Materials Research Furnacesの実験用炉

温度: 0 °C - 2,200 °C

... 人気の高い中型熱処理炉には、最高温度2200℃まで対応可能な1立方フィート（28l）の使用可能ゾーンがあり、多数のオプションを装備することができます。 本装置はターボシステムとHMIコンピューターインターフェイスを装備しています。その他のオプションとして、水素での運転、拡散および極低温ポンプシステム、ガス中での急速冷却用熱交換器、パイロメーターなどがあります。当社はお客様のニーズに合わせて炉をカスタマイズします。 高温ゾーンにはタングステンロッドまたはメッシュ発熱体を採用し、優れた均一性と長寿命を保証します。 この炉には直感的で使いやすいコンピュータインターフェースが装備されており、完全自動運転が可能です。データ収集、アラームの表示とロギング、温度制御のための無制限のレシピプロファイル、セキュリティ、構成設定などが可能です。PCは産業用フラットパネルPCを制御コンソールに搭載し、過酷な環境にも耐えるよう設計されています。 一般仕様 ...

温度: 0 °C - 1,750 °C

... 当社の超大型熱処理炉は使用可能ゾーンが8立方フィートあり、最高温度は1750 °C (3200 °F)です。高負荷容量、16″または20″の拡散ポンプシステム、急速冷却用ガス熱交換器が特徴です。 ホットゾーンは、タングステン、モリブデンまたはタンタル棒状発熱体から製造され、優れた長寿命、剛性、均一性、製品適合性を保証します。 炉室は前面と背面にアクセスドアを備え、装入とメンテナンスを容易にします。 大重量の装入物を容易に操作できる装入カートも用意されています。 一般仕様 24″ ...

温度: 0 °C - 2,200 °C

... 当社の小型熱処理炉は0.3立方フィート(8.4リットル)の使用可能ゾーンを備え、最高温度は2200 °Cで、多くのオプションを装備することができます。 この装置には露点制御付き水素湿潤システムと6″拡散ポンプシステムが装備されています。その他のオプションもご利用いただけます。 ホットゾーンはタングステンメッシュ発熱体を採用し、優れた均一性と長寿命を実現します。制御パネルにより炉の完全制御が可能です。 オプションのPC制御パッケージにより、データトレンドと保存 (データ収集)、アラームの表示と記録、温度制御のための無制限のレシピプロファイル、ユーザーセキュリティなどの追加機能が提供されます。この炉は研究開発にも生産用の小バッチ炉にも適しています。 仕様 一般仕様 4″ ...

温度: 0 °C - 2,800 °C

... フロントローディング式マルチアプリケーション 実験炉は、豊富なオプションと構成により、当社の中で最も汎用性の高い炉です。高温処理を必要とする少量サンプルの研究開発に理想的なツールです。初期設定温度は最高 2000 °C、水冷ヒーターシェルを追加すると 2800 °Cになります。 ホットゾーンのサイズは直径4×高さ8です。この炉にはオプションで結晶育成キット、ミニホットプレスキット、クエンチキットがあり、最小限の労力で交換できます。フロントローディング設計により、装入エリアへのアクセスが容易で、フルアクセス ...

温度: 0 °C - 2,500 °C

... この多用途のトップローディング式 実験炉は、最高温度2500°Cで完全にプログラム可能な雰囲気条件により、材料やプロセスの研究、試験、開発を行うためのツールを提供します。 また、バッチ式生産炉としても使用でき、再現性のある正確な記録処理が特徴です。トップローディング構成は優れた熱均一性を提供し、実証済みの経済的設計です。この 実験炉は世界中の数多くの大学や研究所で使用されています。 一般仕様 動作圧力：1×10-7 Torr (mbar) ...

温度: 0 °C - 2,300 °C

... 当社のボトムローディング式焼結炉は、電子部品の高温焼結用に設計されています。サイクルは雰囲気準備、加熱、強制冷却、制御酸化から構成されます。この炉の使用可能ゾーンは直径12インチ x 高さ22インチ (305mm x 559mm)で、大量バッチ処理に適しています。 この炉は2つのチャンバーを備えており、下部チャンバーは装入・取出し、冷却、制御酸化、上部チャンバーは高温焼結を行います。両チャンバーの雰囲気は隔離されており、電動リフトが装入物スタックをボトムチャンバーから加熱チャンバーに移動させます。 ホットゾーンはタンタルまたはタングステンで2100℃まで可能です。 高スループットの10″または16″拡散ポンピングシステムは、製品加熱中に通常見られるロードのアウトガスに対応します。 直感的なカスタマイズされたHMIインターフェースが、最初から最後まで完全に自動化されたサイクルを実行します。 一般仕様 ホットゾーン ...

温度: 0 °C - 2,300 °C

... 当社の4ステーション式インデックス焼結炉は、電子部品の高温焼結に適した当社の最高スループットモデルです。4つの装入物が同時に処理され、半連続プロセスの焼結プロセスが形成されます。 炉は直径12インチ x 高さ22インチ (305 mm x 559 mm) の使用可能ゾーンを持ち、この設計は大量のバッチ処理に最適です。 この炉には5つのチャンバーがあり、搬送機構を含むボトムインデキシングチャンバー、搬出入チャンバー、加熱チャンバー、冷却チャンバー、酸化制御チャンバーがあります。通常運転中、すべてのチャンバーは互いに隔離されています。 油圧リフトとモーター駆動のインデックス機構が装入物スタックをステーションから次のステーションへ移動させます。プロセスパラメーターにもよりますが、この炉は45分ごとに焼結装入物を生産します。 ホットゾーンは最高2100℃まで可能で、タンタルまたはタングステンで製造されます。 高スループットの10″または16″拡散ポンプシステムが装入物のアウトガスを処理します。HMIコンピューターインターフェイスは、完全に自動化されたサイクルを最初から最後まで実行し、生産ネットワークと統合して製品追跡とレシピ選択を提供します。 一般仕様 4つの負荷を同時に処理する5チャンバー設計 ローディング、加熱、冷却、酸化の各チャンバーを分離 ホットゾーン ...

温度: 0 °C - 2,300 °C

... MRFは様々なメーカーの試験フレームに取り付ける炉システムを提供しており、どのメーカーも単独では提供していない温度、環境、物理試験条件の組み合わせを可能にしています。MRFの専門分野を結集した物理試験炉により、様々な温度や雰囲気の下で、圧縮強度、引張強度、ねじり強度、たわみ、疲労、多軸試験などのサンプルを試験することができます。 チャンバーには、さまざまなポートやフィードスルーを介して、試験グリップ、伸び計、その他の試験機器が設置できます。当社の水冷式チャンバーでは、サンプルを室温から最高2300℃まで加熱することができます。 一般仕様 ほぼすべての試験フレームに取り付け可能なチャンバーデザイン 物理的試験装置に対応するために必要なすべてのポートとフィードスルー。 金属、セラミックまたはグラファイトのホットゾーン 均一な+/-10 ...

温度: 0 °C - 3,500 °C

... アーク溶解炉SA-200は当社最小のアーク溶解炉で、試料を保持する2インチ（51mm）銅製ハースを備えています。SA-200はシングルアークで、3500°C以上の温度に瞬時に到達できる完全なターンキーシステムとして納入されます。このシステムは大学や研究開発ラボに最適で、排気/ガスシステムおよび100%デューティサイクルの電源を備えた当社で最も低コストのアーク溶解炉です。 SA-200は操作が非常に簡単で、極めて純粋な溶融物を生成し、瞬時に高温に達します。SA-200には様々なオプションやアクセサリーを装備することができます。アーク溶解炉は、溶解材料が導電性である用途において、誘導加熱炉や抵抗加熱炉に代わるコスト節約型の炉です。 SA-200は最小限の床面積を必要とするコンパクトな設計で、キャスターを装備しているため移動が容易です。 ボトムローディング構成 上部と底部の真鍮ベース間でパイレックスガラスを通して360°の視野を確保 真空チャンバー構造。 タングステン電極付きシングル銅スティンガー。 銅製ハースプレート直径2.0インチ（51mm）。 電源300 ...

温度: 0 °C - 3,500 °C

... アーク溶解炉 ABJ-900は、3500℃以上の温度での連続使用を可能にする当社最大のシステムで、安全な水流インターロック、絶縁ベローズ、排気/ガスシステム、および頑丈な電源を備えています。チャンバーは後方にヒンジがついており、ハースエリアとチャンバー内部に完全にアクセスできるため、搬入、搬出、清掃、メンテナンスが容易です。 ハースプレートには様々な形状の溶解キャビティが用意されており、ご注文時にご指定いただければ追加費用なしでカスタムデザインを提供します。 溶解エリアは直径9.00″(229 ...