プログラム可能プラズマ発生器

... 概要
空冷式RFジェネレータ TruPlasma RF 1001 Air は、最大1000 Wの再現性のある精密なRF出力（0.1 W分解能、100 mWステップ）を供給します。半導体、ソーラーセル、ディスプレイの量産向けに設計され、特許取得済みのTRUMPF Hüttinger技術とCombineLineによる出力整合で安定したプラズマプロセスを実現します。

主な機能

• Smart Auto Frequency Tuning (AFT)：ジェネレータとマッチボックス間の高速・最適周波数調整。
• 高精度アーク管理：アークの早期検出とプロセス保護。
• マルチレベルパルシング：複数レベルのパルス形状を設定可能で高度なプロセス制御に対応。
• プラグ＆プレイモジュール：19インチ半サイズ（½）挿入ユニットで交換やレトロフィットが容易。
• 実効50

... 概要
TruPlasma Bipolar Series 4000 (G2.1) は、PVD、PECVD、反応性スパッタリングなどのプラズマ支援被覆プロセス向けに設計されたバイポーラパルスジェネレータ群です。波形を柔軟に構成でき、フルデジタルのアーク管理によりプラズマを安定化させ、再現性の高い被覆を実現します。

主な特長

• フルデジタルアーク管理により非常に低いアークエネルギーを実現し、膜品質を向上。
• 出力波形の構成が可能で、各種プロセスに信号を適合。
• DC、パルスDC、バイポーラの各動作モードをサポート。
• 発生器筐体内蔵の水冷式により外部冷却装置を不要に。

• PVD、PECVD、反応性スパッタリング。
• 太陽電池（フォトボルタイクス）製造。
• 半導体製造のコーティング工程。
• 建築用ガラスの高品質コーティング。
• 装飾・耐摩耗性コーティング。

• 低アークエネルギーと安定した電力供給により、安定した膜品質と高い生産性を実現。
• 波形調整によるプロセス柔軟性で多様な要件に対応。
• 内蔵水冷による省スペース設計と統合の容易化。

... 概要
非常に高いプラズマ密度を実現する堅牢なソリッドステート（固体）マイクロ波プラズマジェネレーターです。TruPlasma MW シリーズはソリッドステート技術を採用し、マグネトロン方式に比べて周波数精度が大幅に向上します。モジュール式プラットフォームにより出力の精密なスケーリングが可能で、安定した電源供給と一貫したプロセス品質を維持します。

主な特長

• 高周波数精度を備えたソリッドステートマイクロ波技術
• 出力を正確にスケールできるモジュール式プラットフォーム
• スマートな自動周波数チューニングにより最適な周波数へ自動調整し高い再現性を確保
• 位相同期（同期位相制御）：マルチアンテナシステムで複数のジェネレーターを位相同期させてパルス運転可能、プラズマ均一性を向上
• 誤整合時でも安定稼働を可能にする堅牢な設計
• 高精度デジタル周波数変調による再現性の高いプロセス制御
• EtherCAT

... 概要 高スループット生産向けの安定した再現性のあるプラズマ電源。TruPlasma RF Series 1000 / 3000 (G2/13) は、最新の電力電子技術と高精度な出力制御、CombineLine による真の50 Ω 出力インピーダンスを備えた RF ジェネレータです。

主な利点

• CombineLine による真の 50 Ω 出力インピーダンスで高い精度と再現性を実現。
• RF ケーブル長に依存しない設計でケーブル長の調整が不要。
• ミスマッチ時の反射電力に対する保護機能で安全に運用可能。
• 高効率（最大約80%）によりエネルギーコストを大幅に削減可能。
• ファンレス冷却により周囲空気の加熱・汚染を防ぎ、クリーンルーム運用に適合。

... 製品概要
妥協のない高周波テクノロジー。TruPlasma RF 3000シリーズは堅牢で高効率な高周波RFジェネレータで、安定した再現性のあるプラズマプロセスを必要とする用途に最適です。世界中で多数の導入実績があり、高い生産性とプロセス結果を保証します。

主な特長

• 高効率：最大80%の効率により運用コスト削減が可能（エネルギー費用を最大約50%削減する例あり）。
• 優れたRFアーク管理：要求の高い新規プロセスでも安全に制御。
• 高い強靭性とプロセス安定性：CombineLineテクノロジーにより反射電力（誤調整時）に対する保護を提供。
• 柔軟な出力モード：連続出力およびパルス出力の両方に対応。
• 100%不整合保護により負荷状態が限界近くでも確実な運転を実現。

• プラズマエッチング（RIE、反応性イオンエッチング）
• 薄膜成膜（ALD、PECVD）
• RFスパッタリング、表面コーティングおよび剥離（摩耗保護層など）
• フラットパネルディスプレイ、ソーラーセル、半導体製造、MEMS、フォトレジストのプラズマアッシング等

• TruPlasma

... 概要
TruPlasma DC Series 3000 (G2) は、直流スパッタリングプロセス向けのコンパクトな水冷直流ジェネレータで、パルス電源の代替としても使用可能です。高度なアーク管理により優れた膜品質と生産歩留まりの向上を実現します。19インチのインサート式という非常にコンパクトな設計により、既存設備への組み込みが容易です。

主な特徴

• 同クラス最低のアーク残留エネルギー：残留エネルギー < 0.3

... 概要
TruPlasma Highpulse Series 4000 (G2) は、既存のマグネトロンシステムにハードウェア変更なしで置換可能な HiPIMS ジェネレータです。非常に高いピーク出力により極めて高密度のプラズマと高いイオン流束を生成し、耐腐食性・耐摩耗性に優れた硬質 PVD コーティングを実現します。

主な特徴

• ピーク出力最大 4 MW による高いプラズマ密度とイオン化率。
• 既存のカソードシステムやプロセス条件へ直接適合し、容易に統合可能。
• 直流モードでの運転が可能で、外部直流電源は不要。
• コンパクトな単体ユニット、完全水冷設計でクリーンルーム設置に適合。
• CompensateLine（CLC）等のフルデジタルアーク管理により、アークエネルギーを低減し膜欠陥を抑制。

• 高荷重部品向けの耐腐食・耐摩耗性を持つ硬質コーティング。
• 半導体・太陽光発電分野：プロセスエネルギーの最適化、高い生産性、安定した被膜特性。
• 建築・産業用の大面積ガラスコーティング向けの

... eVerest®RFジェネレーターは、半導体産業が新たな転換点に向かって加速する中、変革的なプラズマ制御のニーズを満たします。設定可能なマルチレベルパルシングにより、瞬時またはユーザー定義のトランジションタイミングが可能です。さらに、広い周波数掃引範囲を持つ高速、高精度モデルベース周波数チューニングにより、プロセスの安定性と制御性が向上します。これらの機能に加え、より高速なセットポイント応答、パルス状態開始時の制御されたオーバーシュート、および洗練されたPowerInsight by Advanced ...