LD SERIESVÁLVULA DE DIAFRAGMA MANUAL BAIXA PRESSÃOVisão geralVálvula de diafragma manual de baixa pressão projetada para controle de gases de alta pureza e ultra alta pureza em processos de semicondutores, laboratórios e aplicações industriais. Aplicações típicas: distribuição de gás, purga e amostragem onde se exige baixo aprisionamento e baixa geração de partículas.
Corpo- Corpo em aço inoxidável 316L VIM-VAR para aplicações de ultra alta pureza.
- Rugosidade interna pode atingir Ra 5 μin, permitindo limpeza completa do canal de fluxo.
- Projeto minimiza áreas de aprisionamento, facilita a purga e maximiza a capacidade de fluxo.
Diafragma- Materiais do diafragma: Hastelloy C-22 ou superligas à base de cobalto (UNS R30003) para resistência mecânica e à corrosão.
- Projeto otimizado para longa vida em ciclos.
Assento- Assento PCTFE totalmente contido que fornece resistência ao inchaço e à contaminação.
- Desempenho melhorado em testes de vazamento com hélio, mínima geração de partículas e longa vida em ciclos.
- Montagem e embalagem de alta limpeza adequadas para a indústria de semicondutores e gases de alta pureza.
- Todas as unidades são testadas quanto a vazamento por hélio antes do envio.
Dados técnicosDesenhos técnicos e dados são fornecidos como imagens na página do produto, incluindo desenhos dimensionais e ilustrações do canal de fluxo.
Tamanho do produtoAs dimensões (em milímetros) são fornecidas como referência e estão sujeitas a alterações; consulte os desenhos do produto para dimensões detalhadas.
Forma do canal de fluxoO canal de fluxo e a geometria interna são mostrados nas imagens do produto para ilustrar o percurso de baixo aprisionamento e alta pureza.
Informações de pedidoAs imagens na página do produto mostram as especificações padrão de pedido; outras especificações e modelos estão disponíveis.
Especificações técnicas- Série: LD SERIES (válvula de diafragma manual baixa pressão).
- Material do corpo: aço inoxidável 316L VIM-VAR.
- Rugosidade interna: pode atingir Ra 5 μin.
- Opções de material do diafragma: Hastelloy C-22 ou superligas à base de cobalto (UNS R30003).
- Assento: design de assento PCTFE totalmente contido.
- Desempenho: projetado para minimizar áreas de aprisionamento, facilitar a purga e maximizar a capacidade de fluxo.
- Limpeza: montagem e embalagem de alta limpeza adequadas para aplicações de semicondutores/gases de alta pureza.
- Controle de qualidade: testes de vazamento por hélio realizados em cada produto.
- Documentação: desenhos dimensionais e ilustrações do canal de fluxo fornecidos como imagens na página do produto.