TRUMPFのプログラム可能プラズマ発生器

... とCombineLineによる出力整合で安定した プラ ズマ プロセスを実現します。

主な機能

• Smart Auto Frequency Tuning (AFT)：ジェネレータとマッチボックス間の高速・最適周波数調整。
• 高精度アーク管理：アークの早期検出とプロセス保護。
• マルチレベルパルシング：複数レベルのパルス形状を設定可能で高度なプロセス制御に対応。
• プラグ＆プレイモジュール：19インチ半サイズ（½）挿入

... スパッタリングなどの プラ ズマ支援被覆 プロセス向けに設計されたバイポーラパルスジェネレータ群です。波形を柔軟に構成でき、フルデジタルのアーク管理により プラ ズマを安定化させ、再現性の高い被覆を実現します。

主な特長

• フルデジタルアーク管理により非常に低いアークエネルギーを実現し、膜品質を向上。
• 出力波形の構成が可能で、各種プロセスに信号を適合。
• DC、パルスDC、バイポーラの各動作モードをサポート。
• 発生器筐体内蔵の

... スパッタリング、PECVD 等の成膜／剥離 プロセス

• 高いプラズマ密度により要求の厳しいプロセスに対応可能
• 精密なエネルギー供給と細かな出力制御により高いウェハ間再現性を実現
• 変動条件下でもプロセス品質を維持する安定電源

... TruPlasma Match Series 1000 (G2/13) マッチボックス： 発生器から プラ ズマへの最適な電力伝達を実現。独立動作または SystemPort 経由での連携運用が 可能。

... 堅牢で高効率な高周波RFジェネレータで、安定した再現性のある プラ ズマ プロセスを必要とする用途に最適です。世界中で多数の導入実績があり、高い生産性と プロセス結果を保証します。

主な特長

• 高効率：最大80%の効率により運用コスト削減が可能（エネルギー費用を最大約50%削減する例あり）。
• 優れたRFアーク管理：要求の高い新規プロセスでも安全に制御。
• 高い強靭性とプロセス安定性：CombineLineテクノロジーにより反射電力

...
TruPlasma DC Series 3000 (G2) は、直流スパッタリング プロセス向けのコンパクトな水冷直流ジェネレータで、パルス電源の代替としても使用 可能です。高度なアーク管理により優れた膜品質と生産歩留まりの向上を実現します。19インチのインサート式という非常にコンパクトな設計により、既存設備への組み込みが容易です。

主な特徴

• 同クラス最低のアーク残留エネルギー：残留エネルギー

... マグネトロンシステムにハードウェア変更なしで置換 可能な HiPIMS ジェネレータです。非常に高いピーク出力により極めて高密度の プラ ズマと高いイオン流束を生成し、耐腐食性・耐摩耗性に優れた硬質 PVD コーティングを実現します。

主な特徴

• ピーク出力最大 4 MW による高いプラズマ密度とイオン化率。
• 既存のカソードシステムやプロセス条件へ直接適合し、容易に統合可能。
• 直流モードでの運転が可能で、外部直流電源は不要。