Espectrômetro de fluorescência TXRF-V310

de fluorescência X com reflexão totalde processono estado sólido

A análise de TXRF pode calibrar a contaminação em todos os processos fabulosos, incluindo a limpeza, o litho, gravura em àgua forte, a incineração, os filmes, etc. O TXRF-V310 pode medir elementos do Na com U com um único-alvo, sistema do raio X de 3 feixes e um sistema nitrogênio-livre líquido do detector. O TXRF-V310 inclui o sistema patenteado da fase da amostra do XYθ de Rigaku, um sistema de transferência robótico da bolacha do em-vácuo, e o software fácil de usar novo das janelas. Toda a estes contribui a uma taxa de transferência mais alta, uma precisão e uma precisão mais alta, e operação rotineira fácil. A capacidade integrada de VPD permite uma preparação automática de VPD de uma bolacha quando uma medida de TXRF for feita em uma outra bolacha para a sensibilidade a mais alta e a taxa de transferência alta. VPD-TXRF elimina a variabilidade do operador que pode ocorrer com ICP-MS, e VPD-TXRF pode ser completamente controlado através da automatização de fábrica. A recuperação de VPD das áreas selecionadas, incluindo a área chanfrada, está disponível. O software opcional da lavagem TXRF permite o traço da distribuição do contaminador sobre a superfície da bolacha de identificar os “hot spot” que podem automaticamente ser remedidos em uma precisão mais alta. A capacidade opcional de ZEE-TXRF supera a exclusão histórica da borda de 15mm de projetos originais de TXRF, permitindo medidas de ser feito com exclusão zero da borda. A capacidade opcional de BAC-TXRF permite medidas completamente automatizados do dianteiro-lado e da parte traseira TXRF de bolachas de 300mm com lançamento decontato da bolacha.