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Cadinho para a indústria dos semicondutores
para transferência de metal fundidopara aplicações a altas temperaturasem nitreto de boro

Cadinho para a indústria dos semicondutores - Xiamen Innovacera Advanced Materials Co., Ltd - para transferência de metal fundido / para aplicações a altas temperaturas / em nitreto de boro
Cadinho para a indústria dos semicondutores - Xiamen Innovacera Advanced Materials Co., Ltd - para transferência de metal fundido / para aplicações a altas temperaturas / em nitreto de boro
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Características

Especificações
em nitreto de boro pirolítico (PBN), para aplicações a altas temperaturas, em nitreto de boro, para transferência de metal fundido, para a indústria dos semicondutores

Descrição

Visão geral
  • INNOVACERA fabrica uma ampla gama de componentes cerâmicos PBN, incluindo discos, chapas, anéis para filamento, cadinhos VGF, cadinhos LEC, cadinhos MBE, cadinhos cônicos e peças usinadas sob medida.


Material e fabricação
O nitreto de boro pirolítico (PBN) é produzido por deposição química de vapor (CVD) a partir do nitreto de boro hexagonal (hBN). O processo CVD alinha os cristalitos de BN paralelamente ao substrato, fornecendo pureza ultraalta (≈99,99 %) e uma microestrutura em camadas. A espessura máxima típica da parede para PBN CVD é de 3 mm; o material apresenta alta resistência mecânica adequada para ambientes de alto vácuo e aplicações com metal fundido.

Aplicações
  • Componentes para fornos a vácuo
  • Cadinhos para crescimento de cristais (incluindo cadinhos MBE para produção de GaAs)
  • Processos de epitaxia por feixe molecular (MBE)
  • Ambientes de alto vácuo e metal fundido


Propriedades-chave
  • Condutividade térmica anisotrópica
  • Alta isolação elétrica e forte rigidez dielétrica em ampla faixa de temperatura
  • Pureza ultraalta (≈99,99 %)
  • Não molhabilidade e inércia química
  • Não tóxico
  • Resistência a altas temperaturas e choque térmico


Especificações técnicas
  • Material: nitreto de boro pirolítico (PBN) derivado do nitreto de boro hexagonal (hBN)
  • Fabricação: deposição química de vapor (CVD)
  • Pureza: ≈99,99 %
  • Estrutura CVD: cristalitos alinhados paralelamente ao substrato
  • Espessura máxima típica da parede (CVD): 3 mm
  • Mecânica: alta resistência mecânica adequada para ambientes de vácuo
  • Térmico: condutividade térmica anisotrópica; resistente a altas temperaturas e choque térmico
  • Elétrico: alta resistência de isolamento e forte rigidez dielétrica em ampla faixa de temperatura
  • Químico: não molhável, quimicamente inerte, não tóxico
  • Formas de produto típicas: discos, chapas, anéis para filamento, cadinhos VGF, cadinhos LEC, cadinhos MBE, cadinhos cônicos, peças usinadas sob medida

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