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... 実現します。 スマートな自動周波数調整 自動周波数調整は、最適なプロセス結果と高い再現性を保証します。 同期位相 マルチアンテナシステムでは、異なるジェネレーターを位相同期させて動作させ、パルスを発生させることができます。個々のジェネレーター間の位相コヒーレンスを変化させることにより、広範なプラズマの均一性を達成することができます。 堅牢な設計 ジェネレーターの機能を信頼することができ、ミスマッチが発生してもプロセス品質は損なわれません。 信頼性の高いプロセス制御 高精度のデジタル周波数変調 ...
TRUMPF Power electronics
... TruPlasma Bipolarシリーズ4000（G2.1）プロセス電源は、PVD、PECVD、反応性スパッタリングプロセスによるプラズマアシストコーティング用に特別に設計されました。フレキシブルに形成可能な出力信号と洗練されたアーク管理により、太陽電池や半導体の製造、装飾層や耐摩耗層の成膜、建築用ガラスのコーティングに優れた結果をもたらします。 極めて低いアークエネルギー 完全にデジタル化されたアーク管理により、最高のコーティング品質と生産性を実現します。 設定可能な波形 出力信号を変化させることで ...
TRUMPF Power electronics
... DCスパッタジェネレータの代替として、既存のマグネトロンシステムで変更なく使用することができます。高耐食性、耐摩耗性の硬質材料コーティングを提供するため、高出力インパルスマグネトロンスパッタリング用途の最初の選択肢となります。 完璧なコーティング結果 最大4メガワットの非の打ち所のないピークパワーは、高イオンフラックスで極端なプラズマ密度を生成します。 フレキシブルに使用可能 既存のカソードシステムやプロセス条件に簡単に適応できるため、最適な装置統合が可能です。 HiPIMSアプリケーションのファーストチョイス ...
TRUMPF Power electronics
... マルチレベルパルシング マルチレベルの柔軟なパルス形状制御により、最新のプラズマプロセスにおけるプロセス結果を改善します。 プラグ＆プレイ プロセスの変更やレトロフィットの際に、ジェネレーターの柔軟な使用と交換が可能。 安定したプラズマプロセス 特許取得済みのCombineLineテクノロジーは、50オームの真の出力インピーダンスにより、均一なプロセスパワーを保証します。 均一なジェネレーター技術 RF製品ファミリーの様々なパワークラスにより、あらゆるプロセス要件に対応できます。 ...
TRUMPF Power electronics
... 表面のコーティングや構造化の決め手となるのは、安定した再現性のあるプラズマ電流の供給です。TruPlasma RFシリーズ1000 / 3000 (G2/13)のRFジェネレーターは、最先端のパワーエレクトロニクスにより、このための最良の条件を提供します。安定した出力と高い制御精度は、高い生産性を維持しながら最高の結果を保証します。 高い精度と再現性 CombineLineテクノロジー：真の50Ω出力インピーダンスによる最適なプロセスパワー。 RFケーブルの長さに依存しない ケーブルの長さを調整 ...
TRUMPF Power electronics
... TruPlasma VHFシリーズ3000ジェネレーターは、革新的なプラットフォームコンセプトに基づいており、最高レベルの出力密度を実現し、最も厳しいプロセス要件に対応します。モジュール式の純水冷構造により、出力は最大80kWまで拡張可能です。このコンパクトなVHFジェネレーターは、コスト効率も高く、堅牢な設計となっています。 正確で高速な任意のパルス形状 現在のシングルレベルおよびマルチレベルパルシングに最適なプラズマプロセス制御を提供します。 最小ランプ時間 ...
TRUMPF Power electronics
... TruPlasma DCシリーズ4000（G2）は、重質材料の反応性DCスパッタリング用に特別に開発されました。パルス直流電流で動作するこのジェネレーターは、最高のコーティング品質と生産性の両方が要求される重要なPVDおよびPECVDプロセスにおいて、特に高い実績を誇っています。コンパクトなDCプロセス電源は、パルスモードとバイアスモードの両方で使用できます！ 高い成膜品質と生産性 デジタル信号処理により、安定したプロセスと最小限のアーク関連時間ロスを保証します。 重要なプロセスでも最高の結果を DCパルステクノロジーと組み合わせた高速アーク処理により、基材へのダメージを最小限に抑えます。 簡単なプロセス調整 広範な周波数スペクトルと調整可能な逆電圧による コンパクトで堅牢な設計 冷凍機一体型のため、省スペースでメンテナンス費用が削減できます。 ...
TRUMPF Power electronics
... TruPlasma Arcシリーズ3000製品ファミリーは、過酷な産業環境におけるアーク陰極プロセスの重要なコンポーネントです。このジェネレーターは、特に硬質材料や装飾コーティングに威力を発揮します。さらに、イオン注入や同様の要件を持つDCアプリケーションなど、多くの高出力アプリケーションのエネルギー源として選ばれています。 硬質材料コーティングに最適 最先端の分析手順とデジタルフィードバックにより、プロセス制御を改善。 アーク陰極プロセスに最適 複数のジェネレーターの並列接続による高い電流強度と出力 コンパクト設計 一体型空冷により、貴重なスペースを最適に利用できます。 将来への備え 多様なインターフェース（例：アナログ、ProfiBUS、RS232/485）によるシンプルなシステム統合。 ...
TRUMPF Power electronics
... TruPlasma RFシリーズ3000は、その堅牢な設計と高効率が特長です。これは、半導体、太陽電池、フラットスクリーンの製造に使用されるような、安定した再現性のあるプラズマプロセスに最適であることを意味します。世界中の何千ものアプリケーションに設置されているこれらの発電機は、高レベルの生産性と優れたプロセス結果を保証します。 効率と費用対効果 最大80%の効率により、エネルギーコストを最大50%削減できます。 優れたRFアーク管理 要求の厳しい新しいプロセスでも安全に操作できます。 極めて ...
TRUMPF Power electronics
... HüttingerのRFジェネレーターを理想的に補完します。そのインテリジェントなマッチングアルゴリズムとプロセス監視用のデジタル制御プラットフォームは、すべてのコンポーネントが最適に連動する包括的なソリューション、すなわちトルンプのRFシステムを提供します。 インテリジェントマッチングアルゴリズム クリティカルなプロセスにおいても、50オームまでのインピーダンスマッチングを高速、安定、かつ再現性よく行うことができます。 システム全体の最適な相互作用 進化したソフトウェアと、ジェネレーターとマッチボックス ...
TRUMPF Power electronics
... より小さなプラスチック部品、特に押出ラインのプラスチックプロファイル、射出成形部品、カップやチューブの処理に使用され、接着剤接合や印刷前に使用されます。 最大15m/分の治療速度に対応できます。 Arcojet ユニットは、アース付きカウンター電極を必要としない自由に放射する電極で構成されています。 発電機は高電圧アーク放電を生成し、これは電極から空気流を介して処理される表面に伝達される。 このようにして生成されたプラズマは、印刷インク、塗料、接着剤などが付着することができるように、プラスチック表面 ...
Arcotec
FG5001ジェネレーターは、プラズマトリート社のプラズマジェネレーター5000シリーズの基本となる装置です。この装置は、非常にコンパクトな設計を特徴としています。そのためカウンターの下に設置するなど、スペースを節約することができます。 このクラスの製品としては初めて、定圧電源を実現しました。このシリーズには、最新型IGBT半導体増幅装置が設置され、高精度のプラズマ出力調節・制御機能と最高レベルの性能を兼ね備えています。FG5001ジェネレーターは、オプションとして最大2個のプラズマノズルを用いて運転することができます ...
Plasmatreat
このプラズマジェネレーターでは、プラズマトリート社が開発したプロセス制御装置を用いて、Openair-Plasma®マジェネレーターの作動と運転状態のモニタリングとを同時に行うことができます。それにより、短い反応時間で非常に高速のプロセスを管理することが可能です。また、各種の内蔵センサーにより、プラズマジェットの不具合を直ちに検出することができます。 グラフィックモニターには、プラズマジェネレーター、プラズマノズル、メンテナンススケジュールに関する情報が判りやすく表示されます。 この極 ...
Plasmatreat
最高の性能を備えたプラズマジェネレーター FG5000シリーズは、最新の半導体技術と数多くのセンサーを組み合わせ、最高の使いやすさを実現しています。プラズマチャンバー内の圧力、電流、電圧、周波数を測定する一体型アナログモニターを使用し、プラズマからの発光分析を行うことによって、プロセス信頼性を最大限に高めています。 プラズマジェネレーターの制御を行うタッチスクリーンコントロールパネルには、使いやすく、判りやすい設計が施されています。このパネルには、シグナルチェーン機能付の高レベル・低レベル制御装置 ...
Plasmatreat
Plasmatreater AS400は、実験に最も適した条件を備えた製品です。このラボ用プラズマシステムは、プラズマクリーニング、プラズマ活性化、ナノコーティング（プラズマポリマーコーティング）のパラメータの決定に最も適したシステムです。 それぞれのプロセス要件とお使いになる材料特性にとって必要なすべてのプラズマパラメータが、再現可能であり、連続生産に近い状態で評価されます。処理速度やプラズマノズルと処理材との距離などの要素については、コンピュータを利用して測定し、記録します。 オプション ...
Plasmatreat
... eVerest™RFジェネレーターは、半導体産業が新たな転換期に向かって加速する中、変革的なプラズマ制御のニーズを満たします。設定可能なマルチレベルパルシングにより、瞬時またはユーザー定義のトランジションタイミングが可能です。さらに、広い周波数掃引範囲を持つ高速、高精度モデルベースの周波数チューニングにより、プロセスの安定性と制御性が向上します。これらの機能に加え、より高速なセットポイント応答、パルス状態開始時の制御されたオーバーシュート、および洗練されたPowerInsight ...
ADVANCED ENERGY
... 機能により、高度なプラズマプロセスに最適です。また、さまざまな通信モデルと設定可能な機能により、プラットフォームをカスタマイズし、統合アプローチを検討することができます。カスタムジェネレーターのリードタイムは不要です。 - 合理的な設計の高出力密度 - オンボードチャンバーマウント、オンツールフレームマウント、ラックマウント、シューボックスオプション - 広帯域制御ループ - ...
ADVANCED ENERGY
... 機能セットを備えたParamount® Plus プラットフォームは、プロセス革新の限界を押し広げることを可能にし、市場最高の価値を提供します。 市場で最高の価値を提供します。優れたプラズマ安定性 正確なRFレギュレーション、洗練されたパルス操作、そして高度な 高度なデータ収集により、次世代ノードに必要なプラズマ制御の自由度を提供します。 を提供します。 ユーザーメリット 精密なRFおよびパルス制御 プラズマの安定性とプロセスの再現性の向上 プラズマ変化への高速応答 製造技術の進歩に対応する柔軟性と ...
ADVANCED ENERGY
... アナログインターフェースやその他のオプションの通信インターフェースを装備しています。Paramount HFは、高アスペクト比デバイスに必要な高プラズマ密度とイオンエネルギーを可能にし、半導体プロセスツールの次のノードに向けたプロセスを高速化します。Paramountプラットフォームのデジタル・アーキテクチャは、正確なパワー・マネージメントを提供し、新機能の統合を合理化します。プラズマの変化をリアルタイムで検出することで、高出力と再現性の高い性能を実現します。また、内部保護リミットにより、信頼性の高い動作を実現します ...
ADVANCED ENERGY
最新世代のバイポーラパルスジェネレータ PVD、PECVD及び反応性スパッタリングプロセスによるプラズマコーティング専用に開発されたTruPlasma Bipolar 4000 (G2.1) シリーズのプロセス電力供給装置では、柔軟に構成可能な出力信号及び洗練されたアーク管理により、ソーラーセルや半導体の製造、装飾的で耐摩耗性の膜のコーティング、並びに建築用ガラスのコーティングの際に、極めて優れた結果が得られます。 最高のコーティング品質と生産性を実現する完全デジタル式のアーク管理 ...
TRUMPF lasers
最高レベルのプラズマ密度が得られ、極めて難度の高いプロセス要件に対応可能な高安定性・高出力ソリッドステートプラズマジェネレーター TruPlasma MWシリーズのジェネレーターはソリッドステート技術に基づいており、マグネトロンベースのマイクロ波増幅器よりも大幅に高い周波数精度が得られます。 革新的なプラットフォームコンセプトでは、最高レベルのプラズマ密度が得られるほか、極めて難度の高いプロセス要件にも効率的かつ経済的に対応可能です。 ...
TRUMPF lasers
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サ－ビス改善のご協力お願いします:
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