自動レーザー 切除システム D632D

D632D ハーフカット太陽電池用UVアブレーションシステムは、主にハーフカットXBCセルのレーザーアブレーション工程向けに設計されています。 本システムは、紫外線および緑色ピコ秒レーザーを活用して、BSG/PSGおよびn-poly/a-Si:H膜上にパターンをアブレーションし、その後のウェットプロセスと組み合わせることで、裏面におけるp極・n極領域の分離を実現します。 P1 処理能力 ≥9600個/h@210*105 P2 処理能力 ≥7200個/h@210*105 位置合わせ精度 ≤10um 優れた精度と高い安定性を備えたパターン形成レーザー その優れた安定性、卓越した位置合わせ精度、熱影響領域の最小化、および高効率な除塵機能により、お客様から高い評価を得ています。 高い安定性 高度に安定化された指向性光学システム。 高い均一性 均一性の高い成形光スポット。DOEを交換することなく、スポットサイズの調整が可能です。 高速性 超高速ガルバノメーター走査システム。 高精度 高精度な位置決めおよびアライメント。 高効率な除塵 プロセスや部品への粉塵の影響を最小限に抑える高効率な除塵システム。