ナノ秒レーザー システム NL300
Q switch可変実験用

ナノ秒レーザー システム - NL300 - EKSPLA - Q switch / 可変 / 実験用
ナノ秒レーザー システム - NL300 - EKSPLA - Q switch / 可変 / 実験用
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特徴

操作方法
ナノ秒, Q switch
スペクトル
可変
応用
工業用, 実験用
その他の特徴
コンパクト, 凹凸, 空冷式, Nd:YAG

詳細

NL300シリーズは、コンパクトなフラッシュランプ励起、電気光学的にQスイッチされたナノ秒ネオジム:YAGレーザーで、最大20Hzの繰り返し周波数で3-6ナノ秒の高エネルギーパルスを供給するように設計されています。これらのレーザーは、その信頼性と頑丈な密閉型レーザーキャビティで認められており、要求の厳しい科学および産業アプリケーションに適しています。NL300シリーズは、幅広い高調波発生モジュールを提供し、第5高調波までの波長発生を可能にし、基本波長と高調波波長両方のオプションのアッテネータを備えています。水対水または水対空気の冷却に対応し、レーザーキャビティのミスアライメントなしにフラッシュランプの交換が可能です。キーパッドおよび/またはRS232/USBポートによる遠隔制御が可能で、LabView™ドライバが付属しているので簡単に統合できます。 特徴
  • お客様が認めた信頼性
  • 2年保証
  • 頑丈な密閉型レーザー共振器
  • 最大1100 mJのパルスエネルギー
  • 1% StDevを超えるパルスエネルギーの安定性
  • 5~20 Hzのパルス繰り返し周波数
  • 3~6 nsのパルス幅
  • サーモスタビライズされた第2、
  • 基本波長および/または高調波波長用のオプションの減衰器
  • 水対水または水対空気冷却オプション
  • レーザー共振器のミスアライメントなしでフラッシュランプの交換が可能
  • キーパッドおよび/またはRS232/USBポートによる遠隔制御
用途
  • 材料のアブレーション
  • LIBS(光誘起ブレークダウン分光法)
  • OPOポンピング
  • リモートセンシング
  • LIDAR(光検出と測距)
  • 質量分光法
  • LIF(光誘起蛍光)
説明 NL300シリーズレーザーは、5~20Hzの選択可能な繰り返し周波数で高エネルギーパルスを発生します。NL30×HTモデルは、最大エネルギー抽出のために最適化されており、5 Hzで最大1100 mJを提供します。コンパクトなレーザーヘッド(長さ約480mm)と電源(フットプリント330×490mm)は、組み込みとメンテナンスが容易なように設計されており、水タンクへのアクセスが便利で、再調整を必要としないフラッシュランプ交換が可能です。システムは、水対水または水対空気の熱交換器で構成することができ、必要に応じて水道水なしで操作できます。LabView™ドライバまたはリモートパッドによる制御が可能です。 利点
  • 高いパルスエネルギー(1064 nmで最大1100 mJ、532 nmで700 mJ、355 nmで450 mJ)と短いパルス時間(~4 ns)により、強い材料相互作用が得られ、LIBSやアブレーションに最適
  • 費用対効果の高い単一キャビティ設計で、アンプがないためアライメントが容易、高信頼性、低メンテナンス
  • コンパクトなサイズで実験室のスペースを節約
  • 再調整なしでフラッシュランプを高速交換
  • 簡単な設置と低メンテナンスのための空冷オプション
  • 複数のインターフェース:
  • USB、RS232、オプションのLANおよびWLAN
  • 簡単に統合できます。 オプション
    • -AW:空冷電源オプション(安定した室温が必要)
    • ハーモニック・ジェネレーター:第5高調波まで選択可能
    • アッテネーター:他のパラメーターに影響を与えることなく、パルスエネルギーをスムーズに調整
    高調波発生器および減衰器
    • ダイクロイックミラーとARコーティングを備えたコンパクトな熱安定モジュール
    • 機械的な調整による位相整合
    • 高い変換効率と幅広い構成選択
    • モジュール設計により、異なる波長用に再構成可能
    • スムーズなエネルギー調整のためのアッテネータ内蔵
    代表的な高調波モジュール
    • H300A:1064nmビーム用アッテネータ
    • H300SH:第2高調波発生器(1064/532nm)
    • H300S:532nmビームセパレータ
    • H300SHC:532nmビームセパレータ付き第2高調波発生器
    • H300SHA:第2高調波発生器、ビーム分離器、532 nm用減衰器
    • H300THC:第3高調波発生器、355 nmビーム分離器付き
    • H300THA:355nm用第3高調波発生器、ビーム・セパレータ、およびアッテネータ
    • H300FHC:266nmビーム・セパレータ付き第4高調波発生器
    • H300FHA:266nm用第4高調波発生器、ビーム・セパレータ、およびアッテネータ
    • H300FiHC:213nmビーム・セパレータ付き第5高調波発生器
    仕様(一部抜粋)
    • パルス繰り返し周波数:5-20Hz(モデルによる)
    • パルスエネルギー(1064 nm時):最大1100 mJ
    • パルスエネルギー(532 nm時):最大700 mJ
    • パルスエネルギー(355 nm時):最大450 mJ
    • パルスエネルギー(266 nm時):最大120 mJ
    • パルスエネルギー(213 nm時):最大25 mJ
    • パルスエネルギーの安定性(標準偏差):1.3~6ナノ秒
    • 偏光:垂直、90%以上
    • 光学パルス・ジッター(標準偏差):<0.5ナノ秒
    • 線幅:<1cm-¹
    • ビームプロファイル:近距離ではハットトップ、遠距離ではほぼガウシアン
    • 典型的なビーム径:~8~10mm
    • ビーム発散:<0.6mrad
    • ビーム指向安定性(RMS):50μrad
    • ビーム高さ:68mm
    • レーザーヘッドサイズ(W×L×H):154×475×128mm
    • 電源ユニット(W×L×H):330×490×585mm
    • アンビリカル長さ:2.5m
    • 消費水量:<6~12リットル/分(モデルによる)
    • 周囲温度:15~30℃
    • 相対湿度:20~80%(結露なきこと)
    • 電源要件:208-240VAC、単相、50/60Hz
    • 消費電力:<1~1.5kVA>
    • 室内の清浄度:ISOクラス9以下

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    カタログ

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