化学気相成長貯蔵マシン

LPCVD装置は、成熟かつ安定したプロセスを備え、TOPconセルの量産用装置として最も早く導入されたもののひとつです。 高い平均歩留まり、優れた膜均一性 当社独自の特許取得済み空気導入システムにより、流場の均一性と制御性が向上しています。 高い歩留まり 均一な空気の流れにより、均一な膜形成と高い歩留まりが実現します。 石英管の長い耐用年数： 革新的な石英管固定設計と低空気消費量により、石英管の耐用年数は6ヶ月です。 安定した温度ゾーン： 加熱フィラメントの合理的な配置により、一貫性と制御性が向上し、安定かつ制御しやすい温度ゾーンを実現しています。