3軸配置システム 782462:002.26

リニア半導体産業用ウェハー運搬用

最小限の施工スペースで歩留まり最大化 EUV露光機の小型化・自動化のための補完的な偏光フィルターとして開発された高精度位置決め装置です。約120×180×31mmという非常に限られたスペースで、既存のウェーハステッパーの露光品質と歩留まりを最大化します。EUVや乾燥・無酸素の純窒素雰囲気など、過酷な環境下での高解像度プロセスにも対応します。 過酷な環境下での精度を最適化 - EUV自動露光装置における小型化に最適 - 最小のスペース（約120×180×31mm）で、既存のウェーハステッパーシステムの歩留まりと解像度を最大化 - 最も過酷な環境条件下で、最大1.5 µmの精度を実現。EUV、ドライ、酸素フリー、純窒素雰囲気 - メンテナンスフリーで柔軟な24時間365日稼働、10年間で1,000回以上の位置決めサイクルに対応。 オプションで拡張可能 - さまざまな移動量 - 用途に合わせた材料選択と真空潤滑方式 - お客様固有のアプリケーションに統合するための個別のソリューション - クリーンルーム用バージョン ISO 14644-1（ご要望に応じてクラス1まで対応可能）