を装備した半自動ガスシステム 自由放射型コイル式発熱体を両側面・天面・底面に搭載(37Lモデルは両側面と底面のみ) 急速加熱と高いエネルギー効率を可能にする高性能断熱材の採用 ユーザを高温から保護し、スムースに開閉するダブルピボット構造のドア タイプR 制御用熱電対 レトルト内熱電対:1100℃以下はタイプK、1100℃超はタイプN シリコンラバー製水冷 ...

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管状炉
管状炉
TSR series

温度: 1,150 °C
: 3,150 mm
高さ: 1,830 mm

... PIDコントローラを搭載 3ゾーンモデルでは中央ゾーンに301 PIDコントローラ、両端には2132コントローラ(スレイブ 制御)を搭載。 シングルもしくは3ゾーンモデル 内径75 mmまでの作業管が使用可能 傾斜角と回転速度を変化させることでサンプルの滞留時間を 制御 作業管回転速度1.5~10.0回転/分 容量5Lのバイブレーションフィーダとホッパ 温調器等の 制御部は、本体下部のコントロールボックス内に収納されています。 真空成型された断熱材に埋め込まれたヒーター素子は、高速昇温、良好 ...

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