感光性樹脂 ArF

半導体用

ポジ型ドライおよび液浸回路パターン形成、ネガ型現像（NTI）用材料 ポジ型ドライおよび液浸回路パターン形成、ネガ型現像（NTI）など、193nm露光に対応した高解像度回路パターン形成システムの豊富なラインアップを有しております。 特長 高いスループット 優れた解像度 ウィンドウが広い 低欠陥レベル 垂直プロファイル 製品ラインアップ GARシリーズ GARシリーズの製品は、193nmのドライ露光を必要とするさまざまな用途に適しています。 PTI（ポジ型現像）用FAiRSシリーズ FAiRSシリーズの製品は、193nmの液浸露光とポジ型現像を必要とするさまざまな用途に適しています。 NTI（ネガ型現像）用FAiRSシリーズ FAiRSシリーズの製品は、193nmの液浸露光とネガ型現像を必要とするさまざまな用途に適しています。