ピコ秒レーザー システム Atlantic
ナノ秒固体赤外線

ピコ秒レーザー システム - Atlantic - EKSPLA - ナノ秒 / 固体 / 赤外線
ピコ秒レーザー システム - Atlantic - EKSPLA - ナノ秒 / 固体 / 赤外線
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特徴

操作方法
ナノ秒, ピコ秒
光源
固体
スペクトル
赤外線, 可視, 紫外線
応用
工業用, 切断, 彫刻, ドリル, 測定用, 研究用, 機械加工用
その他の特徴
コンパクト, 高出力, 凹凸, 空冷式, 水冷式, 溶封
出力

最大: 80 W

最少: 18 W

波長

最大: 1,064 nm

最少: 355 nm

詳細

Atlanticシリーズは、R&Dラボや産業環境での幅広い材料加工アプリケーション向けに設計された高出力産業用ピコ秒レーザーです。これらの水冷レーザーは高エネルギーと高出力を提供し、LCDやOLEDディスプレイの切断や穴あけ、レーザー誘起前方転送(LIFT)、ガラスやサファイアの加工、超硬材料のマイクロマシニング、金属のアブレーション、ポリマーの切断と穴あけ、シリコンのスクライブ、太陽電池のスクライブなどの要求の厳しい作業に適しています。

特徴
  • 1064 nmで:最大80 Wの出力、最大200 μJのパルスエネルギー
  • 532 nm(オプション)で:最大40 Wの出力、最大100 μJのパルスエネルギー
  • 355 nm(オプション)で:最大30 Wの出力、最大75 μJのパルスエネルギー
  • 最大1 MHzの繰り返し率
  • 短いパルス持続時間:10 ps
  • M² < 1.3
  • 多用途なレーザー制御と同期機能
  • ポリゴンスキャナーとPSOとの同期動作のためのスマートトリガー
  • 一体型、密封、頑丈な設計
  • 低所有コスト
  • ナノ秒パルス持続時間モード(オプション)

用途
  • 穴あけ
  • 切断
  • パターン化
  • 構造化
  • アブレーション
  • ダイシング
  • マイクロマシニング
  • LCD、OLEDの切断
  • レーザー誘起前方転送
  • サファイアの構造化とダイシング
  • セラミックスのマイクロマシニング
  • PCDの穴あけとトレース
  • シリコンのスクライブ
  • PET、PP、PTFE、シリコーンの切断と穴あけ

説明
Atlanticレーザーは、優れたビーム品質、最大利用可能な平均出力(80 W @ IR / 40 W @ VIS / 30 W @ UV)、最大利用可能なパルスエネルギー(200 μJ @ IR / 100 μJ @ VIS / 75 μJ @ UV)、および最大1 MHzのパルス繰り返し率を提供します。これらの特徴は、高い処理品質と高スループットに有益です。高度な電子機器は、外部ゲーティング(PSOを含む)、同期、正確なレーザートリガー、および瞬時の信号振幅制御を可能にします。レーザーは、密封された頑丈な一体型アルミニウムブロックに光学部品が取り付けられた、信頼性と長期安定動作のために設計されています。設計は、頑丈で低メンテナンスの操作、最適化されたレイアウト、PC制御の操作、組み込みの自己診断システム、および高度なステータスレポートを保証します。高出力UVレーザーアプリケーション向けに、UV光学系は長寿命と安定した動作のために最適化されており、UV光学系の寿命は8,000時間です。ユニークなオプション機能により、ピコ秒モードとナノ秒モードの両方での操作が可能になり、高精度と高スループットが低コストで必要とされる材料加工に2-in-1のソリューションを提供します。

特性 / 技術仕様
  • モデル:Atlantic 50、Atlantic 80
  • 中心波長:1064 nm(基本)、532 nm(2Hオプション)、355 nm(3Hオプション)
  • レーザーパルス繰り返し率:300–1000 kHz(Atlantic 50)、400–1000 kHz(Atlantic 80)
  • 最大平均出力:50 W(Atlantic 50、1064 nm)、80 W(Atlantic 80、1064 nm);532 nmで25 W / 40 W;355 nmで18 W / 30 W
  • 最低PRRでのパルスエネルギー:最大165 µJ / 200 µJ(1064 nm)、85 µJ / 100 µJ(532 nm)、60 µJ / 75 µJ(355 nm)
  • パルスコントラスト:>300:1(1064 nm)、>500:1(532 nm)、>1000:1(355 nm)
  • 8時間の長期安定性:<1.0%
  • パルスエネルギー安定性:<1.0%(1064 nm)、<2.0%(532 nm)、<2.5%(355 nm)
  • 1064 nmでのパルス持続時間(FWHM):10 ± 3 ps
  • 偏光:線形、垂直100:1
  • M²:<1.3
  • ビーム円形度、遠方場:>0.85
  • ビーム発散、全角度:<1.5 mRad
  • ビームポインティング安定性(pk-to-pk):<50 µRad
  • 50 cmでのビーム直径(1/e²):1.8 ± 0.3 mm(1064 nm)、1.8 ± 0.3 mm(532 nm、Atlantic 50)、2.2 ± 0.3 mm(532 nm、Atlantic 80)、1.8 ± 0.3 mm(355 nm、Atlantic 50)、2.0 ± 0.3 mm(355 nm、Atlantic 80)
  • トリガーモード:内部 / 外部
  • パルス出力制御:周波数分周器、パルスピッカー、瞬時振幅制御、出力減衰
  • 制御インターフェース:キーパッド / USB / RS232 / LAN
  • 冷却:水
  • レーザーヘッドサイズ(L×W×H):396 × 173 × 755 mm(単一出力1064 nm)、396 × 173 × 1000 mm(単一出力355 nm)、396 × 173 × 926 mm(3出力1064 / 532 / 355 nm)
  • 電源ユニットサイズ(L×W×H):553 × 1019 × 852 mm
  • アンビリカル長:4 m
  • 電源要件:100–240 V AC、単相47–63 Hz
  • 最大消費電力:<3.1 kW(Atlantic 50)、<3.5 kW(Atlantic 80)
  • 動作環境温度:18–27 °C
  • 相対湿度:10–80%(非結露)
  • 空気汚染レベル:ISO 9(室内空気)またはそれ以上
  • EN60825-1に基づく分類:クラス4レーザー製品

カタログ

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*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。