製品紹介本装置は炭化ケイ素(SiC)ウェハのエッジ面取り(チャムファ処理)用に設計されています。4インチ、6インチ、8インチのウェハに対応し、OF面の加工に対応します。NOTCH溝加工はオプションで提供可能です。連続処理を可能にする2ステーション構成で、安定した運転を想定しています。
製品パラメータ(表)本体寸法・重量:2,250 (L) * 1,650 (W) * 2,600 (H) mm;3,000 kg
ウェハサイズ:4 / 6 / 8 インチ
ウェハ厚さ:300 μm〜1,500 μm
ワークステーション:二重ワークステーション
ウェハ基準面形状:OF / Notch(Notchはオプション)
装置寸法:2,250 (W) * 1,650 (D) * 2,600 (H) mm
研削 X/Y/Z 軸精度:±1 μm
セラミック吸盤面精度:≤3 μm
研削台主軸の端面・径方向精度:±1 μm
砥石軸の端面・径方向精度:±1 μm
砥石外径:Φ202 mm
砥石取付内径:Φ30 mm
砥石厚さ:20 mm
砥石回転数:0〜4,000 r/min(顧客仕様に応じて)
Notch砥石回転数:0〜100,000 r/min(顧客仕様に応じて)
砥石形状:T、R、TT、RR、TR 型 等
ウェハ厚さ測定(非接触式または接触式):反復精度 ±2 μm;測定点:中心
洗浄方式:回転洗浄
乾燥方式:遠心乾燥
ロード/アンロード部:ボックス数:4;スロット数:25(調整可能)
特長 / 技術仕様- 適用:炭化ケイ素ウェハの面取り、4/6/8インチ対応
- オプション機能:OF面加工、NOTCH溝加工(オプション)
- 連続ロード/アンロードに対応する二重ワークステーション構成
- 精度:X/Y/Z軸 ±1 μm、セラミック吸盤面精度 ≤3 μm
- 砥石仕様:外径Φ202 mm、取付内径Φ30 mm、厚さ20 mm
- 回転数設定範囲:砥石 0〜4,000 r/min、Notch砥石 最大100,000 r/min
- 厚さ測定:中心点、反復精度 ±2 μm
- 処理後の洗浄・乾燥:回転洗浄、遠心乾燥を採用
- ロード/アンロード:4ボックス、25スロット(調整可能)