高度なレーザーダイシング・グルービングシステム
ALSI LASER1205は、半導体ウェーハのフルカットダイシングおよびグルービング用に設計された高精度レーザーシステムです。ASMPT ALSIによって開発されたこのシステムは、高度なレーザー技術と高スループット性能を融合させ、要求の厳しい製造環境において信頼性の高いソリューションを提供します。
LASER1205の主な特長
超高精度ダイシング:位置精度および再現性 <1.5 µm
熱影響の最小化:熱影響部(HAZ) <2 µm
狭いダイシング幅:100 µmシリコンにおけるマルチビーム加工で12 µm未満
高スループット:競合システムより最大50%高速
柔軟な材料ハンドリング:Si、SiC、GaAs、Ge、DAF、金型などをサポート
インラインビジョンおよびカーフチェック:「オン・ザ・フライ」によるリアルタイムモニタリング
デュアルカセットおよびクリーニングステーション:ダウンタイムを最小限に抑えた連続運転
用途
LASER1205は、幅広い半導体プロセス向けに設計されています:
ウェーハダイシング:厚さ10 µm~300 µm
グルービングおよびトレンチング:Low-K、PI、TEG、その他の先端材料向け
マルチビームレーザー加工:UVおよびIR構成
インラインビジョンおよびモニタリング:一貫した品質と精度を保証
装置構成
当社のLASER1205レーザー装置は、品質において業界をリードし、総所有コスト(TCO)を削減します。当社の製品ラインナップは、OSAT企業および主要IDM企業の双方において、市場が抱える具体的な課題に対応しています。
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